专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI620005B 佈局圖案分割方法有权
简体标题：布局图案分割方法
公开(公告)号：TWI620005B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW103128354
申请日：2014-08-18
申请人：聯華電子股份有限公司 , UNITED MICROELECTRONICS CORP.
发明人：湯志賢 , TANG, CHIH HSIEN , 范耀仁 , FAN, YAO JEN , 林金隆 , LIN, CHIN LUNG
IPC分类号： G03F1/68 , G06F17/50
CPC分类号： G03F1/70 , G03F7/70433 , G03F7/70466 , G06F17/5081

2. 发明专利

TW201443555A 修正輔助圖案的方法审中-公开
简体标题：修正辅助图案的方法
公开(公告)号：TW201443555A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW102115979
申请日：2013-05-03
申请人：聯華電子股份有限公司 , UNITED MICROELECTRONICS CORP.
发明人：吳宗曄 , WU, TSUNG YEH , 林金隆 , LIN, CHIN LUNG , 范耀仁 , FAN, YAO JEN , 簡韋瀚 , CHIEN, WEI HAN , 蔡佳君 , TSAI, CHIA CHUN
IPC分类号： G03F1/70 , G03F1/36
摘要：本發明提供一種修正輔助圖案的方法，包括下列步驟。首先，由一電腦系統接收一第一佈局圖案，並將第一佈局圖案分割為複數個第一區域。接著，添加複數個輔助圖案於第一佈局圖案中以形成一第二佈局圖案，且定義相鄰任一第一區域的任一邊線的至少一輔助圖案為一選取圖案，隨後，將第二佈局圖案分割為複數個第二區域。最後，對具有選取圖案的第二區域進行一檢測步驟，且修正第二佈局圖案以形成一已修正的第二佈局圖案。
简体摘要：本发明提供一种修正辅助图案的方法，包括下列步骤。首先，由一电脑系统接收一第一布局图案，并将第一布局图案分割为复数个第一区域。接着，添加复数个辅助图案于第一布局图案中以形成一第二布局图案，且定义相邻任一第一区域的任一边线的至少一辅助图案为一选取图案，随后，将第二布局图案分割为复数个第二区域。最后，对具有选取图案的第二区域进行一检测步骤，且修正第二布局图案以形成一已修正的第二布局图案。

3. 发明专利

TWI575308B 修正輔助圖案的方法有权
简体标题：修正辅助图案的方法
公开(公告)号：TWI575308B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW102115979
申请日：2013-05-03
申请人：聯華電子股份有限公司 , UNITED MICROELECTRONICS CORP.
发明人：吳宗曄 , WU, TSUNG YEH , 林金隆 , LIN, CHIN LUNG , 范耀仁 , FAN, YAO JEN , 簡韋瀚 , CHIEN, WEI HAN , 蔡佳君 , TSAI, CHIA CHUN
IPC分类号： G03F1/70 , G03F1/36

4. 发明专利

TW201608332A 佈局圖案分割方法审中-公开
简体标题：布局图案分割方法
公开(公告)号：TW201608332A
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW103128354
申请日：2014-08-18
申请人：聯華電子股份有限公司 , UNITED MICROELECTRONICS CORP.
发明人：湯志賢 , TANG, CHIH HSIEN , 范耀仁 , FAN, YAO JEN , 林金隆 , LIN, CHIN LUNG
IPC分类号： G03F1/68 , G06F17/50
CPC分类号： G03F1/70 , G03F7/70433 , G03F7/70466 , G06F17/5081
摘要：一種佈局圖案分割方法，該佈局圖案分割方法包含有以下步驟：接收一佈局圖案，其包含有複數個特徵物，且該等特徵物之間分別形成有一邊對邊間距。接下來分別計算該邊對邊間距之寬度與該邊對邊間距左側之該特徵物之寬度的總和以及該邊對邊間距之寬度與該邊對邊間距右側之該特徵物之寬度的總和，隨後分別比對該等總和與一預定值，當任一該總和小於該預定值時，分別給予該邊對邊間距兩側之該等特徵物一第一顏色與一第二顏色。之後，分派具有該第一顏色之該等特徵物至一第一圖案，以及分派具有該第二顏色之該等特徵物至一第二圖案。
简体摘要：一种布局图案分割方法，该布局图案分割方法包含有以下步骤：接收一布局图案，其包含有复数个特征物，且该等特征物之间分别形成有一边对边间距。接下来分别计算该边对边间距之宽度与该边对边间距左侧之该特征物之宽度的总和以及该边对边间距之宽度与该边对边间距右侧之该特征物之宽度的总和，随后分别比对该等总和与一预定值，当任一该总和小于该预定值时，分别给予该边对边间距两侧之该等特征物一第一颜色与一第二颜色。之后，分派具有该第一颜色之该等特征物至一第一图案，以及分派具有该第二颜色之该等特征物至一第二图案。

5. 发明专利

TWI502273B 虛設圖案以及形成虛設圖案之方法有权
简体标题：虚设图案以及形成虚设图案之方法
公开(公告)号：TWI502273B
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW100117746
申请日：2011-05-20
申请人：聯華電子股份有限公司 , UNITED MICROELECTRONICS CORP.
发明人：蔡振華 , TSAI, CHEN HUA , 陳建誠 , CHEN, JIAN CHENG , 蔡錦岳 , TSAI, CHIN YUEH , 范耀仁 , FAN, YAO JEN , 陳科宏 , CHEN, HENG KUN , 楊祥 , YANG, HSIANG
IPC分类号： G03F1/00 , G06F17/50

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式