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1. 发明专利

TW201921317A 使用以位置為基礎之屬性之損害減少审中-公开
简体标题：使用以位置为基础之属性之损害减少
公开(公告)号：TW201921317A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107127369
申请日：2018-08-07
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：布拉爾伯裘恩 , BRAUER, BJORN , 黃軍秦 , HUANG, JUNQING , 高理升 , GAO, LISHENG
IPC分类号： G06T7/90 , G01R31/26
摘要：揭示提供影像(諸如包括一或多個金屬線之半導體影像)中之損害減少的方法及系統。一潛在缺陷與兩個垂直軸線之像素灰階強度圖相關。沿該兩個軸線判定該潛在缺陷相對於一圖案(諸如一金屬線)的一位置。該潛在缺陷可經分類為一所關注缺陷或損害事件。
简体摘要：揭示提供影像(诸如包括一或多个金属线之半导体影像)中之损害减少的方法及系统。一潜在缺陷与两个垂直轴线之像素灰阶强度图相关。沿该两个轴线判定该潜在缺陷相对于一图案(诸如一金属线)的一位置。该潜在缺陷可经分类为一所关注缺陷或损害事件。

2. 发明专利

TWI607411B 適應性局部臨限及色彩篩選有权
简体标题：适应性局部临限及色彩筛选
公开(公告)号：TWI607411B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW103127350
申请日：2014-08-08
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：黃軍秦 , HUANG, JUNQING , 李虎成 , LEE, HUCHENG , 吳肯翁 , WU, KENONG , 高理升 , GAO, LISHENG
IPC分类号： G06T7/00 , G01N21/88
CPC分类号： G06T7/0008 , G06T7/0006 , G06T7/90 , G06T2207/10024 , G06T2207/20024 , G06T2207/20076 , G06T2207/30148

3. 发明专利

TWI612295B 用於晶圓檢測之刮痕濾除器有权
简体标题：用于晶圆检测之刮痕滤除器
公开(公告)号：TWI612295B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW103129745
申请日：2014-08-28
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：黃軍秦 , HUANG, JUNQING , 金歡 , JIN, HUAN , 陳葛瑞斯淑玲 , CHEN, GRACE HSIU-LING , 高理升 , GAO, LISHENG
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/9501 , G06T5/002 , G06T2207/20061 , G06T2207/30148

4. 发明专利

TW201516395A 用於晶圓檢測之刮痕濾除器审中-公开
简体标题：用于晶圆检测之刮痕滤除器
公开(公告)号：TW201516395A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103129745
申请日：2014-08-28
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：黃軍秦 , HUANG, JUNQING , 金歡 , JIN, HUAN , 陳葛瑞斯淑玲 , CHEN, GRACE HSIU-LING , 高理升 , GAO, LISHENG
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/9501 , G06T5/002 , G06T2207/20061 , G06T2207/30148
摘要：本發明提供用於自晶圓檢測結果濾除刮痕之方法及系統。一方法包含產生包含依據該晶圓上之位置而變之關於潛在缺陷候選之影像資料之一缺陷候選圖，及自該缺陷候選圖移除雜訊以產生一經濾除缺陷候選圖。該方法亦包含基於對應於該等潛在缺陷候選之該經濾除缺陷候選圖之部分判定該等潛在缺陷候選之一或多個特徵。另外，該方法包含基於關於該等潛在缺陷候選之各者判定之該一或多個特徵判定該等潛在缺陷候選之各者是否係刮痕，及將經判定為該等刮痕之該等潛在缺陷候選自關於該晶圓之檢測結果中之其他缺陷分離。
简体摘要：本发明提供用于自晶圆检测结果滤除刮痕之方法及系统。一方法包含产生包含依据该晶圆上之位置而变之关于潜在缺陷候选之影像数据之一缺陷候选图，及自该缺陷候选图移除噪声以产生一经滤除缺陷候选图。该方法亦包含基于对应于该等潜在缺陷候选之该经滤除缺陷候选图之部分判定该等潜在缺陷候选之一或多个特征。另外，该方法包含基于关于该等潜在缺陷候选之各者判定之该一或多个特征判定该等潜在缺陷候选之各者是否系刮痕，及将经判定为该等刮痕之该等潜在缺陷候选自关于该晶圆之检测结果中之其他缺陷分离。

5. 发明专利

TW201800969A 用於界定設計資料之重複結構中之關注區域之系統及方法审中-公开
简体标题：用于界定设计数据之重复结构中之关注区域之系统及方法
公开(公告)号：TW201800969A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW105139039
申请日：2016-11-28
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：黃軍秦 , HUANG, JUNQING , 孔奈基索倫 , KONECKY, SOREN , 李虎成 , LEE, HUCHENG , 吳肯翁 , WU, KENONG , 高理升 , GAO, LISHENG
IPC分类号： G06F17/50 , G01N21/95
CPC分类号： G06F17/5081
摘要：一種方法包含：識別具有一第一敏感臨限值之一第一關注區域之一第一集合，該第一關注區域與設計資料中之一重複單元區塊內之一第一受關注設計相關聯；識別具有一額外敏感臨限值之一額外關注區域之一額外集合，該額外關注區域與設計資料中之重複單元區塊內之一額外受關注設計相關聯；基於該第一敏感臨限值識別一樣本之一選定區域之一或多個影像中之第一關注區域之該第一集合內之一或多個缺陷；及基於該額外敏感臨限值識別該樣本之該選定區域之該一或多個影像中之該等額外關注區域之該額外集合內之一或多個缺陷。
简体摘要：一种方法包含：识别具有一第一敏感临限值之一第一关注区域之一第一集合，该第一关注区域与设计数据中之一重复单元区块内之一第一受关注设计相关联；识别具有一额外敏感临限值之一额外关注区域之一额外集合，该额外关注区域与设计数据中之重复单元区块内之一额外受关注设计相关联；基于该第一敏感临限值识别一样本之一选定区域之一或多个影像中之第一关注区域之该第一集合内之一或多个缺陷；及基于该额外敏感临限值识别该样本之该选定区域之该一或多个影像中之该等额外关注区域之该额外集合内之一或多个缺陷。

6. 发明专利

TW201514927A 適應性局部臨限及色彩篩選审中-公开
简体标题：适应性局部临限及色彩筛选
公开(公告)号：TW201514927A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103127350
申请日：2014-08-08
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：黃軍秦 , HUANG, JUNQING , 李虎成 , LEE, HUCHENG , 吳肯翁 , WU, KENONG , 高理升 , GAO, LISHENG
IPC分类号： G06T7/00 , G01N21/88
CPC分类号： G06T7/0008 , G06T7/0006 , G06T7/90 , G06T2207/10024 , G06T2207/20024 , G06T2207/20076 , G06T2207/30148
摘要：本發明提供使用適應性局部臨限及色彩篩選來偵測一晶圓上之缺陷之方法及系統。一種方法包含：判定使用一檢測系統所產生之一晶圓之輸出中之像素的局部統計資料；基於該等局部統計資料來判定像素的哪些係離群點；及比較該等離群點與圍繞該等離群點之該等像素，以識別不屬於離群點之一群集之作為缺陷候選者之該等離群點。該方法亦包含：判定該等缺陷候選者之該等像素與圍繞該等缺陷候選者之該等像素之間之一色彩差異之一值。該方法進一步包含：識別具有大於或等於一預定值之該色彩差異之一值之作為擾亂點缺陷之該等缺陷候選者；及識別具有小於該預定值之該色彩差異之一值之作為真實缺陷之該等缺陷候選者。
简体摘要：本发明提供使用适应性局部临限及色彩筛选来侦测一晶圆上之缺陷之方法及系统。一种方法包含：判定使用一检测系统所产生之一晶圆之输出中之像素的局部统计数据；基于该等局部统计数据来判定像素的哪些系离群点；及比较该等离群点与围绕该等离群点之该等像素，以识别不属于离群点之一群集之作为缺陷候选者之该等离群点。该方法亦包含：判定该等缺陷候选者之该等像素与围绕该等缺陷候选者之该等像素之间之一色彩差异之一值。该方法进一步包含：识别具有大于或等于一预定值之该色彩差异之一值之作为扰乱点缺陷之该等缺陷候选者；及识别具有小于该预定值之该色彩差异之一值之作为真实缺陷之该等缺陷候选者。

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