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3. 发明专利

TW201833675A 微影裝置及製造器件的方法审中-公开
简体标题：微影设备及制造器件的方法
公开(公告)号：TW201833675A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106139813
申请日：2017-11-17
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：邦貝克約翰瑪利亞 , BOMBEECK, JOHN MARIA , 賽伯斯科恩 , CUYPERS, KOEN , 戴布紐法蘭克 , DEBOUGNOUX, FRANK , 優莫林艾瑞克亨瑞庫司艾居迪司卡薩瑞納 , EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARINA , 加多比吉歐吉凡尼路卡 , GATTOBIGIO, GIOVANNI LUCA , 廉碧司韓亨利克斯亞德恭達 , LEMPENS, HAN HENRICUS ALDEGONDA , 麥爾曼喬漢斯康納歷斯波勒斯 , MELMAN, JOHANNES CORNELIS PAULUS , 波列特喜爾多爾斯威爾赫瑪斯 , POLET, THEODORUS WILHELMUS , 維拉莎拉斯喬治艾爾博多 , VIEYRA SALAS, JORGE ALBERTO
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一種浸潤微影裝置，其包含：一支撐台，其經組態以支撐具有至少一個目標部分之一物件；一投影系統，其經組態以將一經圖案化光束投影至該物件上；一定位器，其經組態以相對於該投影系統移動該支撐台；一液體限制結構，其經組態以使用通過形成於該液體限制結構中之一系列開口進入及/或離開該液體限制結構的一流體流將一液體限制至該投影系統與該物件及/或該支撐台之一表面之間的一浸潤空間；及一控制器，其經組態以控制該定位器移動該支撐台以遵循包含一系列運動之一路線且經組態以控制該液體限制結構，其中每一運動涉及該支撐台相對於該液體限制結構移動，使得自並不在該液體限制結構下方移動至在該液體限制結構下方的該支撐台之一部分在該液體限制結構之一前邊緣下方通過，且自該液體限制結構下方移動至不在該液體限制結構下方的該支撐台之一部分在該液體限制結構之一後邊緣下方通過，該控制器經調適以：預測在該浸潤空間之一邊緣越過該物件之一邊緣的該系列運動中之至少一個運動期間該液體將是否自該浸潤空間損耗，且若預測存在來自該浸潤空間之液體損耗，則修改該流體流量，使得在預測之液體損耗之該運動或預測之液體損耗之該運動之後的該系列運動之一運動期間在該液體限制結構之該前邊緣處進入或離開該系列開口之一開口的一第一流體流動速率不同於在該液體限制結構之該後邊緣處進入或離開該系列開口之一開口的一第二流體流動速率。
简体摘要：一种浸润微影设备，其包含：一支撑台，其经组态以支撑具有至少一个目标部分之一对象；一投影系统，其经组态以将一经图案化光束投影至该对象上；一定位器，其经组态以相对于该投影系统移动该支撑台；一液体限制结构，其经组态以使用通过形成于该液体限制结构中之一系列开口进入及/或离开该液体限制结构的一流体流将一液体限制至该投影系统与该对象及/或该支撑台之一表面之间的一浸润空间；及一控制器，其经组态以控制该定位器移动该支撑台以遵循包含一系列运动之一路线且经组态以控制该液体限制结构，其中每一运动涉及该支撑台相对于该液体限制结构移动，使得自并不在该液体限制结构下方移动至在该液体限制结构下方的该支撑台之一部分在该液体限制结构之一前边缘下方通过，且自该液体限制结构下方移动至不在该液体限制结构下方的该支撑台之一部分在该液体限制结构之一后边缘下方通过，该控制器经调适以：预测在该浸润空间之一边缘越过该对象之一边缘的该系列运动中之至少一个运动期间该液体将是否自该浸润空间损耗，且若预测存在来自该浸润空间之液体损耗，则修改该流体流量，使得在预测之液体损耗之该运动或预测之液体损耗之该运动之后的该系列运动之一运动期间在该液体限制结构之该前边缘处进入或离开该系列开口之一开口的一第一流体流动速率不同于在该液体限制结构之该后边缘处进入或离开该系列开口之一开口的一第二流体流动速率。

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