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    • 3. 发明专利
    • 清潔裝置
    • 清洁设备
    • TW419400B
    • 2001-01-21
    • TW088116979
    • 1999-10-01
    • 華邦電子股份有限公司
    • 陳廷國俞篤豪黃啓業陳義元
    • B08B
    • B08B3/04A47L13/26B08B1/00
    • 本案為一種清潔裝置,用以清除污垢,其主要由填充部、滲透部及清潔頭組成。填充部係用以保存一清潔用之物質,滲透部係設於該填充部內,藉以導引該清潔用之物質,而清潔頭則與該滲透部銜接,用以清除污垢。當然,清潔裝置本體係用以保存一高腐蝕性之清潔用物質,藉以清除一污垢,而其上之逆止閥係設於該本體內,藉以防止該高腐蝕性之清潔用物質自該本體中洩漏出來。另外,清潔裝置具一可曲撓部亦為本案之特徵所在。
    • 本案为一种清洁设备,用以清除污垢,其主要由填充部、渗透部及清洁头组成。填充部系用以保存一清洁用之物质,渗透部系设于该填充部内,借以导引该清洁用之物质,而清洁头则与该渗透部衔接,用以清除污垢。当然,清洁设备本体系用以保存一高腐蚀性之清洁用物质,借以清除一污垢,而其上之逆止阀系设于该本体内,借以防止该高腐蚀性之清洁用物质自该本体中泄漏出来。另外,清洁设备具一可曲挠部亦为本案之特征所在。