会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 5. 发明专利
    • 發光裝置、發光裝置之製造方法及電子機器 LIGHT-EMITTING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT-EMITTING DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS
    • 发光设备、发光设备之制造方法及电子机器 LIGHT-EMITTING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT-EMITTING DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS
    • TWI336210B
    • 2011-01-11
    • TW095101766
    • 2006-01-17
    • 精工愛普生股份有限公司
    • 林建二
    • H05BH01L
    • H01L51/5259H01L27/3223H01L27/3244H01L27/3295H01L51/5246H01L51/5253Y10T428/24942
    • 本發明係一種發光裝置,發光裝置之製造方法及電子機器,其課題為提供抑制因氣體阻障層的剝離或縫裂引起之水分侵入的發光裝置,及其發光裝置之製造方法,以及電子機器,其解決手段為發光裝置(1)係於基板上具有複數之第一電極(23)、和具有對應於前述第一電極(23)之形成位置的複數開口部(221a)之間隔壁(221)、和配置於各開口部(221a)之有機機能層(60)、和被覆間隔壁(221)及有機機能層(60)的第二電極(50)、和被覆第二電極(50)的同時,形成平坦之上面的有機緩衝層(210)、和被覆有機緩衝層(210)之氣體阻障層30、和於有機緩衝層(210)與氣體阻障層(30)之間,配置彈性係數較有機緩衝層為大,且較氣體阻障層為小的中間保護層(212)。
    • 本发明系一种发光设备,发光设备之制造方法及电子机器,其课题为提供抑制因气体阻障层的剥离或缝裂引起之水分侵入的发光设备,及其发光设备之制造方法,以及电子机器,其解决手段为发光设备(1)系于基板上具有复数之第一电极(23)、和具有对应于前述第一电极(23)之形成位置的复数开口部(221a)之间隔壁(221)、和配置于各开口部(221a)之有机机能层(60)、和被覆间隔壁(221)及有机机能层(60)的第二电极(50)、和被覆第二电极(50)的同时,形成平坦之上面的有机缓冲层(210)、和被覆有机缓冲层(210)之气体阻障层30、和于有机缓冲层(210)与气体阻障层(30)之间,配置弹性系数较有机缓冲层为大,且较气体阻障层为小的中间保护层(212)。
    • 7. 发明专利
    • 發光裝置及電子機器 LIGHT-EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS
    • 发光设备及电子机器 LIGHT-EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS
    • TWI352554B
    • 2011-11-11
    • TW095143056
    • 2006-11-21
    • 精工愛普生股份有限公司
    • 林建二山內幸夫
    • H05B
    • H01L51/5253H01L27/322H01L27/3244H01L27/3295H01L51/5246
    • 本發明係一種發光裝置及電子機器,其課題為:由不易破損或剝離之氣體阻隔層,充分地密封發光元件,而解決手段係具備配列於主基板10上之複數的有機EL元件P1,與被覆複數的有機EL元件P1之有機緩衝層19,與配置於有機緩衝層19上之第1氣體阻隔層20及第2氣體阻隔層21,另,有機EL元件P1係使用經由電場而激發進行發光的有機化合物,進行發光,對於主基板10上係根據有機EL元件P1而具有階差,有機緩衝層19係由有機化合物所形成,並比較於陰極上面的階差,有機緩衝層上面的階差為小地作為略平坦化,另,重疊於由無機化合物所形成之第1氣體阻隔層20之基板10上的範圍與重疊於由無機化合物所形成之第2氣體阻隔層21之基板10上的範圍係並無完全一致地重疊。
    • 本发明系一种发光设备及电子机器,其课题为:由不易破损或剥离之气体阻隔层,充分地密封发光组件,而解决手段系具备配列于主基板10上之复数的有机EL组件P1,与被覆复数的有机EL组件P1之有机缓冲层19,与配置于有机缓冲层19上之第1气体阻隔层20及第2气体阻隔层21,另,有机EL组件P1系使用经由电场而激发进行发光的有机化合物,进行发光,对于主基板10上系根据有机EL组件P1而具有阶差,有机缓冲层19系由有机化合物所形成,并比较于阴极上面的阶差,有机缓冲层上面的阶差为小地作为略平坦化,另,重叠于由无机化合物所形成之第1气体阻隔层20之基板10上的范围与重叠于由无机化合物所形成之第2气体阻隔层21之基板10上的范围系并无完全一致地重叠。
    • 8. 发明专利
    • 發光裝置及電子機器 LIGHT-EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS
    • 发光设备及电子机器 LIGHT-EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS
    • TWI344802B
    • 2011-07-01
    • TW095139585
    • 2006-10-26
    • 精工愛普生股份有限公司
    • 林建二
    • H05B
    • H01L51/5253H01L27/3244H01L51/5246
    • 本發明乃一種發光裝置及電子機器,其課題為將難以破裂或剝離之氣體障壁層,充分封閉發光元件者。
      其解決手段乃具備排列於主基板10上之複數之有機EL元件P1、被覆此等之第1之有機緩衝層191、配置於第1之有機緩衝層191上,重疊於複數之有機EL元件P1之第2之有機緩衝層192及氣體障壁層20。有機緩衝層為2層構成之故,各有機緩衝層之厚度會變薄。各有機緩衝層乃經由塗佈而形成者之故,各有機緩衝層之薄度乃關連於各有機緩衝層之最外端之角度。又,重疊於第2之有機緩衝層192之主基板10上之範圍,乃不一致於重疊在第1之有機緩衝層191主基板10上之範圍。因此,氣體障壁層20之上昇部分中,氣體障壁層20之上昇角度則會緩緩地增加。因此,氣體障壁層20則會緩和上昇。
    • 本发明乃一种发光设备及电子机器,其课题为将难以破裂或剥离之气体障壁层,充分封闭发光组件者。 其解决手段乃具备排列于主基板10上之复数之有机EL组件P1、被覆此等之第1之有机缓冲层191、配置于第1之有机缓冲层191上,重叠于复数之有机EL组件P1之第2之有机缓冲层192及气体障壁层20。有机缓冲层为2层构成之故,各有机缓冲层之厚度会变薄。各有机缓冲层乃经由涂布而形成者之故,各有机缓冲层之薄度乃关连于各有机缓冲层之最外端之角度。又,重叠于第2之有机缓冲层192之主基板10上之范围,乃不一致于重叠在第1之有机缓冲层191主基板10上之范围。因此,气体障壁层20之上升部分中,气体障壁层20之上升角度则会缓缓地增加。因此,气体障壁层20则会缓和上升。