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1. 发明专利

TWI370758B 拋光墊之製造方法 METHOD FOR MAKING POLISHING PAD 有权
简体标题：抛光垫之制造方法 METHOD FOR MAKING POLISHING PAD
公开(公告)号：TWI370758B
公开(公告)日：2012-08-21
申请号：TW097148792
申请日：2008-12-15
申请人：貝達先進材料股份有限公司
发明人：馮崇智 , 姚伊蓬 , 洪永璋 , 王俊達 , 劉瑋得
IPC分类号： B24B , B24D
CPC分类号： B24B37/22
摘要：本發明係關於一種具有阻絕層之拋光墊及其製造方法，該拋光墊包括一底材、一阻絕層及一研磨層。該底材係以一高分子體包覆一纖維層而成。該阻絕層係位於該底材上。該研磨層係位於該阻絕層上，該研磨層係一高分子彈性體且具有複數個長柱狀孔隙。藉此，該阻絕層可防止研磨液在拋光過程中滲透到底材，以提高拋光研磨效果及品質。
简体摘要：本发明系关于一种具有阻绝层之抛光垫及其制造方法，该抛光垫包括一底材、一阻绝层及一研磨层。该底材系以一高分子体包覆一纤维层而成。该阻绝层系位于该底材上。该研磨层系位于该阻绝层上，该研磨层系一高分子弹性体且具有复数个长柱状孔隙。借此，该阻绝层可防止研磨液在抛光过程中渗透到底材，以提高抛光研磨效果及品质。

2. 发明专利

TWI465315B 可導電之拋光墊及其製造方法有权
简体标题：可导电之抛光垫及其制造方法
公开(公告)号：TWI465315B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW097143727
申请日：2008-11-12
申请人：貝達先進材料股份有限公司 , BESTAC ADVANCED MATERIAL CO., LTD.
发明人：馮崇智 , FENG, CHUNG CHIH , 姚伊蓬 , YAO, I PENG , 洪永璋 , HUNG, YUNG CHANG , 王俊達 , WANG, CHUN TA
IPC分类号： B24B37/24 , C08J5/14
CPC分类号： B24B37/22 , B23H5/08 , B24B37/24 , B32B3/266 , B32B5/022 , B32B27/08 , B32B27/12 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B27/40 , B32B2255/26 , B32B2307/7265 , B32B2307/728 , D06M15/227 , D06M15/263 , D06M15/507 , D06M15/564 , D06N3/042 , D06N3/045 , D06N3/123 , D06N3/14 , D06N2209/041 , D06N2209/105 , D06N2209/141 , D06N2213/04 , D06P1/5221 , D06P1/5271 , D06P1/5285 , Y10T428/249981

3. 发明专利

TW201021968A 具有阻絕層之拋光墊及其製造方法 POLISHING PAD HAVING INSULATION LAYER AND METHOD FOR MAKING THE SAME 审中-公开
简体标题：具有阻绝层之抛光垫及其制造方法 POLISHING PAD HAVING INSULATION LAYER AND METHOD FOR MAKING THE SAME
公开(公告)号：TW201021968A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：TW097148792
申请日：2008-12-15
申请人：貝達先進材料股份有限公司
发明人：馮崇智 , 姚伊蓬 , 洪永璋 , 王俊達 , 劉瑋得
IPC分类号： B24B , B24D , H01L
CPC分类号： B24B37/22
摘要：本發明係關於一種具有阻絕層之拋光墊及其製造方法，該拋光墊包括一底材、一阻絕層及一研磨層。該底材係以一高分子體包覆一纖維層而成。該阻絕層係位於該底材上。該研磨層係位於該阻絕層上，該研磨層係一高分子彈性體且具有複數個長柱狀孔隙。藉此，該阻絕層可防止研磨液在拋光過程中滲透到底材，以提高拋光研磨效果及品質。
简体摘要：本发明系关于一种具有阻绝层之抛光垫及其制造方法，该抛光垫包括一底材、一阻绝层及一研磨层。该底材系以一高分子体包覆一纤维层而成。该阻绝层系位于该底材上。该研磨层系位于该阻绝层上，该研磨层系一高分子弹性体且具有复数个长柱状孔隙。借此，该阻绝层可防止研磨液在抛光过程中渗透到底材，以提高抛光研磨效果及品质。

4. 发明专利

TWI360459B 具防研磨面脫落之溝槽結構之研磨墊 A POLISHING PAD HAVING GROOVE STRUCTURE FOR AVOIDING THE POLISHING SURFACE STRIPPING 有权
简体标题：具防研磨面脱落之沟槽结构之研磨垫 A POLISHING PAD HAVING GROOVE STRUCTURE FOR AVOIDING THE POLISHING SURFACE STRIPPING
公开(公告)号：TWI360459B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：TW097113293
申请日：2008-04-11
申请人：貝達先進材料股份有限公司
发明人：馮崇智 , 劉瑋得 , 洪永璋 , 王俊達 , 姚伊蓬
IPC分类号： B24B , B24D
CPC分类号： B24B37/26
摘要：本發明係關於一種具防研磨面脫落之溝槽結構之研磨墊，其包括：一基材及一研磨層。該基材具有一表面。該研磨層設置於該表面且顯露該基材周緣之部分該表面，該研磨層具有複數個第一溝槽及複數個第二溝槽，該等第一溝槽與該等第二溝槽相交，以界定複數個研磨區域。顯露之該基材周緣之部分該表面係位於該等第一溝槽及該等第二溝槽與該研磨墊周緣之間。藉此，本發明之該研磨墊可蘊含較多之研磨液且利於研磨殘屑之排除，並且，該研磨層不具有尖角之結構且不易脫落而成為殘屑，故可增加研磨品質及研磨效果。
简体摘要：本发明系关于一种具防研磨面脱落之沟槽结构之研磨垫，其包括：一基材及一研磨层。该基材具有一表面。该研磨层设置于该表面且显露该基材周缘之部分该表面，该研磨层具有复数个第一沟槽及复数个第二沟槽，该等第一沟槽与该等第二沟槽相交，以界定复数个研磨区域。显露之该基材周缘之部分该表面系位于该等第一沟槽及该等第二沟槽与该研磨垫周缘之间。借此，本发明之该研磨垫可蕴含较多之研磨液且利于研磨残屑之排除，并且，该研磨层不具有尖角之结构且不易脱落而成为残屑，故可增加研磨品质及研磨效果。

5. 发明专利

TW201018545A 可導電之拋光墊及其製造方法 CONDUCTIVE POLISHING PAD AND METHOD FOR MAKING THE SAME 审中-公开
简体标题：可导电之抛光垫及其制造方法 CONDUCTIVE POLISHING PAD AND METHOD FOR MAKING THE SAME
公开(公告)号：TW201018545A
公开(公告)日：2010-05-16
申请号：TW097143727
申请日：2008-11-12
申请人：貝達先進材料股份有限公司
发明人：馮崇智 , 姚伊蓬 , 洪永璋 , 王俊達
IPC分类号： B24B , C08J
CPC分类号： B24B37/22 , B23H5/08 , B24B37/24 , B32B3/266 , B32B5/022 , B32B27/08 , B32B27/12 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B27/40 , B32B2255/26 , B32B2307/7265 , B32B2307/728 , D06M15/227 , D06M15/263 , D06M15/507 , D06M15/564 , D06N3/042 , D06N3/045 , D06N3/123 , D06N3/14 , D06N2209/041 , D06N2209/105 , D06N2209/141 , D06N2213/04 , D06P1/5221 , D06P1/5271 , D06P1/5285 , Y10T428/249981
摘要：本發明係關於一種可導電之拋光墊及其製造方法。該可導電之拋光墊包括一底層、一導電薄膜及一拋光層。該底層包括一第一高分子體及一纖維基材。該第一高分子體係包覆該纖維基材，且具有複數個第一孔洞。該導電薄膜位於該底層上。該拋光層位於該導電薄膜上，包括一第二高分子體。該第二高分子體具有複數個第二孔洞。藉此，即便該底層及該拋光層係為不良導體，該導電薄膜亦可提升其導電性，使該拋光墊具有良好導電性。其次，該拋光墊具有一彈性表面，在進行拋光時不易使一待拋光工件之表面產生刮傷。
简体摘要：本发明系关于一种可导电之抛光垫及其制造方法。该可导电之抛光垫包括一底层、一导电薄膜及一抛光层。该底层包括一第一高分子体及一纤维基材。该第一高分子体系包覆该纤维基材，且具有复数个第一孔洞。该导电薄膜位于该底层上。该抛光层位于该导电薄膜上，包括一第二高分子体。该第二高分子体具有复数个第二孔洞。借此，即便该底层及该抛光层系为不良导体，该导电薄膜亦可提升其导电性，使该抛光垫具有良好导电性。其次，该抛光垫具有一弹性表面，在进行抛光时不易使一待抛光工件之表面产生刮伤。

6. 发明专利

TW200942364A 具防研磨面脫落之溝槽結構之研磨墊 A POLISHING PAD HAVING GROOVE STRUCTURE FOR AVOIDING THE POLISHING SURFACE STRIPPING 审中-公开
简体标题：具防研磨面脱落之沟槽结构之研磨垫 A POLISHING PAD HAVING GROOVE STRUCTURE FOR AVOIDING THE POLISHING SURFACE STRIPPING
公开(公告)号：TW200942364A
公开(公告)日：2009-10-16
申请号：TW097113293
申请日：2008-04-11
申请人：貝達先進材料股份有限公司
发明人：馮崇智 , 劉瑋得 , 洪永璋 , 王俊達 , 姚伊蓬
IPC分类号： B24D , B24B
CPC分类号： B24B37/26
摘要：本發明係關於一種具防研磨面脫落之溝槽結構之研磨墊，其包括：一基材及一研磨層。該基材具有一表面。該研磨層設置於該表面且顯露該基材周緣之部分該表面，該研磨層具有複數個第一溝槽及複數個第二溝槽，該等第一溝槽與該等第二溝槽相交，以界定複數個研磨區域。顯露之該基材周緣之部分該表面係位於該等第一溝槽及該等第二溝槽與該研磨墊周緣之間。藉此，本發明之該研磨墊可蘊含較多之研磨液且利於研磨殘屑之排除，並且，該研磨層不具有尖角之結構且不易脫落而成為殘屑，故可增加研磨品質及研磨效果。
简体摘要：本发明系关于一种具防研磨面脱落之沟槽结构之研磨垫，其包括：一基材及一研磨层。该基材具有一表面。该研磨层设置于该表面且显露该基材周缘之部分该表面，该研磨层具有复数个第一沟槽及复数个第二沟槽，该等第一沟槽与该等第二沟槽相交，以界定复数个研磨区域。显露之该基材周缘之部分该表面系位于该等第一沟槽及该等第二沟槽与该研磨垫周缘之间。借此，本发明之该研磨垫可蕴含较多之研磨液且利于研磨残屑之排除，并且，该研磨层不具有尖角之结构且不易脱落而成为残屑，故可增加研磨品质及研磨效果。

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