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1. 发明专利

TW201536112A 用於極紫外光源之適應性雷射系統审中-公开
简体标题：用于极紫外光源之适应性激光系统
公开(公告)号：TW201536112A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW104104272
申请日：2015-02-09
申请人：艾司摩爾荷蘭股份有限公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陶業爭 , TAO, YEZHENG , 布朗丹尼爾J W , BROWN, DANIEL J. W. , 夏夫根斯亞歷山大 , SCHAFGANS, ALEXANDER , 查迪爾麥可D , CAUDILL, MICHAEL DAVID , 葛里奇丹尼爾J , GOLICH, DANIEL J. , 桑德斯特倫理查L , SANDSTROM, RICHARD L. , 天田芳穂 , AMADA, YOSHIHO
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , H01S3/1003 , H01S3/1301 , H01S3/1305 , H05G2/003
摘要：一種用於極紫外(EUV)光源的系統，其係包括：包含位於一光束路徑上之一增益介質的一光學放大器，該光學放大器經組配成可在一輸入處接收一光束以及在一輸出處射出一輸出光束供一EUV光源用；一回饋系統，其係測量該輸出光束之一性質以及基於該測得性質來產生一回饋訊號；以及一適應性光件，其係位於該光束路徑中且經組配成可接收該回饋訊號以及調整該輸出光束之一性質以響應該回饋訊號。
简体摘要：一种用于极紫外(EUV)光源的系统，其系包括：包含位于一光束路径上之一增益介质的一光学放大器，该光学放大器经组配成可在一输入处接收一光束以及在一输出处射出一输出光束供一EUV光源用；一回馈系统，其系测量该输出光束之一性质以及基于该测得性质来产生一回馈信号；以及一适应性光件，其系位于该光束路径中且经组配成可接收该回馈信号以及调整该输出光束之一性质以响应该回馈信号。

2. 发明专利

TW201532074A 極紫外光源审中-公开
简体标题：极紫外光源
公开(公告)号：TW201532074A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103144295
申请日：2014-12-18
申请人：艾司摩爾荷蘭股份有限公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陶業爭 , TAO, YEZHENG , 史圖華特約翰T , STEWART, JOHN TOM , 布朗丹尼爾J W , BROWN, DANIEL J. W.
IPC分类号： G21K5/00 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , H05G2/003
摘要：形成一第一留存電漿，其至少部份地重合於一標靶區；提供一標靶，其包括對於標靶區呈現一第一空間性分佈之標靶材料，標靶材料係包括在轉換至電漿時發射EUV光之材料；第一留存電漿係與初始標靶交互作用，該交互作用係使標靶材料從第一空間性分佈重新配置至一經定形標靶分佈，以在標靶區中形成一經定形標靶，經定形標靶係包括被配置呈現經定形空間性分佈之標靶材料；一經放大光束係被導引朝向標靶區，以將經定形標靶中之至少部分的標靶材料轉換至一發射EUV光之電漿；且一第二留存電漿係形成於標靶區中。
简体摘要：形成一第一留存等离子，其至少部份地重合于一标靶区；提供一标靶，其包括对于标靶区呈现一第一空间性分布之标靶材料，标靶材料系包括在转换至等离子时发射EUV光之材料；第一留存等离子系与初始标靶交互作用，该交互作用系使标靶材料从第一空间性分布重新配置至一经定形标靶分布，以在标靶区中形成一经定形标靶，经定形标靶系包括被配置呈现经定形空间性分布之标靶材料；一经放大光束系被导引朝向标靶区，以将经定形标靶中之至少部分的标靶材料转换至一发射EUV光之等离子；且一第二留存等离子系形成于标靶区中。

3. 发明专利

TWI670996B 極紫外光（EUV）源、用以維持用來產生極紫外光之放大光束的性質之方法以及用於極紫外光源的系統有权
简体标题：极紫外光（EUV）源、用以维持用来产生极紫外光之放大光束的性质之方法以及用于极紫外光源的系统
公开(公告)号：TWI670996B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW104104272
申请日：2015-02-09
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陶業爭 , TAO, YEZHENG , 布朗丹尼爾J W , BROWN, DANIEL J. W. , 夏夫根斯亞歷山大 , SCHAFGANS, ALEXANDER , 查迪爾麥可D , CAUDILL, MICHAEL DAVID , 葛里奇丹尼爾J , GOLICH, DANIEL J. , 桑德斯特倫理查L , SANDSTROM, RICHARD L. , 天田芳穂 , AMADA, YOSHIHO
IPC分类号： H05G2/00

4. 发明专利

TWI612850B 極紫外線光源及用於增強來自該極紫外線光源的功率之方法有权
简体标题：极紫外线光源及用于增强来自该极紫外线光源的功率之方法
公开(公告)号：TWI612850B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW103108128
申请日：2014-03-10
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陶業爭 , TAO, YEZHENG , 拉法斯羅伯特J , RAFAC, ROBERT J. , 佛蒙柯維伊格爾V , FOMENKOV, IGOR V. , 布朗丹尼爾J , BROWN, DANIEL J.
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/003 , H05G2/005 , H05G2/008

5. 发明专利

TW201721234A 光學隔離模組审中-公开
简体标题：光学隔离模块
公开(公告)号：TW201721234A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105131493
申请日：2016-09-30
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陶業爭 , TAO, YEZHENG , 布朗丹尼爾約翰威廉 , BROWN, DANIEL JOHN WILLIAM , 夏夫根斯亞歷山大安東尼 , SCHAFGANS, ALEXANDER ANTHONY , 達斯柏拉許寶利捷 , DAS, PALASH PARIJAT
IPC分类号： G02B27/10 , G02B27/40 , G03F1/22 , H01S3/02 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , H01S3/0064 , H01S3/2232 , H01S3/2308 , H01S3/2391 , H05G2/003
摘要：一種用於一光微影工具之光學源包括：一源，其經組態以發射一第一光束及一第二光束，該第一光束具有一第一波長，且該第二光束具有一第二波長，該第一波長與該第二波長不同；一放大器，其經組態以放大該第一光束及該第二光束以分別產生一第一經放大光束及一第二經放大光束；及介於該源與該放大器之間的一光學隔離器，該光學隔離器包括：複數個二向色光學元件，及介於該等二向色光學元件中之兩者之間的一光學調變器。
简体摘要：一种用于一光微影工具之光学源包括：一源，其经组态以发射一第一光束及一第二光束，该第一光束具有一第一波长，且该第二光束具有一第二波长，该第一波长与该第二波长不同；一放大器，其经组态以放大该第一光束及该第二光束以分别产生一第一经放大光束及一第二经放大光束；及介于该源与该放大器之间的一光学隔离器，该光学隔离器包括：复数个二向色光学组件，及介于该等二向色光学组件中之两者之间的一光学调制器。

6. 发明专利

TWI643209B 用於形成極紫外光源的經定形標靶之方法、形成發射極紫外光的電漿之方法及極紫外光源有权
简体标题：用于形成极紫外光源的经定形标靶之方法、形成发射极紫外光的等离子之方法及极紫外光源
公开(公告)号：TWI643209B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW103144295
申请日：2014-12-18
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陶業爭 , TAO, YEZHENG , 史圖華特約翰T , STEWART, JOHN TOM , 布朗丹尼爾J W , BROWN, DANIEL J. W.
IPC分类号： G21K5/00 , H05G2/00

7. 发明专利

TWI636709B 極紫外線(EUV)光源及產生EUV光之方法有权
简体标题：极紫外线(EUV)光源及产生EUV光之方法
公开(公告)号：TWI636709B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：TW103108131
申请日：2014-03-10
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：拉法斯羅伯特J , RAFAC, ROBERT J. , 陶業爭 , TAO, YEZHENG
IPC分类号： H05G2/00

8. 发明专利

TWI698677B 用於隔離雷射系統中之增益元件之系統與方法有权
简体标题：用于隔离激光系统中之增益组件之系统与方法
公开(公告)号：TWI698677B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW104138826
申请日：2015-11-23
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陶業爭 , TAO, YEZHENG , 布朗丹尼爾約翰威廉 , BROWN, DANIEL JOHN WILLIAM , 葛里奇丹尼爾詹姆士 , GOLICH, DANIEL JAMES , 凱茲麥可 , KATS, MICHAEL , 史圖華特約翰湯姆 , STEWART, JOHN TOM , 洛基司基洛斯提斯拉夫 , ROKITSKI, ROSTISLAV
IPC分类号： G02F1/11 , H01S3/08 , H01S3/082

9. 发明专利

TWI603162B 用於極紫外線光源之靶材有权
简体标题：用于极紫外线光源之靶材
公开(公告)号：TWI603162B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW103108136
申请日：2014-03-10
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陶業爭 , TAO, YEZHENG , 拉法斯羅伯特J , RAFAC, ROBERT J. , 佛蒙柯維伊格爾V , FOMENKOV, IGOR V. , 布朗丹尼爾J , BROWN, DANIEL J. , 葛里奇丹尼爾J , GOLICH, DANIEL J.
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H05G2/008 , G21K5/02 , H01S3/10 , H05G2/005

10. 发明专利

TW201631361A 用於隔離雷射系統中之增益元件之系統與方法审中-公开
简体标题：用于隔离激光系统中之增益组件之系统与方法
公开(公告)号：TW201631361A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104138826
申请日：2015-11-23
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陶業爭 , TAO, YEZHENG , 布朗丹尼爾約翰威廉 , BROWN, DANIEL JOHN WILLIAM , 葛里奇丹尼爾詹姆士 , GOLICH, DANIEL JAMES , 凱茲麥可 , KATS, MICHAEL , 史圖華特約翰湯姆 , STEWART, JOHN TOM , 洛基司基洛斯提斯拉夫 , ROKITSKI, ROSTISLAV
IPC分类号： G02F1/11 , H01S3/08 , H01S3/082
CPC分类号： H05G2/008 , H01S3/005 , H01S3/0064 , H01S3/0085 , H01S3/2232 , H01S3/2316 , H01S3/2383 , H05G2/003 , H05G2/005 , H05G2/006
摘要：本發明揭示一種用於保護一雷射產生電漿(LPP)極紫外線(EUV)光系統中之種子雷射之方法及裝置。定位於一光學路徑上之一隔離級使自該LPP EUV光系統中之另外組件反射之光轉向免於到達該種子雷射。該隔離級包含藉由一延遲線而分離之兩個聲光調變器(AOM)。該等AOM在開啟時將光導向至該光學路徑上，且在關閉時將光導向遠離該光學路徑。判定由該延遲線引入之延遲，使得該等AOM之該開啟及該關閉可經計時以將一前向移動脈衝導向至該光學路徑上且在其他時間使經反射光轉向。該隔離級可定位於增益元件之間以防止經放大之經反射光到達該種子雷射且防止其他潛在有害效應。
简体摘要：本发明揭示一种用于保护一激光产生等离子(LPP)极紫外线(EUV)光系统中之种子激光之方法及设备。定位于一光学路径上之一隔离级使自该LPP EUV光系统中之另外组件反射之光转向免于到达该种子激光。该隔离级包含借由一延迟线而分离之两个声光调制器(AOM)。该等AOM在打开时将光导向至该光学路径上，且在关闭时将光导向远离该光学路径。判定由该延迟线引入之延迟，使得该等AOM之该打开及该关闭可经计时以将一前向移动脉冲导向至该光学路径上且在其他时间使经反射光转向。该隔离级可定位于增益组件之间以防止经放大之经反射光到达该种子激光且防止其他潜在有害效应。

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