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    • 3. 发明专利
    • 晶狀二矽酸鈉之製造方法
    • 晶状二硅酸钠之制造方法
    • TW259780B
    • 1995-10-11
    • TW081109744
    • 1992-12-04
    • 赫斯特化工廠
    • 亞歷山大.坦派剛特.史吉摩納特.包爾邁可.柯季恩
    • C01B
    • C01B33/38
    • 一種晶狀二矽酸鈉之製造方法其具有層狀結構,SiO2對Na2O之莫耳比為(1.9-2.1):1且含水量小於0.3重量%,其特徵為將砂與氫氧化鈉溶液以SiO2對Na2O之莫耳比為(2.0-2.3):1、溫度180至240℃及壓力10至30巴比以生成至少有20重量%固体的水玻璃溶液。將該水玻璃溶液於溫度200至300℃以熱空氣噴霧乾燥以生成含水量15-23重量%(由700℃之加熱減量測定),鬆密度大於300克/升的粉狀無定形二矽酸鈉,再將該噴霧乾燥所成的粉狀無定形二矽酸納加以研磨。將經研磨之二矽酸鈉導入配備有移除固体裝置的回轉窯中,該回轉窯係經由外壁作外部加熱且其內部有多數不同溫度區域者,於其內將該經研磨的二矽酸鈉於溫度400至800℃下處理1-60分鐘以生成晶狀二矽酸鈉。
    • 一种晶状二硅酸钠之制造方法其具有层状结构,SiO2对Na2O之莫耳比为(1.9-2.1):1且含水量小于0.3重量%,其特征为将砂与氢氧化钠溶液以SiO2对Na2O之莫耳比为(2.0-2.3):1、温度180至240℃及压力10至30巴比以生成至少有20重量%固体的水玻璃溶液。将该水玻璃溶液于温度200至300℃以热空气喷雾干燥以生成含水量15-23重量%(由700℃之加热减量测定),松密度大于300克/升的粉状无定形二硅酸钠,再将该喷雾干燥所成的粉状无定形二硅酸纳加以研磨。将经研磨之二硅酸钠导入配备有移除固体设备的回转窑中,该回转窑系经由外壁作外部加热且其内部有多数不同温度区域者,于其内将该经研磨的二硅酸钠于温度400至800℃下处理1-60分钟以生成晶状二硅酸钠。
    • 4. 发明专利
    • 聚磷酸銨之生產設備
    • 聚磷酸铵之生产设备
    • TW180192B
    • 1992-03-11
    • TW080101198
    • 1991-02-13
    • 赫斯特化工廠
    • 約登.格伯剛特.史吉摩湯瑪士.史塔夫賀司特.布賀
    • B01J
    • 在具有氣態氨之條件下,由正磷酸銨和磷酸酐生產鏈結式聚磷酸銨的一種設備包含在其內部具有可旋轉的混合,揉搓和擊碎之工具和固態原料之供給管路的反應器,氨的導入管,氣體排放管和反應生成物的排放管,所有的這些部份都被連接至反應器之內部而可供流體流入。反應器的排放管線也被連接以供材料流入一個混合裝置中。由反應器的驅動馬達之動力消耗所控制的一個排放裝置被安排於排放管線中。
    • 在具有气态氨之条件下,由正磷酸铵和磷酸酐生产链结式聚磷酸铵的一种设备包含在其内部具有可旋转的混合,揉搓和击碎之工具和固态原料之供给管路的反应器,氨的导入管,气体排放管和反应生成物的排放管,所有的这些部份都被连接至反应器之内部而可供流体流入。反应器的排放管线也被连接以供材料流入一个混合设备中。由反应器的驱动马达之动力消耗所控制的一个排放设备被安排于排放管线中。