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1. 发明专利

TWI672556B 判定輻射之散射的方法及電腦程式產品有权
简体标题：判定辐射之散射的方法及电脑进程产品
公开(公告)号：TWI672556B
公开(公告)日：2019-09-21
申请号：TW106145450
申请日：2017-12-25
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：曹宇 , CAO, YU , 盧彥文 , LU, YEN-WEN , 劉鵬 , LIU, PENG , 何威爾羅福 C , HOWELL, RAFAEL C. , 比斯瓦思羅西尼 , BISWAS, ROSHNI
IPC分类号： G03F1/70 , G06F17/50

2. 发明专利

TW201841049A 藉由圖案化裝置上的有限厚度之結構判定輻射之散射的方法审中-公开
简体标题：借由图案化设备上的有限厚度之结构判定辐射之散射的方法
公开(公告)号：TW201841049A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW106145450
申请日：2017-12-25
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：曹宇 , CAO, YU , 盧彥文 , LU, YEN-WEN , 劉鵬 , LIU, PENG , 何威爾羅福 C , HOWELL, RAFAEL C. , 比斯瓦思羅西尼 , BISWAS, ROSHNI
IPC分类号： G03F1/70 , G06F17/50
摘要：本發明揭示一種方法，其包括：獲得一圖案化裝置之一薄光罩透射函數及用於一微影程序之一M3D模型，其中該薄光罩透射函數為一連續透射光罩(CTM)且該M3D模型至少表示可歸因於該圖案化裝置上之結構之多個邊緣的M3D之一部分；藉由使用該薄光罩透射函數及該M3D模型而判定該圖案化裝置之一M3D光罩透射函數；及藉由使用該M3D光罩透射函數而判定藉由該圖案化裝置及該微影程序產生的一空中影像。
简体摘要：本发明揭示一种方法，其包括：获得一图案化设备之一薄光罩透射函数及用于一微影进程之一M3D模型，其中该薄光罩透射函数为一连续透射光罩(CTM)且该M3D模型至少表示可归因于该图案化设备上之结构之多个边缘的M3D之一部分；借由使用该薄光罩透射函数及该M3D模型而判定该图案化设备之一M3D光罩透射函数；及借由使用该M3D光罩透射函数而判定借由该图案化设备及该微影进程产生的一空中影像。

3. 发明专利

TW201841073A 藉由於圖案化裝置上之有限厚度結構來判定輻射散射的方法审中-公开
简体标题：借由于图案化设备上之有限厚度结构来判定辐射散射的方法
公开(公告)号：TW201841073A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107105968
申请日：2018-02-22
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：劉鵬 , LIU, PENG , 羅亞 , LUO, YA , 曹宇 , CAO, YU , 盧彥文 , LU, YEN-WEN
IPC分类号： G03F7/20 , G06F17/50
摘要：本發明揭示一種方法，其包括：獲得一設計佈局之一部分的特性；判定包括或形成該部分之一圖案化裝置之M3D的特性；藉由使用一電腦使用包括一樣本之訓練資料來訓練一神經網路，該樣本之特徵向量包括該部分之該等特性且該樣本之監督信號包含該M3D之該等特性。本發明亦揭示一種方法，其包括：獲得一設計佈局之一部分的特性；獲得使用包括或形成該部分之一圖案化裝置的一微影製程之特性；判定該微影製程之一結果之特性；藉由使用一電腦使用包括一樣本之訓練資料來訓練一神經網路，該樣本之特徵向量包含該部分之該等特性及該微影製程之該等特性，且該樣本之監督信號包含該結果之該等特性。
简体摘要：本发明揭示一种方法，其包括：获得一设计布局之一部分的特性；判定包括或形成该部分之一图案化设备之M3D的特性；借由使用一电脑使用包括一样本之训练数据来训练一神经网络，该样本之特征矢量包括该部分之该等特性且该样本之监督信号包含该M3D之该等特性。本发明亦揭示一种方法，其包括：获得一设计布局之一部分的特性；获得使用包括或形成该部分之一图案化设备的一微影制程之特性；判定该微影制程之一结果之特性；借由使用一电脑使用包括一样本之训练数据来训练一神经网络，该样本之特征矢量包含该部分之该等特性及该微影制程之该等特性，且该样本之监督信号包含该结果之该等特性。

4. 发明专利

TWI667553B 判定圖案之特性之方法有权
简体标题：判定图案之特性之方法
公开(公告)号：TWI667553B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW107105968
申请日：2018-02-22
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：劉鵬 , LIU, PENG , 羅亞 , LUO, YA , 曹宇 , CAO, YU , 盧彥文 , LU, YEN-WEN
IPC分类号： G03F7/20 , G06F17/50

5. 发明专利

TW201907443A 用於評估抗蝕劑顯影的方法审中-公开
简体标题：用于评估抗蚀剂显影的方法
公开(公告)号：TW201907443A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107115369
申请日：2018-05-07
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：劉鵬 , LIU, PENG
IPC分类号： H01L21/027 , G06F17/50
摘要：本發明揭示一種方法，其包括：獲得用於模擬一抗蝕劑層之一抗蝕劑顯影製程的用於一抗蝕劑顯影模型之一條件集合；及藉由一硬體電腦系統使用該條件集合及該抗蝕劑顯影模型來執行該抗蝕劑顯影製程之一電腦模擬以獲得該抗蝕劑層之該顯影之一特性，其中該電腦模擬分離地模擬該抗蝕劑顯影製程之不同的某些不同的物理及化學製程及特性。
简体摘要：本发明揭示一种方法，其包括：获得用于仿真一抗蚀剂层之一抗蚀剂显影制程的用于一抗蚀剂显影模型之一条件集合；及借由一硬件电脑系统使用该条件集合及该抗蚀剂显影模型来运行该抗蚀剂显影制程之一电脑仿真以获得该抗蚀剂层之该显影之一特性，其中该电脑仿真分离地仿真该抗蚀剂显影制程之不同的某些不同的物理及化学制程及特性。

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