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1. 发明专利

TW201733695A 器具後處理器及器具後處理方法审中-公开
简体标题：器具后处理器及器具后处理方法
公开(公告)号：TW201733695A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106119174
申请日：2012-10-19
申请人：艾司康公司 , ETHICON, INC.
发明人：阮尼克 , NGUYEN, NICK N. , 班候米克烏賈爾 , BHAUMIK, UJJAL , 威廉斯哈爾 , WILLIAMS, HAL
IPC分类号： B08B3/10 , B08B9/08
CPC分类号： A61L2/24 , A61B1/123 , A61B1/125 , A61B90/70 , A61B2090/701 , A61L2/18 , B08B3/04 , B08B9/00 , G05D16/2013 , Y10T137/7761 , Y10T137/8601
摘要：揭露一種用以清洗、殺菌及/或消毒醫療器具之器具後處理器。為了後處理內部界定有一或多個通道的器具，該後處理器可以包括一或多個流動控制系統，該流動控制系統組態成控制通過每個通道的流體之流動。在各種實施例中，流動控制系統可以包括差壓感測器及比例閥，用以控制在通道中的流體流動。該後處理器也可包括(一)流體循環幫浦，其可組態成供應流體至流動控制系統，以及(二)用以控制供應至流動控制系統的流體壓力之系統。該後處理器亦可包括用以供應計量的流體至該流體循環系統之系統。該系統可以包括儲存器以及幫浦，該儲存器具有監控其中的流體量之流體高度感測器，該幫浦組態成供應流體至該儲存器。
简体摘要：揭露一种用以清洗、杀菌及/或消毒医疗器具之器具后处理器。为了后处理内部界定有一或多个信道的器具，该后处理器可以包括一或多个流动控制系统，该流动控制系统组态成控制通过每个信道的流体之流动。在各种实施例中，流动控制系统可以包括差压传感器及比例阀，用以控制在信道中的流体流动。该后处理器也可包括(一)流体循环帮浦，其可组态成供应流体至流动控制系统，以及(二)用以控制供应至流动控制系统的流体压力之系统。该后处理器亦可包括用以供应计量的流体至该流体循环系统之系统。该系统可以包括存储器以及帮浦，该存储器具有监控其中的流体量之流体高度传感器，该帮浦组态成供应流体至该存储器。

2. 发明专利

TW201338881A 器具後處理器及器具後處理方法审中-公开
简体标题：器具后处理器及器具后处理方法
公开(公告)号：TW201338881A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW101138554
申请日：2012-10-19
申请人：艾司康公司 , ETHICON, INC.
发明人：阮尼克 , NGUYEN, NICK N. , 班候米克烏賈爾 , BHAUMIK, UJJAL , 威廉斯哈爾 , WILLIAMS, HAL
IPC分类号： B08B3/10 , B08B9/08
CPC分类号： A61L2/24 , A61B1/123 , A61B1/125 , A61B90/70 , A61B2090/701 , A61L2/18 , B08B3/04 , B08B9/00 , G05D16/2013 , Y10T137/7761 , Y10T137/8601
摘要：揭露一種用以清洗、殺菌及/或消毒醫療器具之器具後處理器。為了後處理內部界定有一或多個通道的器具，該後處理器可以包括一或多個流動控制系統，該流動控制系統組態成控制通過每個通道的流體之流動。在各種實施例中，流動控制系統可以包括差壓感測器及比例閥，用以控制在通道中的流體流動。該後處理器也可包括(一)流體循環幫浦，其可組態成供應流體至流動控制系統，以及(二)用以控制供應至流動控制系統的流體壓力之系統。該後處理器亦可包括用以供應計量的流體至該流體循環系統之系統。該系統可以包括儲存器以及幫浦，該儲存器具有監控其中的流體量之流體高度感測器，該幫浦組態成供應流體至該儲存器。
简体摘要：揭露一种用以清洗、杀菌及/或消毒医疗器具之器具后处理器。为了后处理内部界定有一或多个信道的器具，该后处理器可以包括一或多个流动控制系统，该流动控制系统组态成控制通过每个信道的流体之流动。在各种实施例中，流动控制系统可以包括差压传感器及比例阀，用以控制在信道中的流体流动。该后处理器也可包括(一)流体循环帮浦，其可组态成供应流体至流动控制系统，以及(二)用以控制供应至流动控制系统的流体压力之系统。该后处理器亦可包括用以供应计量的流体至该流体循环系统之系统。该系统可以包括存储器以及帮浦，该存储器具有监控其中的流体量之流体高度传感器，该帮浦组态成供应流体至该存储器。

3. 发明专利

TWI620602B 器具後處理方法有权
简体标题：器具后处理方法
公开(公告)号：TWI620602B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW101138554
申请日：2012-10-19
申请人：艾司康公司 , ETHICON, INC.
发明人：阮尼克 , NGUYEN, NICK N. , 班候米克烏賈爾 , BHAUMIK, UJJAL , 威廉斯哈爾 , WILLIAMS, HAL
IPC分类号： B08B3/10 , B08B9/08
CPC分类号： A61L2/24 , A61B1/123 , A61B1/125 , A61B90/70 , A61B2090/701 , A61L2/18 , B08B3/04 , B08B9/00 , G05D16/2013 , Y10T137/7761 , Y10T137/8601

4. 发明专利

TWI569895B 器具後處理器及器具後處理方法有权
简体标题：器具后处理器及器具后处理方法
公开(公告)号：TWI569895B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW101138553
申请日：2012-10-19
申请人：艾司康公司 , ETHICON, INC.
发明人：阮尼克 , NGUYEN, NICK N. , 班候米克烏賈爾 , BHAUMIK, UJJAL , 威廉斯哈爾 , WILLIAMS, HAL
IPC分类号： B08B3/10 , B08B13/00
CPC分类号： A61L2/24 , A61B1/123 , A61B1/125 , A61B90/70 , A61B2090/701 , A61L2/18 , B08B3/04 , B08B9/00 , G05D16/2013 , Y10T137/7761 , Y10T137/8601

5. 发明专利

TW201338880A 器具後處理器及器具後處理方法审中-公开
简体标题：器具后处理器及器具后处理方法
公开(公告)号：TW201338880A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW101138553
申请日：2012-10-19
申请人：艾司康公司 , ETHICON, INC.
发明人：阮尼克 , NGUYEN, NICK N. , 班候米克烏賈爾 , BHAUMIK, UJJAL , 威廉斯哈爾 , WILLIAMS, HAL
IPC分类号： B08B3/10 , B08B13/00
CPC分类号： A61L2/24 , A61B1/123 , A61B1/125 , A61B90/70 , A61B2090/701 , A61L2/18 , B08B3/04 , B08B9/00 , G05D16/2013 , Y10T137/7761 , Y10T137/8601
摘要：揭露一種用以清洗、殺菌及/或消毒醫療器具之器具後處理器。為了後處理內部界定有一或多個通道的器具，該後處理器可以包括一或多個流動控制系統，該流動控制系統經組構以控制通過每個通道的流體之流動。在各種實施例中，流動控制系統可以包括差壓感測器及比例閥，用以控制在通道中的流體流動。該後處理器也可包括(一)流體循環幫浦，其可經組構以供應流體至流動控制系統，以及(二)用以控制供應至流動控制系統的流體壓力之系統。該後處理器亦可包括用以供應計量的流體至該流體循環系統之系統。該系統可以包括儲存器以及幫浦，該儲存器具有監控其中的流體量之流體高度感測器，該幫浦經組構以供應流體至該儲存器。
简体摘要：揭露一种用以清洗、杀菌及/或消毒医疗器具之器具后处理器。为了后处理内部界定有一或多个信道的器具，该后处理器可以包括一或多个流动控制系统，该流动控制系统经组构以控制通过每个信道的流体之流动。在各种实施例中，流动控制系统可以包括差压传感器及比例阀，用以控制在信道中的流体流动。该后处理器也可包括(一)流体循环帮浦，其可经组构以供应流体至流动控制系统，以及(二)用以控制供应至流动控制系统的流体压力之系统。该后处理器亦可包括用以供应计量的流体至该流体循环系统之系统。该系统可以包括存储器以及帮浦，该存储器具有监控其中的流体量之流体高度传感器，该帮浦经组构以供应流体至该存储器。

6. 发明专利

TWI384960B 偵測內視鏡測試埠連接狀態的方法有权
简体标题：侦测内视镜测试端口连接状态的方法
公开(公告)号：TWI384960B
公开(公告)日：2013-02-11
申请号：TW095136123
申请日：2006-09-29
申请人：艾司康公司 , ETHICON, INC.
发明人：季理察 , JACKSON, RICHARD A. , 魏賀爾 , WILLIAMS, HAL
IPC分类号： A61B1/00 , A61L2/00
CPC分类号： A61B1/00057 , A61B1/00059 , A61B1/125 , A61L2/18 , A61L2/24 , G01M3/2815

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