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1. 发明专利

TW201515302A 有機ＥＬ元件之製造方法、有機ＥＬ元件、有機ＥＬ裝置、電子機器审中-公开
简体标题：有机ＥＬ组件之制造方法、有机ＥＬ组件、有机ＥＬ设备、电子机器
公开(公告)号：TW201515302A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103130005
申请日：2014-08-29
申请人：精工愛普生股份有限公司 , SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：佐合拓己 , SAGO, TAKUMI , 渡邊昭太朗 , WATANABE, SHOTARO , 田邊誠一 , TANABE, SEIICHI , 石田紘平 , ISHIDA, KOHEI
IPC分类号： H01L51/54 , H01L51/50
CPC分类号： H01L51/56 , H01L27/3211 , H01L27/3244 , H01L51/0005 , H01L51/0008 , H01L51/0037 , H01L51/004 , H01L51/0059 , H01L51/0081 , H01L51/5012 , H01L51/506 , H01L51/5072 , H01L51/5092
摘要：本發明之目的係提供一種具有優異之發光效率與發光壽命之有機EL元件之製造方法、有機EL元件、具備該有機EL元件之有機EL裝置、電子機器。本發明之有機EL元件130係於作為陽極之像素電極131與作為陰極之對向電極134之間具備至少包含自像素電極131側依序積層之電洞注入層132a、電洞傳輸層132b、發光層132c之功能層132，且有機EL元件130之製造方法之特徵在於：具有塗佈包含低分子材料與高分子材料之溶液而形成電洞注入層132a、電洞傳輸層132b、發光層132c中之至少1層的步驟，且低分子材料之分子量為1萬以下，高分子材料之分子量為1萬以上且30萬以下，相對於溶液中所含之低分子材料及高分子材料之重量，低分子材料之混合比率為10wt%~90wt%。
简体摘要：本发明之目的系提供一种具有优异之发光效率与发光寿命之有机EL组件之制造方法、有机EL组件、具备该有机EL组件之有机EL设备、电子机器。本发明之有机EL组件130系于作为阳极之像素电极131与作为阴极之对向电极134之间具备至少包含自像素电极131侧依序积层之电洞注入层132a、电洞传输层132b、发光层132c之功能层132，且有机EL组件130之制造方法之特征在于：具有涂布包含低分子材料与高分子材料之溶液而形成电洞注入层132a、电洞传输层132b、发光层132c中之至少1层的步骤，且低分子材料之分子量为1万以下，高分子材料之分子量为1万以上且30万以下，相对于溶液中所含之低分子材料及高分子材料之重量，低分子材料之混合比率为10wt%~90wt%。

2. 发明专利

TWI648895B 有機ＥＬ元件之製造方法、有機ＥＬ元件、有機ＥＬ裝置、電子機器有权
简体标题：有机ＥＬ组件之制造方法、有机ＥＬ组件、有机ＥＬ设备、电子机器
公开(公告)号：TWI648895B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW103130005
申请日：2014-08-29
申请人：日商精工愛普生股份有限公司 , SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：佐合拓己 , SAGO, TAKUMI , 渡邊昭太朗 , WATANABE, SHOTARO , 田邊誠一 , TANABE, SEIICHI , 石田紘平 , ISHIDA, KOHEI
IPC分类号： H01L51/54 , H01L51/50

3. 发明专利

TW202010767A 片材製造用結合素材、收容容器、片材及片材製造裝置审中-公开
简体标题：片材制造用结合素材、收容容器、片材及片材制造设备
公开(公告)号：TW202010767A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108131632
申请日：2019-09-03
申请人：日商精工愛普生股份有限公司 , SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：佐合拓己 , SAGO, TAKUMI , 上野芳弘 , UENO, YOSHIHIRO , 倉田紘樹 , KURATA, HIROKI , 関俊一 , SEKI, SHUNICHI , 須田春奈 , SUDA, HARUNA
IPC分类号： C08G63/183 , C08G63/127 , B27N3/04 , B27N3/12
摘要：本發明係獲得粉末加工性良好且製得之片材之高溫剛性良好之片材製造用結合素材。片材製造用結合素材包含藉由使具有2級羥基之多元醇及多元酸反應而獲得之聚酯。
简体摘要：本发明系获得粉末加工性良好且制得之片材之高温刚性良好之片材制造用结合素材。片材制造用结合素材包含借由使具有2级羟基之多元醇及多元酸反应而获得之聚酯。

4. 发明专利

TWI672230B 片材處理裝置、片材製造裝置及片材處理方法有权
简体标题：片材处理设备、片材制造设备及片材处理方法
公开(公告)号：TWI672230B
公开(公告)日：2019-09-21
申请号：TW107133717
申请日：2018-09-26
申请人：日商精工愛普生股份有限公司 , SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：藤井竜也 , FUJII, TATSUYA , 佐合拓己 , SAGO, TAKUMI , 大田司 , OTA, TSUKASA , 吉岡佐登美 , YOSHIOKA, SATOMI
IPC分类号： B41L23/00 , B41L27/00 , G03B27/00

5. 发明专利

TW201415625A 有機ＥＬ裝置、有機ＥＬ裝置之製造方法及電子機器审中-公开
简体标题：有机ＥＬ设备、有机ＥＬ设备之制造方法及电子机器
公开(公告)号：TW201415625A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102135195
申请日：2013-09-27
申请人：精工愛普生股份有限公司 , SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：佐合拓己 , SAGO, TAKUMI
IPC分类号： H01L27/32 , H01L51/50
CPC分类号： H01L27/3211 , H01L51/0003 , H01L51/0005 , H01L51/0008 , H01L51/001 , H01L51/006 , H01L51/0077 , H01L51/0078 , H01L51/5012 , H01L51/504 , H01L51/56 , H01L2251/56
摘要：本發明之課題在於提供一種具有較高的發光品質、發光效率、及發光壽命之有機EL裝置、有機EL裝置之製造方法及電子機器。有機EL裝置11包含：像素38，其具有子像素34R、34G、34B；陽極24R、24G、24B，其等設置於子像素34R、34G、34B中；陰極25；發光層63R、63G，其等以塗佈方式形成於子像素34R、34G之陽極24R、24G與陰極25之間，且具有發出紅色、綠色之光的功能；發光層63B，其遍及子像素34R、34G、34B，以蒸鍍方式形成於發光層63R、63G與陰極25之間、以及陽極24B與陰極25之間，且具有發出藍色之光的功能；以及紅外發光層64，其遍及子像素34R、34G、34B，以蒸鍍方式形成於發光層63R、63G與發光層63B之間、以及陽極24B與發光層63B之間，且具有發出紅外光的功能。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种具有较高的发光品质、发光效率、及发光寿命之有机EL设备、有机EL设备之制造方法及电子机器。有机EL设备11包含：像素38，其具有子像素34R、34G、34B；阳极24R、24G、24B，其等设置于子像素34R、34G、34B中；阴极25；发光层63R、63G，其等以涂布方式形成于子像素34R、34G之阳极24R、24G与阴极25之间，且具有发出红色、绿色之光的功能；发光层63B，其遍及子像素34R、34G、34B，以蒸镀方式形成于发光层63R、63G与阴极25之间、以及阳极24B与阴极25之间，且具有发出蓝色之光的功能；以及红外发光层64，其遍及子像素34R、34G、34B，以蒸镀方式形成于发光层63R、63G与发光层63B之间、以及阳极24B与发光层63B之间，且具有发出红外光的功能。

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