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1. 发明专利

TW201524901A 聚醯胺亞醯胺高分子、石墨膜及其製備方法审中-公开
简体标题：聚酰胺亚酰胺高分子、石墨膜及其制备方法
公开(公告)号：TW201524901A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW102146537
申请日：2013-12-17
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林振隆 , LIN, CHEN LUNG , 劉彥群 , LIU, YEN CHUN , 張惠雯 , CHANG, HUI WEN , 邱國展 , CHIOU, KUO CHAN , 胡憲霖 , HU, HSIEN LIN
IPC分类号： C01B31/04 , C08G73/14 , C10B57/02 , C09K5/14 , H05K7/20
CPC分类号： C01B31/04 , C01B32/20 , C08G73/1035 , C08G73/1042 , C08G73/1053 , C08G73/1067 , C08G73/1071 , C08G73/14 , C09D179/08
摘要：本揭露提供一種聚醯胺亞醯胺高分子，具有下列化學式(I)：化學式(I)中，X1包括或；X2包括或；以及m：n=8：2~6：4。
简体摘要：本揭露提供一种聚酰胺亚酰胺高分子，具有下列化学式(I)：化学式(I)中，X1包括或；X2包括或；以及m：n=8：2~6：4。

2. 发明专利

TWI471360B 感光型聚亞醯胺及負型光阻組成物有权
简体标题：感光型聚亚酰胺及负型光阻组成物
公开(公告)号：TWI471360B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW101150036
申请日：2012-12-26
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林振隆 , LIN, CHEN LUNG , 許富舜 , HSU, FU SHUN , 邱國展 , CHIOU, KUO CHAN
IPC分类号： C08G73/10 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0387 , G03F7/027 , G03F7/0388

3. 发明专利

TWI598294B 聚醯胺亞醯胺高分子、石墨膜及其製備方法有权
简体标题：聚酰胺亚酰胺高分子、石墨膜及其制备方法
公开(公告)号：TWI598294B
公开(公告)日：2017-09-11
申请号：TW102146537
申请日：2013-12-17
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林振隆 , LIN, CHEN LUNG , 劉彥群 , LIU, YEN CHUN , 張惠雯 , CHANG, HUI WEN , 邱國展 , CHIOU, KUO CHAN , 胡憲霖 , HU, HSIEN LIN
IPC分类号： C01B32/20 , C08G73/14 , C10B57/02 , C09K5/14 , H05K7/20
CPC分类号： C01B31/04 , C01B32/20 , C08G73/1035 , C08G73/1042 , C08G73/1053 , C08G73/1067 , C08G73/1071 , C08G73/14 , C09D179/08

4. 发明专利

TWI475103B 散熱結構有权
简体标题：散热结构
公开(公告)号：TWI475103B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW098142843
申请日：2009-12-15
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：邱國展 , CHIOU, KUO CHAN , 黃靖婷 , HUANG, CHING TING , 林振隆 , LIN, CHEN LUNG
IPC分类号： C09K5/14 , C08G59/50 , C08G18/58 , C08K3/00 , H05K7/20
CPC分类号： H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H01L2924/00

5. 发明专利

TWI465485B 含氧化石墨之樹脂配方、組成物及其複合材料與無機粉體的分散方法有权
简体标题：含氧化石墨之树脂配方、组成物及其复合材料与无机粉体的分散方法
公开(公告)号：TWI465485B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW100132813
申请日：2011-09-13
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：邱國展 , CHIOU, KUO CHAN , 廖如仕 , LIAO, LU SHIH , 林振隆 , LIN, CHEN LUNG
IPC分类号： C08G73/14 , C08K3/00 , C08K3/20 , B29C70/06 , B32B15/088
CPC分类号： B32B15/088 , B32B27/02 , C08G73/14 , C08K3/20 , C08L79/08 , C09D133/24 , H01G4/206 , Y10T428/12438 , Y10T428/2933

6. 发明专利

TWI457387B 絕緣導熱組成物與電子裝置有权
简体标题：绝缘导热组成物与电子设备
公开(公告)号：TWI457387B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW100107855
申请日：2011-03-09
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林振隆 , LIN, CHEN LUNG , 吳孟儒 , WU, MENG JU , 邱國展 , CHIOU, KUO CHAN
IPC分类号： C08L101/00 , C08K3/04 , C08K3/00 , G06F1/20 , H05K7/20
CPC分类号： C08K3/22 , C08K3/042 , C08L79/08 , C09K5/14 , C08L63/00

7. 发明专利

TW201425390A 感光型聚亞醯胺及負型光阻組成物审中-公开
简体标题：感光型聚亚酰胺及负型光阻组成物
公开(公告)号：TW201425390A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW101150036
申请日：2012-12-26
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林振隆 , LIN, CHEN LUNG , 許富舜 , HSU, FU SHUN , 邱國展 , CHIOU, KUO CHAN
IPC分类号： C08G73/10 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0387 , G03F7/027 , G03F7/0388
摘要：本揭示提供感光型聚亞醯胺及含有此感光型聚亞醯胺的負型光阻組成物，感光型聚亞醯胺如式(I)所示：，其中X1和X3為相同或不相同之具有四個共價鍵的有機官能基團；X2和X4為相同或不相同之具有雙共價鍵的有機官能基團，且X2含有OH或COOH官能基，以及下列任一官能基：以及，其中R為H或CH3，p、q為介於1至20的整數，式(I)中的m、n為重複單元的數目。
简体摘要：本揭示提供感光型聚亚酰胺及含有此感光型聚亚酰胺的负型光阻组成物，感光型聚亚酰胺如式(I)所示：，其中X1和X3为相同或不相同之具有四个共价键的有机官能基团；X2和X4为相同或不相同之具有双共价键的有机官能基团，且X2含有OH或COOH官能基，以及下列任一官能基：以及，其中R为H或CH3，p、q为介于1至20的整数，式(I)中的m、n为重复单元的数目。

8. 发明专利

TW201311767A 含氧化石墨之樹脂配方、組成物及其複合材料與無機粉體的分散方法审中-公开
简体标题：含氧化石墨之树脂配方、组成物及其复合材料与无机粉体的分散方法
公开(公告)号：TW201311767A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW100132813
申请日：2011-09-13
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：邱國展 , CHIOU, KUO CHAN , 廖如仕 , LIAO, LU SHIH , 林振隆 , LIN, CHEN LUNG
IPC分类号： C08G73/14 , C08K3/00 , C08K3/20 , B29C70/06 , B32B15/088
CPC分类号： B32B15/088 , B32B27/02 , C08G73/14 , C08K3/20 , C08L79/08 , C09D133/24 , H01G4/206 , Y10T428/12438 , Y10T428/2933
摘要：本發明提供一種含氧化石墨之樹脂配方，包括：15～80重量份之聚醯胺亞醯胺前驅物；0.01～10重量份之氧化石墨分散劑；10～400重量份之無機粉體；以及20～350重量份之溶劑。本發明尚提供一種由上述配方所形成之含氧化石墨之樹脂組成物、及其複合材料與無機粉體的分散方法。
简体摘要：本发明提供一种含氧化石墨之树脂配方，包括：15～80重量份之聚酰胺亚酰胺前驱物；0.01～10重量份之氧化石墨分散剂；10～400重量份之无机粉体；以及20～350重量份之溶剂。本发明尚提供一种由上述配方所形成之含氧化石墨之树脂组成物、及其复合材料与无机粉体的分散方法。

9. 发明专利

TW201120202A 散熱結構 HEAT SPREADER STRUCTURE 审中-公开
简体标题：散热结构 HEAT SPREADER STRUCTURE
公开(公告)号：TW201120202A
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：TW098142843
申请日：2009-12-15
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：邱國展 , 黃靖婷 , 林振隆
IPC分类号： C09K , C08G , C08K , H05K
CPC分类号： H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明提供一夾設於發熱裝置與散熱元件之間的熱介面材料組成物,其具有高耐熱塑性,係由環氧樹脂、二異氰酸酯、與胺類硬化劑反應而成之樹脂基材添加高導熱粉體混合而成。改變二異氰酸酯與環氧樹脂之比例可調整熱介面材料之自黏性及硬度。經高溫長時間反覆測試後,上述熱介面材料仍保有自黏性及柔軟度且不具高溫裂解的問題,可有效改善材料之填縫性能。在元件正常操作溫度下,熱塑性之材料特性可填平元件表面之孔洞、空隙及凹陷,進而提升整體結構之散熱性。
简体摘要：本发明提供一夹设于发热设备与散热组件之间的热界面材料组成物,其具有高耐热塑性,系由环氧树脂、二异氰酸酯、与胺类硬化剂反应而成之树脂基材添加高导热粉体混合而成。改变二异氰酸酯与环氧树脂之比例可调整热界面材料之自黏性及硬度。经高温长时间反复测试后,上述热界面材料仍保有自黏性及柔软度且不具高温裂解的问题,可有效改善材料之填缝性能。在组件正常操作温度下,热塑性之材料特性可填平组件表面之孔洞、空隙及凹陷,进而提升整体结构之散热性。

10. 发明专利

TWI332580B 低雙折射率之透明基板 TRANSPARENT SUBSTRATE WITH LOW BIREFRINGENCE 有权
简体标题：低双折射率之透明基板 TRANSPARENT SUBSTRATE WITH LOW BIREFRINGENCE
公开(公告)号：TWI332580B
公开(公告)日：2010-11-01
申请号：TW096117000
申请日：2007-05-14
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：林振隆 , 呂奇明 , 張含章
IPC分类号： G02B , B32B , C08L
CPC分类号： G02F1/133305 , C08G73/1064 , Y10T428/1036 , Y10T428/1086 , Y10T428/31721
摘要：本發明係有關於一種低雙折射率之透明基板，其係由聚亞醯胺所組成，具有小於0.005之雙折射率，該聚亞醯胺的結構如式(I)所示：其中每一重複單位中的A為相同或不同之芳基或脂族基，且其中至少其一含有磺醯官能基(sulfonyl)的芳基或脂族基；每一重複單位中的B為相同或不同之芳基或環脂族基；n為大於1之整數。
简体摘要：本发明系有关于一种低双折射率之透明基板，其系由聚亚酰胺所组成，具有小于0.005之双折射率，该聚亚酰胺的结构如式(I)所示：其中每一重复单位中的A为相同或不同之芳基或脂族基，且其中至少其一含有磺酰官能基(sulfonyl)的芳基或脂族基；每一重复单位中的B为相同或不同之芳基或环脂族基；n为大于1之整数。

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