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    • 3. 发明专利
    • 高分子與分散液
    • 高分子与分散液
    • TW201823283A
    • 2018-07-01
    • TW105142654
    • 2016-12-22
    • 財團法人工業技術研究院INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
    • 朱育麟CHU, YU LIN韓裕民HAN, YU MIN林志祥LIN, CHIH HSIANG
    • C08F271/02C08F293/00B01F17/00B01F17/34C09B67/46C09D153/00C09D11/326
    • 本揭露提供之高分子,具有下列嵌段:A-B,其中嵌段A 之結構為:,嵌段B之結構為: ,其中每一R1各自為H或甲基; R2為、、、、、或,每一R3各自為H、C1-4之烷基、C(O)OH、C(O)NHR6NR7R8、C(O)OR6NR7R8、或C(O)OR9;其中R6為C1-5之烷撐基;R7與R8各自為H或C1-9之烷基、C6-9芳基、或C7-9烷基芳香基;R9為具有一個以上羥基或酯基的C1-20的羥烷基或烷基酯;R4係C1-12之烷撐基、C6-12之芳撐基、或C7-12之烷撐基芳撐基;R5係H或C1-4之 烷基;Ar為、、、、或,其中X係H、鹵素、烷基、或芳基;o係1至30之整數,p係0至50之整數,q係0至50之整數,r係1至200之整數,s係1至200之整數,而t係1至50之整數。
    • 本揭露提供之高分子,具有下列嵌段:A-B,其中嵌段A 之结构为:,嵌段B之结构为: ,其中每一R1各自为H或甲基; R2为、、、、、或,每一R3各自为H、C1-4之烷基、C(O)OH、C(O)NHR6NR7R8、C(O)OR6NR7R8、或C(O)OR9;其中R6为C1-5之烷撑基;R7与R8各自为H或C1-9之烷基、C6-9芳基、或C7-9烷基芳香基;R9为具有一个以上羟基或酯基的C1-20的羟烷基或烷基酯;R4系C1-12之烷撑基、C6-12之芳撑基、或C7-12之烷撑基芳撑基;R5系H或C1-4之 烷基;Ar为、、、、或,其中X系H、卤素、烷基、或芳基;o系1至30之整数,p系0至50之整数,q系0至50之整数,r系1至200之整数,s系1至200之整数,而t系1至50之整数。