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    • 1. 发明专利
    • 直接冶煉設備及方法 DIRECT SMELTING PLANT AND PROCESS
    • 直接冶炼设备及方法 DIRECT SMELTING PLANT AND PROCESS
    • TWI350313B
    • 2011-10-11
    • TW093109945
    • 2004-04-09
    • 科學技術資源有限公司
    • 德烈 羅德尼J雷夫 大衛J
    • C22BC21B
    • C21B13/0013C21C5/567F27B1/20F27D3/1518F27D3/1545F27D3/16F27D3/18F27D2003/168Y02P10/136
    • 揭示一種直接冶煉設備之固體饋送裝置。固體饋送裝置包括2對或2對以上之噴管,來將直接冶煉方法之固體進料注入直接冶煉容器。固體饋送裝置也包括一條主供應管線以及一對分支管線,來供給固體進料至各對噴管之各噴管,分支管線交互連結主供應管線與該對噴管之各噴管。噴管係設置呈以直徑相對之成對噴管而環繞容器配置。至少一對噴管係設置供注入含金屬進料(例如含鐵材料,特別為鐵礦細料),以及其它成對噴管中之至少一對噴管係設置成供注入固體含碳材料(例如煤),以及選擇性助熔劑。該對噴管係環繞容器設置,讓毗鄰噴管為供注入不同材料用之噴管。
    • 揭示一种直接冶炼设备之固体馈送设备。固体馈送设备包括2对或2对以上之喷管,来将直接冶炼方法之固体进料注入直接冶炼容器。固体馈送设备也包括一条主供应管线以及一对分支管线,来供给固体进料至各对喷管之各喷管,分支管线交互链接主供应管线与该对喷管之各喷管。喷管系设置呈以直径相对之成对喷管而环绕容器配置。至少一对喷管系设置供注入含金属进料(例如含铁材料,特别为铁矿细料),以及其它成对喷管中之至少一对喷管系设置成供注入固体含碳材料(例如煤),以及选择性助熔剂。该对喷管系环绕容器设置,让毗邻喷管为供注入不同材料用之喷管。