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1. 发明专利

TW200722552A 觸媒處理方法、無電解電鍍方法及使用無電解電鍍方法之電路形成方法审中-公开
简体标题：触媒处理方法、无电解电镀方法及使用无电解电镀方法之电路形成方法
公开(公告)号：TW200722552A
公开(公告)日：2007-06-16
申请号：TW095134045
申请日：2006-09-14
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD.
发明人：三森健一
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C18/30 , C23C18/1605 , C23C18/1696 , C23C18/1889 , C23C18/208 , C23C18/285 , C23C18/405 , H05K3/185 , H05K2203/0315 , H05K2203/1157
摘要：本發明之課題可以不使用鈀,藉由廉價且簡單之工程來形成使無電解電鍍方法成為可能的觸媒層。本發明之解決手段具有:使基材接觸包含錫化合物之錫化合物水溶液的錫處理工程;和在錫處理工程之後,使基材1接觸包含銅化合物之銅化合物水溶液的銅處理工程;和在銅處理工程之後,使基材1接觸稀硫酸的稀硫酸處理工程;和在稀硫酸處理工程之後,使基材1接觸銅電鍍液,而形成銅電鍍膜2的電鍍處理工程;和在電鍍處理工程之後,將基材1在實質上不含氧及氫之環境內,加以加熱的熱處理工程。
简体摘要：本发明之课题可以不使用钯,借由廉价且简单之工程来形成使无电解电镀方法成为可能的触媒层。本发明之解决手段具有:使基材接触包含锡化合物之锡化合物水溶液的锡处理工程;和在锡处理工程之后,使基材1接触包含铜化合物之铜化合物水溶液的铜处理工程;和在铜处理工程之后,使基材1接触稀硫酸的稀硫酸处理工程;和在稀硫酸处理工程之后,使基材1接触铜电镀液,而形成铜电镀膜2的电镀处理工程;和在电镀处理工程之后,将基材1在实质上不含氧及氢之环境内,加以加热的热处理工程。

2. 发明专利

TWI289333B 超音波振動裝置及使用其之溼處理裝置失效
简体标题：超音波振动设备及使用其之湿处理设备
公开(公告)号：TWI289333B
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW093117498
申请日：2004-06-17
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD.
发明人：芳賀宣明 , 三森健一
IPC分类号： H01L
摘要：本發明係因此提供一種超音波振動裝置1及使用其之濕處理裝置，能簡化製造工序，降低成本。該超音波振動裝置1，具有由1層或多層結構的振動板2及包含固接在振動板2上並產生超音波振動的振子3的振動部5；以上述振動板2的各層及振子3各自的上述超音波振動的前進方向的厚度與各自的上述超音波振動的波長的比(以下，稱為厚度/波長比)的和為1/2的整數倍的厚度來設定振動部5；以上述厚度/波長比為1/2的整數倍以外的厚度來設定振子3。濕處理裝置具有濕處理用噴嘴，該濕處理用噴嘴包括具有與被處理物件相對的相對面的濕處理本體部，該濕處理本體部具有超音波振動裝置1。
简体摘要：本发明系因此提供一种超音波振动设备1及使用其之湿处理设备，能简化制造工序，降低成本。该超音波振动设备1，具有由1层或多层结构的振动板2及包含固接在振动板2上并产生超音波振动的振子3的振动部5；以上述振动板2的各层及振子3各自的上述超音波振动的前进方向的厚度与各自的上述超音波振动的波长的比(以下，称为厚度/波长比)的和为1/2的整数倍的厚度来设置振动部5；以上述厚度/波长比为1/2的整数倍以外的厚度来设置振子3。湿处理设备具有湿处理用喷嘴，该湿处理用喷嘴包括具有与被处理对象相对的相对面的湿处理本体部，该湿处理本体部具有超音波振动设备1。

3. 发明专利

TW200425317A 溼式處理裝置失效
简体标题：湿式处理设备
公开(公告)号：TW200425317A
公开(公告)日：2004-11-16
申请号：TW093102629
申请日：2004-02-05
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD.
发明人：三森健一 , 芳賀宣明
IPC分类号： H01L
摘要：本發明係提供一種濕式處理裝置，其在裝置內部設置切換機構，可以在多個噴嘴間同時且瞬間地進行處理液的切換。本發明係採用一種濕式處理裝置1，其特徵為具有包含處理部11、將處理液導入的處理液導入部21、回收處理液的處理液回收部31的噴嘴1a，在處理液導入部21中，具有處理液流通路23、24、被連接在各處理液流通路23、24的下游側並且同時在相對面11a側具有開口部22的處理液流通配管25、被配置於處理液流通路23、24與處理液流通配管25之間且將選自處理液流通路23、24中的1個處理液流通路連接在處理液流通配管25上的切換機構26。
简体摘要：本发明系提供一种湿式处理设备，其在设备内部设置切换机构，可以在多个喷嘴间同时且瞬间地进行处理液的切换。本发明系采用一种湿式处理设备1，其特征为具有包含处理部11、将处理液导入的处理液导入部21、回收处理液的处理液回收部31的喷嘴1a，在处理液导入部21中，具有处理液流通路23、24、被连接在各处理液流通路23、24的下游侧并且同时在相对面11a侧具有开口部22的处理液流通配管25、被配置于处理液流通路23、24与处理液流通配管25之间且将选自处理液流通路23、24中的1个处理液流通路连接在处理液流通配管25上的切换机构26。

4. 发明专利

TW558761B 超音波振動件及濕式處理用噴嘴以及濕式處理裝置失效
简体标题：超音波振动件及湿式处理用喷嘴以及湿式处理设备
公开(公告)号：TW558761B
公开(公告)日：2003-10-21
申请号：TW090119390
申请日：2001-08-08
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司
发明人：三森健一 , 芳賀宣明 , 小野昭一
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67057 , B08B3/12 , B08B3/123 , G10K9/122 , G10K9/20 , H01L21/67051
摘要：提供一種可防止從超音波振動件本體附與至振動部之超音波振動從側壁逸散的超音波振動件。提供一種可提高來自振動部對於處理液之超音波振動之放射效率的濕式處理用噴嘴。
一種超音波振動件40，其特徵為具備：振動板46，及從振動板46之主面豎立的側板47，及設於該側板47內側之振動板46之主面上，而在振動板46附與超音波振動的超音波振動件本體48所構成；在振動板46，配置有超音波振動件本體48之領域周圍之至少一部分形成有薄壁49。一種濕式處理用噴嘴1，其特徵為：在一端具有用以導入處理液之導入口的導入管21，及在一端具有用以朝外部排出濕式處理後之排出液之排出口的排出管22，及連結導入管21與排出管2之各該另一端，而在對面於被處理物之連結部23。設置超音波振動件40。
简体摘要：提供一种可防止从超音波振动件本体附与至振动部之超音波振动从侧壁逸散的超音波振动件。提供一种可提高来自振动部对于处理液之超音波振动之放射效率的湿式处理用喷嘴。一种超音波振动件40，其特征为具备：振动板46，及从振动板46之主面竖立的侧板47，及设于该侧板47内侧之振动板46之主面上，而在振动板46附与超音波振动的超音波振动件本体48所构成；在振动板46，配置有超音波振动件本体48之领域周围之至少一部分形成有薄壁49。一种湿式处理用喷嘴1，其特征为：在一端具有用以导入处理液之导入口的导入管21，及在一端具有用以朝外部排出湿式处理后之排出液之排出口的排出管22，及链接导入管21与排出管2之各该另一端，而在对面于被处理物之链接部23。设置超音波振动件40。

5. 发明专利

TW506009B 濕式處理裝置失效
简体标题：湿式处理设备
公开(公告)号：TW506009B
公开(公告)日：2002-10-11
申请号：TW090119261
申请日：2001-08-07
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：三森健一 , 大見忠弘
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67086 , B08B3/041 , B08B3/123 , H01L21/67051 , H01L21/67057 , H01L21/6708
摘要：提供一種在適宜的條件下可使用之省液型噴嘴的濕式處理裝置。包括具有向著被處理基板W開口的大致長方形的導入開口面8a及向著上述被處理物開口的大致長方形的回收開口面9a，上述導入開口面和回收開口面相互在一個面上，而且與長邊方向平行地配置的噴嘴1。基板W相對於噴嘴1移動的同時，在導入開口面8a和基板W的被處理面間導入處理液，從回收開口面9a和基板W的被處理面間吸引處理液並進行回收。此時將從上述導入開口面8a經過基板W的被處理面流入到回收開口面9a的處理液U的流量係控制在導入開口面8a的長邊方向每1cm為0.02~0.3L/分鐘。
简体摘要：提供一种在适宜的条件下可使用之省液型喷嘴的湿式处理设备。包括具有向着被处理基板W开口的大致长方形的导入开口面8a及向着上述被处理物开口的大致长方形的回收开口面9a，上述导入开口面和回收开口面相互在一个面上，而且与长边方向平行地配置的喷嘴1。基板W相对于喷嘴1移动的同时，在导入开口面8a和基板W的被处理面间导入处理液，从回收开口面9a和基板W的被处理面间吸引处理液并进行回收。此时将从上述导入开口面8a经过基板W的被处理面流入到回收开口面9a的处理液U的流量系控制在导入开口面8a的长边方向每1cm为0.02~0.3L/分钟。

6. 发明专利

TW200424024A 蒸氣處理裝置审中-公开
简体标题：蒸气处理设备
公开(公告)号：TW200424024A
公开(公告)日：2004-11-16
申请号：TW093100689
申请日：2004-01-12
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD.
发明人：渡部弘也 , 三森健一 , 伊藤卓雄
IPC分类号： B08B
摘要：本發明係提供一種蒸汽處理裝置，能夠防止從被處理物除去的除去物再次附著在被處理物上，而且能夠減小排氣量和降低成本。本發明之蒸汽處理裝置，具有蒸汽處理部10，其包含向被處理物A噴射用於蒸汽處理的蒸汽G1的蒸汽噴嘴2、設在蒸汽噴嘴2附近並將供給蒸汽處理後的蒸汽G2的至少一部分排出到蒸汽處理系統外的排氣機構5、及冷卻蒸汽處理後的蒸汽G2的冷卻機構6，在被處理物A的表面和蒸汽處理部10之間的間隙中形成有可以使由冷卻機構6所冷卻而凝結的蒸汽的冷凝液L2通過的流路15。
简体摘要：本发明系提供一种蒸汽处理设备，能够防止从被处理物除去的除去物再次附着在被处理物上，而且能够减小排气量和降低成本。本发明之蒸汽处理设备，具有蒸汽处理部10，其包含向被处理物A喷射用于蒸汽处理的蒸汽G1的蒸汽喷嘴2、设在蒸汽喷嘴2附近并将供给蒸汽处理后的蒸汽G2的至少一部分排出到蒸汽处理系统外的排气机构5、及冷却蒸汽处理后的蒸汽G2的冷却机构6，在被处理物A的表面和蒸汽处理部10之间的间隙中形成有可以使由冷却机构6所冷却而凝结的蒸汽的冷凝液L2通过的流路15。

7. 发明专利

TW466624B 溶氣水製造裝置及溶氣水製造方法以及洗淨裝置失效
简体标题：溶气水制造设备及溶气水制造方法以及洗净设备
公开(公告)号：TW466624B
公开(公告)日：2001-12-01
申请号：TW089111515
申请日：2000-06-13
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司
发明人：芳賀宣明 , 三森健一 , 笠間泰彥
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B01F15/0237 , B01F3/04269 , B01F3/0446 , B01F3/04836 , B01F15/0201 , B01F15/024 , B01F15/0243 , B01F15/026 , B01F2003/0439 , B01F2003/04404 , B01F2003/04886 , B01F2003/04914 , B01F2003/04921 , B01F2201/01 , B01F2215/004 , B01F2215/0096 , B08B3/02 , B08B2203/0288 , Y10S261/42
摘要：（課題）：提供一種得以簡單的裝置構成而達到上昇時間短，可以削減氣體及溶媒之使用量之溶氣水製造裝置、及溶氣水之製造方法，以及使用它之洗淨裝置。
（解決手段）：本發明之臭氧水製造裝置１乃具備有：使臭氧氣體與純水接觸以資生成臭氧水之氣體溶解模組３，及來自臭氧氣體發生裝置２之臭氧氣體流通至氣體溶解模組３之氣體導入用配管４，及連結於氣體導入用配管４之中途，暫時的貯存臭氧氣體之後，朝向氣體導入用配管４排出之緩衝器５，及開啟、閉合氣體導入用配管４而切換對於氣體溶解模組３之氣體之導入。停止之第１閥６，以及用於防止從緩衝器５所排出之貯存氣體之逆流之逆止閥７。（選擇圖）第１圖。
简体摘要：（课题）：提供一种得以简单的设备构成而达到上升时间短，可以削减气体及溶媒之使用量之溶气水制造设备、及溶气水之制造方法，以及使用它之洗净设备。（解决手段）：本发明之臭氧水制造设备１乃具备有：使臭氧气体与纯水接触以资生成臭氧水之气体溶解模块３，及来自臭氧气体发生设备２之臭氧气体流通至气体溶解模块３之气体导入用配管４，及链接于气体导入用配管４之中途，暂时的贮存臭氧气体之后，朝向气体导入用配管４排出之缓冲器５，及打开、闭合气体导入用配管４而切换对于气体溶解模块３之气体之导入。停止之第１阀６，以及用于防止从缓冲器５所排出之贮存气体之逆流之逆止阀７。（选择图）第１图。

8. 发明专利

TW449821B 超音波洗淨機及具備該洗淨機之溼式處理噴嘴失效
简体标题：超音波洗净机及具备该洗净机之湿式处理喷嘴
公开(公告)号：TW449821B
公开(公告)日：2001-08-11
申请号：TW089104432
申请日：2000-03-10
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 , 海上股份有限公司
发明人：三森健一 , 笠間泰彥 , 芳賀宣明 , 小野昭一 , 副島潤一郎 , 高橋典久 , 藤江明雄 , 岩崎夫
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67057 , B08B3/12 , H01L21/67051
摘要：本發明係為提供容易調節超音波放射功率之超音波洗淨機及具備該洗淨機之溼式處理噴嘴。
其解決手段:包圍中央部凹入且呈突緣狀形成周圍的端部11b之第l筐體，相同地配置中央部凹入且呈突緣形狀形成周圍的端部12b之第2筐體12，且利用螺栓 l8及螺帽l9將襯墊13夾隔在兩筐體的端部間，而在第l筐體與第2筐體間形成空洞部14。進而在空洞部14填滿空熱防止用的經脫氣之水15，進而在第l筐體的中央部表面配置超音波振盪子16。然後在第2筐體的壁面12c，設置防止此壁面振動之加重體I7，利用加重體17抑制筐體壁面的振動，因而振動能量介由水15回到筐體中央的底面方向，從底面12c有效率地放射超音波。
简体摘要：本发明系为提供容易调节超音波放射功率之超音波洗净机及具备该洗净机之湿式处理喷嘴。其解决手段:包围中央部凹入且呈突缘状形成周围的端部11b之第l筐体，相同地配置中央部凹入且呈突缘形状形成周围的端部12b之第2筐体12，且利用螺栓 l8及螺帽l9将衬垫13夹隔在两筐体的端部间，而在第l筐体与第2筐体间形成空洞部14。进而在空洞部14填满空热防止用的经脱气之水15，进而在第l筐体的中央部表面配置超音波振荡子16。然后在第2筐体的壁面12c，设置防止此壁面振动之加重体I7，利用加重体17抑制筐体壁面的振动，因而振动能量介由水15回到筐体中央的底面方向，从底面12c有效率地放射超音波。

9. 发明专利

TWI249200B 溼式處理裝置失效
简体标题：湿式处理设备
公开(公告)号：TWI249200B
公开(公告)日：2006-02-11
申请号：TW093102629
申请日：2004-02-05
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD.
发明人：三森健一 , 芳賀宣明
IPC分类号： H01L
摘要：本發明係提供一種濕式處理裝置，其在裝置內部設置切換機構，可以在多個噴嘴間同時且瞬間地進行處理液的切換。
本發明係採用一種濕式處理裝置1，其特徵為具有包含處理部11、將處理液導入的處理液導入部21、回收處理液的處理液回收部31的噴嘴1a，在處理液導入部21中，具有處理液流通路23、24、被連接在各處理液流通路23、24的下游側並且同時在相對面11a側具有開口部22的處理液流通配管25、被配置於處理液流通路23、24與處理液流通配管25之間且將選自處理液流通路23、24中的1個處理液流通路連接在處理液流通配管25上的切換機構26。
简体摘要：本发明系提供一种湿式处理设备，其在设备内部设置切换机构，可以在多个喷嘴间同时且瞬间地进行处理液的切换。本发明系采用一种湿式处理设备1，其特征为具有包含处理部11、将处理液导入的处理液导入部21、回收处理液的处理液回收部31的喷嘴1a，在处理液导入部21中，具有处理液流通路23、24、被连接在各处理液流通路23、24的下游侧并且同时在相对面11a侧具有开口部22的处理液流通配管25、被配置于处理液流通路23、24与处理液流通配管25之间且将选自处理液流通路23、24中的1个处理液流通路连接在处理液流通配管25上的切换机构26。

10. 发明专利

TW200509238A 超音波振動裝置及使用其之溼處理裝置失效
简体标题：超音波振动设备及使用其之湿处理设备
公开(公告)号：TW200509238A
公开(公告)日：2005-03-01
申请号：TW093117498
申请日：2004-06-17
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD.
发明人：芳賀宣明 , 三森健一
IPC分类号： H01L
摘要：本發明係因此提供一種超音波振動裝置1及使用其之濕處理裝置，能簡化製造工序，降低成本。該超音波振動裝置1，具有由1層或多層結構的振動板2及包含固接在振動板2上並產生超音波振動的振子3的振動部5；以上述振動板2的各層及振子3各自的上述超音波振動的前進方向的厚度與各自的上述超音波振動的波長的比(以下，稱為厚度／波長比)的和為1／2的整數倍的厚度來設定振動部5；以上述厚度／波長比為1／2的整數倍以外的厚度來設定振子3。濕處理裝置具有濕處理用噴嘴，該濕處理用噴嘴包括具有與被處理物件相對的相對面的濕處理本體部，該濕處理本體部具有超音波振動裝置1。
简体摘要：本发明系因此提供一种超音波振动设备1及使用其之湿处理设备，能简化制造工序，降低成本。该超音波振动设备1，具有由1层或多层结构的振动板2及包含固接在振动板2上并产生超音波振动的振子3的振动部5；以上述振动板2的各层及振子3各自的上述超音波振动的前进方向的厚度与各自的上述超音波振动的波长的比(以下，称为厚度／波长比)的和为1／2的整数倍的厚度来设置振动部5；以上述厚度／波长比为1／2的整数倍以外的厚度来设置振子3。湿处理设备具有湿处理用喷嘴，该湿处理用喷嘴包括具有与被处理对象相对的相对面的湿处理本体部，该湿处理本体部具有超音波振动设备1。

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