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1. 发明专利

TW200931572A 基板處理設備 APPARATUS FOR PROCESSING A SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：基板处理设备 APPARATUS FOR PROCESSING A SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200931572A
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：TW097143759
申请日：2008-11-12
申请人：細美事有限公司 SEMES CO., LTD.
发明人：朴奇洪 GI-HONG PARK
IPC分类号： H01L
摘要：一種基板處理裝置,包括一處理室、至少一第一供應線、一噴射器及一驅動單元。處理室用以提供一空間以處理一基板。第一供應線設置於處理室並沿著一第一方向延伸,第一供應線用以讓一處理液由第一供應線的兩端部進入並於第一供應線內流動。噴射器係連接第一供應線,噴射器係往基板之方向延伸並提供處理液於基板。驅動單元係以非接觸方式搖動第一供應線,以使噴射器沿著一第二方向搖動,第二方向係實質上垂直第一方向。因此,本基板處理裝置可均勻地提供處理液至基板。
简体摘要：一种基板处理设备,包括一处理室、至少一第一供应线、一喷射器及一驱动单元。处理室用以提供一空间以处理一基板。第一供应线设置于处理室并沿着一第一方向延伸,第一供应线用以让一处理液由第一供应线的两端部进入并于第一供应线内流动。喷射器系连接第一供应线,喷射器系往基板之方向延伸并提供处理液于基板。驱动单元系以非接触方式摇动第一供应线,以使喷射器沿着一第二方向摇动,第二方向系实质上垂直第一方向。因此,本基板处理设备可均匀地提供处理液至基板。

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