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1. 发明专利

TWI499852B 供電致生色產品變色之裝置有权
简体标题：供电致生色产品变色之设备
公开(公告)号：TWI499852B
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW102117414
申请日：2013-05-16
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：莊道良 , CHUANG, TAO LIANG , 華振宇 , HUA, CHEN YU , 黃建龍 , HUANG, CHIEN LUNG , 高于迦 , GAO, YU JIA , 吳春甫 , WU, CHUEN FUU
IPC分类号： G02F1/15 , G09G3/19

2. 发明专利

TW201617175A 金屬線材細晶化加工裝置审中-公开
简体标题：金属线材细晶化加工设备
公开(公告)号：TW201617175A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW103138184
申请日：2014-11-04
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：黃懷諄 , HUANG, HUAI CHUN , 高于迦 , GAO, YU JIA , 莊道良 , CHUANG, TAO LIANG , 鍾育霖 , CHUNG, YU LIN , 王光國 , WANG, KUANG KUO
IPC分类号： B24C3/08 , B24C9/00
摘要：一種金屬線材細晶化加工裝置，係包含：一箱體，內部設有一球擊空間，該箱體設有一入線口及一出線口，該箱體另包含一震動件，該震動件結合於該箱體；數個球體，位於該球擊空間，該數個球體可以受該震動件之作動而於該球擊空間中自由移動；一第一滾輪，設於該球擊空間，該第一滾輪沿一第一旋轉方向旋轉；及一第二滾輪，設於該球擊空間，該第二滾輪沿一第二旋轉方向旋轉，該第二旋轉方向及該第一旋轉方向為反向。據此，該第一滾輪及該第二滾輪係可以作為金屬線材進行細晶化加工過程之支撐，以防止該金屬線材於細晶化加工過程發生晃動而影響細晶化加工效果。
简体摘要：一种金属线材细晶化加工设备，系包含：一箱体，内部设有一球击空间，该箱体设有一入线口及一出线口，该箱体另包含一震动件，该震动件结合于该箱体；数个球体，位于该球击空间，该数个球体可以受该震动件之作动而于该球击空间中自由移动；一第一滚轮，设于该球击空间，该第一滚轮沿一第一旋转方向旋转；及一第二滚轮，设于该球击空间，该第二滚轮沿一第二旋转方向旋转，该第二旋转方向及该第一旋转方向为反向。据此，该第一滚轮及该第二滚轮系可以作为金属线材进行细晶化加工过程之支撑，以防止该金属线材于细晶化加工过程发生晃动而影响细晶化加工效果。

3. 发明专利

TWI554633B 類鑽碳膜及其製作方法有权
简体标题：类钻碳膜及其制作方法
公开(公告)号：TWI554633B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW099143575
申请日：2010-12-13
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：黃家宏 , HUANG, CHIA HUNG , 林昭憲 , LIN, CHAO HSIEN , 吳政諺 , WU, CHENG YEN , 高于迦 , GAO, YU JIA
IPC分类号： C23C16/26 , C23C16/513

4. 发明专利

TWI472393B 放電加工模具表面清潔方法有权
简体标题：放电加工模具表面清洁方法
公开(公告)号：TWI472393B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：TW100147432
申请日：2011-12-20
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：高于迦 , GAO, YU JIA , 莊道良 , CHUANG, TAO LIANG , 黃建龍 , HUANG, CHIEN LUNG , 陸培雄 , LU, PEIR HSIUNG , 施國彰 , SHIH, KUO CHANG
IPC分类号： B23H7/00 , H05H1/00

5. 发明专利

TW201319285A 真空鍍膜系統之鍍膜方法及鍍膜裝置审中-公开
简体标题：真空镀膜系统之镀膜方法及镀膜设备
公开(公告)号：TW201319285A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW100141718
申请日：2011-11-15
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：吳政諺 , WU, CHENG YEN , 高于迦 , GAO, YU JIA , 莊道良 , CHUANG, TAO LIANG , 黃家宏 , HUANG, CHIA HUNG
IPC分类号： C23C14/34
摘要：一種真空鍍膜系統之鍍膜方法，其係包含提供一鍍膜裝置，該鍍膜裝置係包含一第一旋轉承載座、一第二旋轉承載座、一第一靶材及一第二靶材，該第一旋轉承載座係具有一第一轉速，該第二旋轉承載座係設置於該第一旋轉承載座且具有一第二轉速，該第一靶材係設置於該第一旋轉承載座且被該第一旋轉承載座帶動旋轉，該第一靶材係具有一第一容室，該第二靶材係設置於該第二旋轉承載座且位於該第一靶材之該第一容室，該第二靶材係被該第二旋轉承載座帶動旋轉；接著，提供一靶源系統，其係對該第一靶材施予一第一偏壓，該靶源系統係對該第二靶材施予一第二偏壓。本發明藉由該第一旋轉承載座以第一轉速帶動該第一靶材旋轉，該第二旋轉承載座以第二轉速帶動該第二靶材旋轉，能使靶材濺鍍之粒子均勻地附著於一待加工件上，有效提升該第一靶材及該第二靶材之鍍膜效率。
简体摘要：一种真空镀膜系统之镀膜方法，其系包含提供一镀膜设备，该镀膜设备系包含一第一旋转承载座、一第二旋转承载座、一第一靶材及一第二靶材，该第一旋转承载座系具有一第一转速，该第二旋转承载座系设置于该第一旋转承载座且具有一第二转速，该第一靶材系设置于该第一旋转承载座且被该第一旋转承载座带动旋转，该第一靶材系具有一第一容室，该第二靶材系设置于该第二旋转承载座且位于该第一靶材之该第一容室，该第二靶材系被该第二旋转承载座带动旋转；接着，提供一靶源系统，其系对该第一靶材施予一第一偏压，该靶源系统系对该第二靶材施予一第二偏压。本发明借由该第一旋转承载座以第一转速带动该第一靶材旋转，该第二旋转承载座以第二转速带动该第二靶材旋转，能使靶材溅镀之粒子均匀地附着于一待加工件上，有效提升该第一靶材及该第二靶材之镀膜效率。

6. 发明专利

TW201445232A 供電致生色產品變色之裝置审中-公开
简体标题：供电致生色产品变色之设备
公开(公告)号：TW201445232A
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：TW102117414
申请日：2013-05-16
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：莊道良 , CHUANG, TAO LIANG , 華振宇 , HUA, CHEN YU , 黃建龍 , HUANG, CHIEN LUNG , 高于迦 , GAO, YU JIA , 吳春甫 , WU, CHUEN FUU
IPC分类号： G02F1/15 , G09G3/19
摘要：一種方便使用者自行操作，以供電致生色產品能夠產生顏色變化之裝置，係包括：一主機體，具有一殼座，該殼座頂部凹設一容槽；一色變調控組件，具有一第一電極、一第二電極及一電流切換件，該第一電極設置於該容槽底部，該第二電極設置於該容槽周壁且不與該第一電極相接觸，該電流切換件電性連接該第一電極及該第二電極，並可用以切換該第一電極及該第二電極之極性；及一操作面板，與該色變調控組件電性連接，且該操作面板具有一切換單元，用以控制該電流切換件。
简体摘要：一种方便用户自行操作，以供电致生色产品能够产生颜色变化之设备，系包括：一主机体，具有一壳座，该壳座顶部凹设一容槽；一色变调控组件，具有一第一电极、一第二电极及一电流切换件，该第一电极设置于该容槽底部，该第二电极设置于该容槽周壁且不与该第一电极相接触，该电流切换件电性连接该第一电极及该第二电极，并可用以切换该第一电极及该第二电极之极性；及一操作皮肤，与该色变调控组件电性连接，且该操作皮肤具有一切换单元，用以控制该电流切换件。

7. 发明专利

TWI441935B 真空鍍膜系統之鍍膜方法及鍍膜裝置有权
简体标题：真空镀膜系统之镀膜方法及镀膜设备
公开(公告)号：TWI441935B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW100141718
申请日：2011-11-15
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：吳政諺 , WU, CHENG YEN , 高于迦 , GAO, YU JIA , 莊道良 , CHUANG, TAO LIANG , 黃家宏 , HUANG, CHIA HUNG
IPC分类号： C23C14/34

8. 发明专利

TW201325785A 放電加工模具表面清潔方法审中-公开
简体标题：放电加工模具表面清洁方法
公开(公告)号：TW201325785A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW100147432
申请日：2011-12-20
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：高于迦 , GAO, YU JIA , 莊道良 , CHUANG, TAO LIANG , 黃建龍 , HUANG, CHIEN LUNG , 陸培雄 , LU, PEIR HSIUNG , 施國彰 , SHIH, KUO CHANG
IPC分类号： B23H7/00 , H05H1/00
摘要：一種放電加工模具表面清潔方法，包含：一初步清潔步驟，以濕式清洗的方式清洗一待清潔的放電加工模具，並於清洗後將該放電加工模具乾燥；一雷射表面處理步驟，針對該放電加工模具表面之積碳或髒污處，以一雷射裝置進行雷射表面處理；及一大氣電漿處理步驟，以一大氣電漿清潔裝置清潔該放電加工模具之表面。
简体摘要：一种放电加工模具表面清洁方法，包含：一初步清洁步骤，以湿式清洗的方式清洗一待清洁的放电加工模具，并于清洗后将该放电加工模具干燥；一激光表面处理步骤，针对该放电加工模具表面之积碳或脏污处，以一激光设备进行激光表面处理；及一大气等离子处理步骤，以一大气等离子清洁设备清洁该放电加工模具之表面。

9. 发明专利

TW201426727A 具有抗沾黏膜層之樂器审中-公开
简体标题：具有抗沾黏膜层之乐器
公开(公告)号：TW201426727A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW101149576
申请日：2012-12-24
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：高于迦 , 莊道良 , 吳政諺 , 林昭憲 , 黃建龍
IPC分类号： G10B1/00 , G10D7/00 , C23C14/00
摘要：本發明係有關於一種具有抗沾黏膜層之樂器，其包含一樂器本體及一抗沾黏膜層，抗沾黏膜層設置於樂器本體。本發明之樂器具有抗沾黏膜層，使樂器容易清洗。當樂器於清洗時，清洗液體清洗殘留於樂器之唾液或其他髒汙，又因清洗液體不會附著於抗沾黏膜層，以清洗液體帶走含有唾液或其他髒汙，而清洗液體不會殘留於樂器內，以避免樂器產生鏽蝕。
简体摘要：本发明系有关于一种具有抗沾黏膜层之乐器，其包含一乐器本体及一抗沾黏膜层，抗沾黏膜层设置于乐器本体。本发明之乐器具有抗沾黏膜层，使乐器容易清洗。当乐器于清洗时，清洗液体清洗残留于乐器之唾液或其他脏污，又因清洗液体不会附着于抗沾黏膜层，以清洗液体带走含有唾液或其他脏污，而清洗液体不会残留于乐器内，以避免乐器产生锈蚀。

10. 发明专利

TW201121642A 應用於滾筒式設備之撥料機構审中-公开
简体标题：应用于滚筒式设备之拨料机构
公开(公告)号：TW201121642A
公开(公告)日：2011-07-01
申请号：TW098144514
申请日：2009-12-23
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：楊濟華 , 高于迦 , 莊道良
IPC分类号： B01F
摘要：一種應用於滾筒式設備之撥料機構，其可裝配於不同設備之滾筒內部，該撥料機構係於滾筒之內壁面環設有複數個撥料座，各撥料座係呈幾何形狀，並開設有複數個貫通前、後方且可呈不同角度之導槽，各導槽側方之塊體上則凹設或突起複數個呈幾何形狀之翻料部，於盛裝待加工物之滾筒轉動時，可使待加工物不斷碰觸各撥料座之導槽及翻料部，而連續翻轉不同角度，使得待加工物之各部位可均勻加工，並使流入於導槽內之待加工物依導槽路徑而分散撥料排出，以避免待加工物疊置；藉此，可利用各撥料座使待加工物於滾筒內作全面性之不同角度翻滾及分散撥料，而增加待加工物之加工均勻性，達到提升產品品質之實用效益。
简体摘要：一种应用于滚筒式设备之拨料机构，其可装配于不同设备之滚筒内部，该拨料机构系于滚筒之内壁面环设有复数个拨料座，各拨料座系呈几何形状，并开设有复数个贯通前、后方且可呈不同角度之导槽，各导槽侧方之块体上则凹设或突起复数个呈几何形状之翻料部，于盛装待加工物之滚筒转动时，可使待加工物不断碰触各拨料座之导槽及翻料部，而连续翻转不同角度，使得待加工物之各部位可均匀加工，并使流入于导槽内之待加工物依导槽路径而分散拨料排出，以避免待加工物叠置；借此，可利用各拨料座使待加工物于滚筒内作全面性之不同角度翻滚及分散拨料，而增加待加工物之加工均匀性，达到提升产品品质之实用效益。

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