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1. 发明专利

TW201841063A 在壓印微影程序中組構光學層审中-公开
简体标题：在压印微影进程中组构光学层
公开(公告)号：TW201841063A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107103507
申请日：2018-01-31
申请人：美商分子壓模公司 , MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：辛維克洛姆吉特 , SINGH, VIKRAMJIT , 米勒麥可 N , MILLER, MICHAEL N. , 許毅 , XU, FRANK Y. , 佛勒肯斯坦克里斯多夫 , FLECKENSTEIN, CHRISTOPHER
IPC分类号： G03F7/16 , B82Y40/00
摘要：一種組構一光學層之壓印微影方法包含：以使得一組液滴不接觸一基板上所形成之一功能圖案之一方式將該組液滴沈積於該基板之一側頂上。該壓印微影方法進一步包含：使該組液滴固化以形成與該基板之該側相關聯之一間隔物層，且該間隔物層之一高度經選擇使得該間隔物層可在與該功能圖案間隔開之一位置處支撐毗鄰該基板且橫跨該組液滴之一表面。
简体摘要：一种组构一光学层之压印微影方法包含：以使得一组液滴不接触一基板上所形成之一功能图案之一方式将该组液滴沉积于该基板之一侧顶上。该压印微影方法进一步包含：使该组液滴固化以形成与该基板之该侧相关联之一间隔物层，且该间隔物层之一高度经选择使得该间隔物层可在与该功能图案间隔开之一位置处支撑毗邻该基板且横跨该组液滴之一表面。

2. 发明专利

TW201827922A 結構的微影製造审中-公开
简体标题：结构的微影制造
公开(公告)号：TW201827922A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106135258
申请日：2017-10-16
申请人：美商分子印記股份有限公司 , MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：辛格維克拉姆杰 , SINGH, VIKRAMJIT , 羅康 , LUO, KANG , 米勒麥可奈文 , MILLER, MICHAEL NEVIN , 楊書強 , YANG, SHUQIANG , 許毅 , XU, FRANK Y.
IPC分类号： G03F7/00
摘要：形成於基板上的壓印層中的微圖案及奈米圖案以及用於形成此類層的微影方法。該等層包括複數個結構及一殘餘層，該殘餘層具有從該基板的該表面延伸到該等結構的一基底的一殘餘層厚度（RLT），其中該RLT依據一預定圖案跨該基板的該表面而變化。
简体摘要：形成于基板上的压印层中的微图案及奈米图案以及用于形成此类层的微影方法。该等层包括复数个结构及一残余层，该残余层具有从该基板的该表面延伸到该等结构的一基底的一残余层厚度（RLT），其中该RLT依据一预定图案跨该基板的该表面而变化。

3. 发明专利

TW201821865A 產生的虛擬內容顯示审中-公开
简体标题：产生的虚拟内容显示
公开(公告)号：TW201821865A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106138067
申请日：2017-11-03
申请人：美商分子印記股份有限公司 , MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：辛格維克拉姆杰 , SINGH, VIKRAMJIT , 許毅 , XU, FRANK Y. , 羅康 , LUO, KANG
IPC分类号： G02B27/01 , G02B6/27
摘要：一種產生虛擬影像的方法，該方法包含引導一光束至一目鏡的第一側，其包含傳輸該光束至該目鏡的一第一波導之中；利用該第一波導之第一繞射元件，偏轉該光束的一第一部分朝向該目鏡的一第二波導，該光束的第一部分與該光第一相位相關連；利用在該目鏡第一側上的突出物，偏轉該光束的一第二部分朝向該第二波導，該光束的第二部分與該光第二相位相關連，其與該第一相位不同；及利用該第二波導之第二繞射元件，偏轉該光束的某些第一與第二部分，以提供以該第一與第二相位為基礎、與該虛擬影像相關連之一出射光束。
简体摘要：一种产生虚拟影像的方法，该方法包含引导一光束至一目镜的第一侧，其包含传输该光束至该目镜的一第一波导之中；利用该第一波导之第一绕射组件，偏转该光束的一第一部分朝向该目镜的一第二波导，该光束的第一部分与该光第一相位相关连；利用在该目镜第一侧上的突出物，偏转该光束的一第二部分朝向该第二波导，该光束的第二部分与该光第二相位相关连，其与该第一相位不同；及利用该第二波导之第二绕射组件，偏转该光束的某些第一与第二部分，以提供以该第一与第二相位为基础、与该虚拟影像相关连之一出射光束。

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