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    • 1. 发明专利
    • 雷射投影機
    • 激光投影机
    • TW541834B
    • 2003-07-11
    • TW090128412
    • 2001-11-16
    • 財團法人工業技術研究院
    • 呂英宗林晃巖曲昌盛陳勇星
    • H04NG03B
    • 本創作為一種雷射投影機,其中揭露了一種使用雷射光束作為投射光源的投影機,包括有雷射光束產生器、光束整形器、繞射式合光元件、反射鏡、鏡組、繞射式分光元件及液晶面板;於雷射光束產生器分別產生紅、綠、藍三原色光束後,使光束通過光束整形器,以轉換光束的分佈強度,並由繞射武合光元件使光束成為於同一光軸傳播之合光光束後,由反射鏡消除其光斑,且以鏡組擴束至繞射式分光元件,並還原成紅、綠、藍三原色光束,再聚光於液晶面板,如此即可達到體積小、重量輕及成本低之目的。
    • 本创作为一种激光投影机,其中揭露了一种使用激光光束作为投射光源的投影机,包括有激光光束产生器、光束整形器、绕射式合光组件、反射镜、镜组、绕射式分光组件及液晶皮肤;于激光光束产生器分别产生红、绿、蓝三原色光束后,使光束通过光束整形器,以转换光束的分布强度,并由绕射武合光组件使光束成为于同一光轴传播之合光光束后,由反射镜消除其光斑,且以镜组扩束至绕射式分光组件,并还原成红、绿、蓝三原色光束,再聚光于液晶皮肤,如此即可达到体积小、重量轻及成本低之目的。
    • 2. 发明专利
    • 製作機械壓印式數位全像片之裝置及其方法
    • 制作机械压印式数码全像片之设备及其方法
    • TW239210B
    • 1995-01-21
    • TW083100803
    • 1994-01-28
    • 財團法人工業技術研究院
    • 田萬頂呂英宗林尚毅徐敏益陳文挺
    • G11B
    • 一種製作數位式全像片母模之裝置,其可連續將一光柵圖素壓印在一熱塑性材料上之各適當位置,其包括:
      一X一Y平移台,該平移台可在二事先設定之X及Y方向上平移,而該熱塑性材料係放置於該平移台上;以及
      一壓印模組,該壓印模組包括一旋可轉支座;一壓力裝置,該壓力裝置與該可旋轉支座固接,係提供壓印之力量;
      一加熱裝置,該加熱裝置係固接於該壓力裝置上,提供壓印所需之溫度;至少一模具支撐棒,該模具支撐棒係固接於該加熱裝置上;以及至少一模具,該模具固接於該模具支撐棒上,且含有該光柵圖素以及一種製作數位式全像片母模之方法。
    • 一种制作数码式全像片母模之设备,其可连续将一光栅图素压印在一热塑性材料上之各适当位置,其包括: 一X一Y平移台,该平移台可在二事先设置之X及Y方向上平移,而该热塑性材料系放置于该平移台上;以及 一压印模块,该压印模块包括一旋可转支座;一压力设备,该压力设备与该可旋转支座固接,系提供压印之力量; 一加热设备,该加热设备系固接于该压力设备上,提供压印所需之温度;至少一模具支撑棒,该模具支撑棒系固接于该加热设备上;以及至少一模具,该模具固接于该模具支撑棒上,且含有该光栅图素以及一种制作数码式全像片母模之方法。
    • 3. 发明专利
    • 全彩複合式彩虹全像片拍攝方法及其裝置
    • 全彩复合式彩虹全像片拍摄方法及其设备
    • TW229283B
    • 1994-09-01
    • TW083102852
    • 1994-03-28
    • 財團法人工業技術研究院
    • 田萬頂呂英宗林尚毅徐敏益陳文挺
    • G03B
    • 一種全彩複合式彩虹全像片拍攝方法,其係用以拍攝物體,其包括下列步驟:(1)利用濾光處理,分別拍攝上述物體在相同姿態下之紅、綠、藍三種影像;(2)重複步驟(1),但拍攝上述物體不同之姿態,直到拍攝完畢上述物體經設計之所有姿態,並製作出紅、綠、藍三種版本之膠捲;(3)利用上述膠捲在一底片上產生干涉條紋,使得該底片上分別記錄有紅、綠、藍三條影像畫面;(4)將該底片影像後產生一彩虹全像片母片;以及(5)利用上述彩虹全像片母片,以一次曝光之方式,在另一底片上產生干涉條紋。以及一種拍攝彩虹全像片母片之裝置。
    • 一种全彩复合式彩虹全像片拍摄方法,其系用以拍摄物体,其包括下列步骤:(1)利用滤光处理,分别拍摄上述物体在相同姿态下之红、绿、蓝三种影像;(2)重复步骤(1),但拍摄上述物体不同之姿态,直到拍摄完毕上述物体经设计之所有姿态,并制作出红、绿、蓝三种版本之胶卷;(3)利用上述胶卷在一底片上产生干涉条纹,使得该底片上分别记录有红、绿、蓝三条影像画面;(4)将该底片影像后产生一彩虹全像片母片;以及(5)利用上述彩虹全像片母片,以一次曝光之方式,在另一底片上产生干涉条纹。以及一种拍摄彩虹全像片母片之设备。
    • 5. 发明专利
    • 以全像干涉法製作的投影銀幕及其製作方法
    • 以全像干涉法制作的投影银幕及其制作方法
    • TW321736B
    • 1997-12-01
    • TW085110978
    • 1996-09-06
    • 財團法人工業技術研究院
    • 田萬頂呂英宗林晃巖
    • G03HG03B
    • 一種以全像干涉法製作的投影銀幕及其製作方法,該投影銀幕係由細小的橢圓狀凹凸結構所組成,藉該結構以控制投影影像散射的方向。其製成方法包括下列步驟:(1)首先使雷射光通過一快門,藉以利用快門控制曝光時間,以得到適當的曝光量;(2)再利用一第一柱狀透鏡及一第二柱狀鏡水平及垂直地設置於雷射光的路徑上,藉由對雷射光作垂直方向及水平方向的擴展,並可縮短曝光時間;(3)使擴展成一橢圓狀的雷射光穿過一覆蓋有長方形光罩的玻璃後,藉以形成複數個微細橢圓形之干涉光點,並用以使位於毛玻璃後方的一感光底片曝光;(4)將曝光完成的底片顯影,藉以在底片上面形成複數個高低起伏的微細橢圓顆粒;(5)將此底片電鑄成一金屬版,然後架在滾筒上以滾壓於一鍍有金屬薄膜的塑膠材料上,即可完成本發明之投影銀幕。
    • 一种以全像干涉法制作的投影银幕及其制作方法,该投影银幕系由细小的椭圆状凹凸结构所组成,藉该结构以控制投影影像散射的方向。其制成方法包括下列步骤:(1)首先使激光光通过一快门,借以利用快门控制曝光时间,以得到适当的曝光量;(2)再利用一第一柱状透镜及一第二柱状镜水平及垂直地设置于激光光的路径上,借由对激光光作垂直方向及水平方向的扩展,并可缩短曝光时间;(3)使扩展成一椭圆状的激光光穿过一覆盖有长方形光罩的玻璃后,借以形成复数个微细椭圆形之干涉光点,并用以使位于毛玻璃后方的一感光底片曝光;(4)将曝光完成的底片显影,借以在底片上面形成复数个高低起伏的微细椭圆颗粒;(5)将此底片电铸成一金属版,然后架在滚筒上以滚压于一镀有金属薄膜的塑胶材料上,即可完成本发明之投影银幕。
    • 6. 发明专利
    • 可調解析度之光柵干涉裝置
    • 可调分辨率之光栅干涉设备
    • TW538258B
    • 2003-06-21
    • TW091115816
    • 2002-07-16
    • 財團法人工業技術研究院
    • 呂英宗伍清欽
    • G02B
    • G02B6/124G02B6/02133
    • 一種可調解析度之光柵干涉裝置,係具有高穩定度以及精密調整之功能;本發明係利用兩反射鏡配合分光器,並將其中一個反射鏡與承載光纖或是平面光波導之固定平台共同裝設於一轉軸上,藉由轉軸,使此反射鏡與固定平台可維持固定角度相對另一反射鏡以及分光器轉動,利用此轉動的角度改變,來控制干涉光柵之週期,而可於光纖或是平面光波導上產生次微米級週期的光柵。
    • 一种可调分辨率之光栅干涉设备,系具有高稳定度以及精密调整之功能;本发明系利用两反射镜配合分光器,并将其中一个反射镜与承载光纤或是平面光波导之固定平台共同装设于一转轴上,借由转轴,使此反射镜与固定平台可维持固定角度相对另一反射镜以及分光器转动,利用此转动的角度改变,来控制干涉光栅之周期,而可于光纤或是平面光波导上产生次微米级周期的光栅。
    • 7. 发明专利
    • 平面波導型繞線射式分光/藕光器
    • 平面波导型绕线射式分光/藕光器
    • TW499581B
    • 2002-08-21
    • TW090115893
    • 2001-06-29
    • 財團法人工業技術研究院
    • 林耕華呂英宗曲昌盛
    • G02B
    • G02B6/124G02B6/12007G02B6/29328G02B6/29329
    • 本發明係為一種平面波導型繞射式分光/耦光器(Planar waveguide diffractive 1×N Beamsplitter / Beam coupler),係為一種運用IC製程技術製成的一種積體光學元件(integrated optics);本發明主要是利用設計在平面光波導(Planar Lightwave Circuit; PLC)之一端的富立葉轉換繞射元件(Fourier transform DOE),使得自平面光波導之另一端進入的輸入光束產生繞射後分為 N束的輸出光束,而在反向操作時,則可以將N束的輸入光束耦合為單一輸出光束,結合IC製程技術將可具有低成本,以及適合大量生產的優點。
    • 本发明系为一种平面波导型绕射式分光/耦光器(Planar waveguide diffractive 1×N Beamsplitter / Beam coupler),系为一种运用IC制程技术制成的一种积体光学组件(integrated optics);本发明主要是利用设计在平面光波导(Planar Lightwave Circuit; PLC)之一端的富立叶转换绕射组件(Fourier transform DOE),使得自平面光波导之另一端进入的输入光束产生绕射后分为 N束的输出光束,而在反向操作时,则可以将N束的输入光束耦合为单一输出光束,结合IC制程技术将可具有低成本,以及适合大量生产的优点。
    • 8. 发明专利
    • 平面光板導型多頻道波長多工器
    • 平面光板导型多频道波长多任务器
    • TW486580B
    • 2002-05-11
    • TW090113769
    • 2001-06-07
    • 財團法人工業技術研究院
    • 呂英宗林耕華伍清欽
    • G02B
    • G02B6/29326G02B6/12007G02B6/124G02B6/2713G02B6/2773G02B6/29328G02B6/2938G02B6/29398G02B6/34
    • 本發明係為一種平面光波導型多頻道波長多工器,係為一種運用平面光波導製程技術製成的一種積體化的多頻道波長多工器(Dense Wavelength Division Multiplexing;DWDM);本發明主要是在平面光路中設計一繞射光柵,利用繞射原理將輸入光束之中的不同波長光束繞射至不同的方位,再經由一設於平面光路之輸出端處的光波導陣列將前述不同波長的光束耦合至連接在輸出端的光纖,達到分波之目的。另一方面本發明的較佳實施例,更在介於繞射光柵與光波導陣列之間的平面光路設計有一透鏡陣列,可以在繞射光柵因為熱變形而造成繞射光束偏移時,將偏移的繞射光束修正並且導入光波導陣列,以提供備熱變形修正的功能。
    • 本发明系为一种平面光波导型多频道波长多任务器,系为一种运用平面光波导制程技术制成的一种积体化的多频道波长多任务器(Dense Wavelength Division Multiplexing;DWDM);本发明主要是在平面光路中设计一绕射光栅,利用绕射原理将输入光束之中的不同波长光束绕射至不同的方位,再经由一设于平面光路之输出端处的光波导数组将前述不同波长的光束耦合至连接在输出端的光纤,达到分波之目的。另一方面本发明的较佳实施例,更在介于绕射光栅与光波导数组之间的平面光路设计有一透镜数组,可以在绕射光栅因为热变形而造成绕射光束偏移时,将偏移的绕射光束修正并且导入光波导数组,以提供备热变形修正的功能。
    • 10. 发明专利
    • 點矩陣全像片製版系統
    • 点矩阵全像片制版系统
    • TW321737B
    • 1997-12-01
    • TW086107112
    • 1997-05-26
    • 財團法人工業技術研究院
    • 呂英宗黃白萍
    • G03H
    • 一種點矩陣全像片製版系統,可用以製作較高晝質之點矩陣全像片,同時可精簡光學系統之架構,並可降低系統之成本,其包括:一雷射光源裝置,用以提供形成干涉條紋所需之雷射光束,此雷射光束經分光干涉後,會形成干涉光點;一干涉光點調整模組,用以控制前述雷射光束的截面直徑,藉以調整所形成之干涉光點的大小;一干涉方向旋轉模組,用以改變前述干涉光點中之干涉條紋的方向;一雙軸平移台,其上可放置用以做為點矩陣全像片之記錄基板,並可調整前述記錄基板在平面上的位置;一快門,用以控制自前述雷射光源裝置射出的雷射光通過該快門的時間,藉以控制前述記錄基板的曝光量;一電腦,根據預先設計的圖案資料,控制前述快門的開關,使預定光量的雷射光束通過該快門,然後控制前述干涉光點調整模組,以改變雷射光束的截面直徑,此雷射光束在前述干涉方向旋轉模組中被分光並干涉,而在前述記錄基板上形成一干涉光點, 前述電腦會同時控制前述干涉方向 旋轉模組,以調整干涉光點中之干涉條紋的方向,並控制前述雙軸平移台,藉以在記錄基板的不同位置上進行干涉光點的曝光以完成前述預先設計的圖案。
    • 一种点矩阵全像片制版系统,可用以制作较高昼质之点矩阵全像片,同时可精简光学系统之架构,并可降低系统之成本,其包括:一激光光源设备,用以提供形成干涉条纹所需之激光光束,此激光光束经分光干涉后,会形成干涉光点;一干涉光点调整模块,用以控制前述激光光束的截面直径,借以调整所形成之干涉光点的大小;一干涉方向旋转模块,用以改变前述干涉光点中之干涉条纹的方向;一双轴平移台,其上可放置用以做为点矩阵全像片之记录基板,并可调整前述记录基板在平面上的位置;一快门,用以控制自前述激光光源设备射出的激光光通过该快门的时间,借以控制前述记录基板的曝光量;一电脑,根据预先设计的图案数据,控制前述快门的开关,使预定光量的激光光束通过该快门,然后控制前述干涉光点调整模块,以改变激光光束的截面直径,此激光光束在前述干涉方向旋转模块中被分光并干涉,而在前述记录基板上形成一干涉光点, 前述电脑会同时控制前述干涉方向 旋转模块,以调整干涉光点中之干涉条纹的方向,并控制前述双轴平移台,借以在记录基板的不同位置上进行干涉光点的曝光以完成前述预先设计的图案。