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1. 发明专利

TW201830454A 電漿輔助原子層鍍膜裝置审中-公开
简体标题：等离子辅助原子层镀膜设备
公开(公告)号：TW201830454A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106103641
申请日：2017-02-03
申请人：真環科技有限公司
发明人：張文吉 , CHANG, WEN CHI , 翁敏航 , WENG, MIN HANG
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C16/509
摘要：本發明提供一種電漿輔助原子層鍍膜裝置，主要包含反應腔體，複數條進料管路，真空幫浦與射頻模組。其中該反應腔體包含一電極板與一加熱板；該射頻模組主要包含一射頻功率源，一阻抗匹配器，複數條阻抗匹配傳輸線所組成。藉由調整該些阻抗匹配傳輸線連接在該反應腔體內之該電極板的數量與位置，該射頻模組可快速提供低反射的超高頻功率至該電極板，並可以在大面積的電極板上得到穩定且均勻的電磁波分布。
简体摘要：本发明提供一种等离子辅助原子层镀膜设备，主要包含反应腔体，复数条进料管路，真空帮浦与射频模块。其中该反应腔体包含一电极板与一加热板；该射频模块主要包含一射频功率源，一阻抗匹配器，复数条阻抗匹配传输线所组成。借由调整该些阻抗匹配传输线连接在该反应腔体内之该电极板的数量与位置，该射频模块可快速提供低反射的超高频功率至该电极板，并可以在大面积的电极板上得到稳定且均匀的电磁波分布。

2. 实用新型

TWM557266U 氣體回收模組有权
简体标题：气体回收模块
公开(公告)号：TWM557266U
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW106209934
申请日：2017-07-06
申请人：真環科技有限公司
发明人：張文吉 , CHANG, WEN CHI , 莊峻銘 , CHUANG, CHUN MING , 楊宗霖 , YANG, TSUNG LIN , 翁敏航 , WENG, MIN HANG
IPC分类号： C23C16/00

3. 发明专利

TWI644328B 絕緣銅線與其加工方法有权
简体标题：绝缘铜线与其加工方法
公开(公告)号：TWI644328B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW106122689
申请日：2017-07-06
申请人：真環科技有限公司
发明人：張文吉 , CHANG, WEN CHI , 楊宗霖 , YANG, TSUNG LIN , 翁敏航 , WENG, MIN HANG
IPC分类号： H01B7/02 , H01B5/02 , H01B3/30 , H01B3/12 , H01B13/16 , B82Y30/00 , H01R4/24

4. 实用新型

TWM553800U 緊固模組有权
简体标题：紧固模块
公开(公告)号：TWM553800U
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106211834
申请日：2017-08-10
申请人：真環科技有限公司
发明人：楊宗霖 , YANG, TSUNGLIN , 熊治勇 , 翁敏航 , WENG, MINHANG , 邱正杰
IPC分类号： F24J2/52

5. 发明专利

TW201907052A 具有回收模組之原子層鍍膜系統與方法审中-公开
简体标题：具有回收模块之原子层镀膜系统与方法
公开(公告)号：TW201907052A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW106122690
申请日：2017-07-06
申请人：真環科技有限公司 , GREEN EPOXY TECHNOLOGY CORP., LTD.
发明人：張文吉 , CHANG, WEN CHI , 莊峻銘 , CHUANG, CHUN MING , 楊宗霖 , YANG, TSUNG LIN , 翁敏航 , WENG, MIN HANG
IPC分类号： C23C16/56 , C23C16/455 , B01D5/00 , H01L21/67
摘要：本發明提供一種具有回收模組之原子層鍍膜系統與方法。該裝置主要包含：一氣體傳送模組，提供至少一氣體；一反應腔體，具有複數個進氣管路及一出氣管路，接收來自一氣體傳送模組之該些氣體；一真空幫浦，連接於該反應腔體之該出氣管路，具有一出氣管路，用於將該反應腔體的未反應的氣體與副產物抽出；以及一氣體處理模組，連接於該真空幫浦之該出氣管路，用於有效分離該反應腔體的未反應的氣體與副產物。本發明更揭示使用具有回收模組之原子層鍍膜方法。藉由本發明之回收模組，該原子層鍍膜系統與方法可以將前驅物有效地回收，並減少廢氣廢水對環境的污染。
简体摘要：本发明提供一种具有回收模块之原子层镀膜系统与方法。该设备主要包含：一气体发送模块，提供至少一气体；一反应腔体，具有复数个进气管路及一出气管路，接收来自一气体发送模块之该些气体；一真空帮浦，连接于该反应腔体之该出气管路，具有一出气管路，用于将该反应腔体的未反应的气体与副产物抽出；以及一气体处理模块，连接于该真空帮浦之该出气管路，用于有效分离该反应腔体的未反应的气体与副产物。本发明更揭示使用具有回收模块之原子层镀膜方法。借由本发明之回收模块，该原子层镀膜系统与方法可以将前驱物有效地回收，并减少废气废水对环境的污染。

6. 实用新型

TWM553913U 電漿輔助原子層鍍膜裝置有权
简体标题：等离子辅助原子层镀膜设备
公开(公告)号：TWM553913U
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106201716
申请日：2017-02-03
申请人：真環科技有限公司
发明人：張文吉 , CHANG, WEN CHI , 翁敏航 , WENG, MIN HANG
IPC分类号： H05H1/46 , C23C4/134

7. 发明专利

TWI639178B 電漿輔助原子層鍍膜裝置有权
简体标题：等离子辅助原子层镀膜设备
公开(公告)号：TWI639178B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW106103641
申请日：2017-02-03
申请人：真環科技有限公司
发明人：張文吉 , CHANG, WEN CHI , 翁敏航 , WENG, MIN HANG
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C16/509

8. 发明专利

TW201907418A 絕緣銅線與其加工方法审中-公开
简体标题：绝缘铜线与其加工方法
公开(公告)号：TW201907418A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW106122689
申请日：2017-07-06
申请人：真環科技有限公司
发明人：張文吉 , CHANG, WEN CHI , 楊宗霖 , YANG, TSUNG LIN , 翁敏航 , WENG, MIN HANG
IPC分类号： H01B7/02 , H01B5/02 , H01B3/30 , H01B3/12 , H01B13/16 , B82Y30/00 , H01R4/24
摘要：本發明揭示絕緣銅線與其加工方法。該絕緣銅線包含一銅線，該銅線的表面披覆一複合樹脂層；其中，該複合樹脂層係由一有機材料與一無機奈米陶瓷材料經由化學接枝所形成，該無機奈米陶瓷材料佔該複合樹脂層的整體重量的60%以上。該無機奈米陶瓷材料係選自奈米氧化鋁、奈米氧化矽與奈米氧化鈦所組成之族群。藉由使用該複合樹脂層。本發明所提出之絕緣銅線，可以達到較佳的介電崩潰強度，且適用於各種電子產品的電性連接。
简体摘要：本发明揭示绝缘铜线与其加工方法。该绝缘铜线包含一铜线，该铜线的表面披覆一复合树脂层；其中，该复合树脂层系由一有机材料与一无机奈米陶瓷材料经由化学接枝所形成，该无机奈米陶瓷材料占该复合树脂层的整体重量的60%以上。该无机奈米陶瓷材料系选自奈米氧化铝、奈米氧化硅与奈米氧化钛所组成之族群。借由使用该复合树脂层。本发明所提出之绝缘铜线，可以达到较佳的介电崩溃强度，且适用于各种电子产品的电性连接。

9. 实用新型

TWM556969U 支撐扣件有权
简体标题：支撑扣件
公开(公告)号：TWM556969U
公开(公告)日：2018-03-11
申请号：TW106211833
申请日：2017-08-10
申请人：真環科技有限公司
发明人：楊宗霖 , YANG, TSUNGLIN , 熊治勇 , 翁敏航 , WENG, MINHANG , 邱正杰
IPC分类号： H02S20/22 , F24J2/52

10. 实用新型

TWM546073U 原子層鍍膜裝置有权
简体标题：原子层镀膜设备
公开(公告)号：TWM546073U
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW106204546
申请日：2017-03-31
申请人：真環科技有限公司
发明人：張文吉 , CHANG, WEN CHI , 翁敏航 , WENG, MIN HANG , 莊峻銘 , CHUANG, CHUN MING
IPC分类号： H05H1/46 , C23C4/134

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