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1. 发明专利

TW201027279A 基板處理裝置及方法 NOZZLE AND APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE USING THE NOZZLE 审中-公开
简体标题：基板处理设备及方法 NOZZLE AND APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE USING THE NOZZLE
公开(公告)号：TW201027279A
公开(公告)日：2010-07-16
申请号：TW098139597
申请日：2009-11-20
申请人：細美事有限公司
发明人：朴性雲 , 朴相旭 , 高在昇
IPC分类号： G03F , H01L , B05B
CPC分类号： H01L21/67178 , H01L21/6715
摘要：一種基板處理裝置,其包含:一基板支撐構件,其具有一旋轉頭,該旋轉頭上放置有一基板;一噴嘴,,其將處理液體排放至放置於該旋轉頭上之基板;及一處理液體供應源,其將該處理液體供應至該噴嘴。該噴嘴包含一具有複數個離散排放口及一整合排放口之噴嘴主體。該等離散排放口具有一具有一第一長度之狹縫狀橫截面,並在一預定方向上串聯排列。該整合排放口藉由以一長度大於該第一長度之單槽形狀將該等離散排放口彼此連接而形成,且最終排放該處理液體。
简体摘要：一种基板处理设备,其包含:一基板支撑构件,其具有一旋转头,该旋转头上放置有一基板;一喷嘴,,其将处理液体排放至放置于该旋转头上之基板;及一处理液体供应源,其将该处理液体供应至该喷嘴。该喷嘴包含一具有复数个离散排放口及一集成排放口之喷嘴主体。该等离散排放口具有一具有一第一长度之狭缝状横截面,并在一预定方向上串联排列。该集成排放口借由以一长度大于该第一长度之单槽形状将该等离散排放口彼此连接而形成,且最终排放该处理液体。

2. 发明专利

TWI455228B 處理液供應單元、基板處理裝置及方法有权
简体标题：处理液供应单元、基板处理设备及方法
公开(公告)号：TWI455228B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW098140153
申请日：2009-11-25
申请人：細美事有限公司 , SEMES CO., LTD.
发明人：朴相旭 , PARK, SANG-UK , 高在昇 , GO, JAE-SEUNG
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67103 , B05B9/002 , B05C11/1042 , G03F7/162 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67109 , H01L21/6715 , H05B2203/032

3. 发明专利

TWI409596B 基板處理裝置及方法有权
简体标题：基板处理设备及方法
公开(公告)号：TWI409596B
公开(公告)日：2013-09-21
申请号：TW098139597
申请日：2009-11-20
申请人：細美事有限公司 , SEMES CO., LTD.
发明人：朴性雲 , PARK, SUNG-WOON , 朴相旭 , PARK, SANG-UK , 高在昇 , GO, JAE-SEUNG
IPC分类号： G03F7/30 , H01L21/027 , B05B1/14 , B05B12/04
CPC分类号： H01L21/67178 , H01L21/6715

4. 发明专利

TW201030880A 處理液供應單元、基板處理裝置及方法 UNIT FOR SUPPLYING TREATING LIQUID, AND APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE USING THE SAME 审中-公开
简体标题：处理液供应单元、基板处理设备及方法 UNIT FOR SUPPLYING TREATING LIQUID, AND APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE USING THE SAME
公开(公告)号：TW201030880A
公开(公告)日：2010-08-16
申请号：TW098140153
申请日：2009-11-25
申请人：細美事有限公司
发明人：朴相旭 , 高在昇
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67103 , B05B9/002 , B05C11/1042 , G03F7/162 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67109 , H01L21/6715 , H05B2203/032
摘要：本發明提供一種處理液供應單元,以及使用該單元的一種基板處理裝置及方法。無論是噴嘴臂在一待命位置待命時,或是在製程在一處理位置中執行時,或是在待命位置及處理位置移動中,透過一噴嘴臂與一等待區之間的熱傳遞,以及透過噴嘴臂與一噴嘴移動單元之間的熱傳遞,內建於噴嘴臂的一處理液管內的處理液可被維持在一預定的溫度。如此,藉由該處理液供應單元以及使用該單元的基板處理裝置及方法,一噴嘴所供應的處理液可被維持在一預定溫度。
简体摘要：本发明提供一种处理液供应单元,以及使用该单元的一种基板处理设备及方法。无论是喷嘴臂在一待命位置待命时,或是在制程在一处理位置中运行时,或是在待命位置及处理位置移动中,透过一喷嘴臂与一等待区之间的热传递,以及透过喷嘴臂与一喷嘴移动单元之间的热传递,内置于喷嘴臂的一处理液管内的处理液可被维持在一预定的温度。如此,借由该处理液供应单元以及使用该单元的基板处理设备及方法,一喷嘴所供应的处理液可被维持在一预定温度。

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