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1. 发明专利

TWI518159B 丙烯酸系黏著劑組成物、丙烯酸系黏著劑及附有黏著劑層的光學構件有权
简体标题：丙烯酸系黏着剂组成物、丙烯酸系黏着剂及附有黏着剂层的光学构件
公开(公告)号：TWI518159B
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：TW100141155
申请日：2011-11-11
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：黑川敦史 , KUROKAWA, ATSUSHI , 荒井隆行 , ARAI, TAKAYUKI , 又野仁 , MATANO, TADASHI
IPC分类号： C09J133/08 , C09J153/00 , G02F1/1335

2. 发明专利

TW201437319A 雙面黏著片审中-公开
简体标题：双面黏着片
公开(公告)号：TW201437319A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW103111564
申请日：2014-03-27
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：黑川敦史 , KUROKAWA, ATSUSHI , 加茂雅康 , KAMO, MASAYASU , 遠藤優季 , ENDO, YUKI
IPC分类号： C09J7/02 , B32B7/06
CPC分类号： B32B7/12 , B32B7/06 , B32B2307/42 , B32B2307/748 , B32B2457/202 , C09J7/10 , C09J2201/622
摘要：本發明之雙面黏著片包括具有第一表面及第二表面之黏著劑層、貼附於此黏著劑層之此第一表面之第一離形膜及貼附於此黏著劑層之此第二表面之第二離形膜。此黏著劑層於攝氏23度時的儲存彈性模數為0.3 MPa以上。此第二離形膜從此黏著劑層剝離下來之離形力係小於此第一離形膜從此黏著劑層剝離下來之離形力。此第二離形膜之構成方式，係與此黏著劑層接觸之表面之算數平均粗糙度Ra2為30 nm以下，且其最大突起高度Rp2為250 nm以下。如此之雙面黏著片隨著優化其耐久性的同時，亦防止第二離形膜與黏著劑層之間發生氣泡(層疊氣泡)。
简体摘要：本发明之双面黏着片包括具有第一表面及第二表面之黏着剂层、贴附于此黏着剂层之此第一表面之第一离形膜及贴附于此黏着剂层之此第二表面之第二离形膜。此黏着剂层于摄氏23度时的存储弹性模数为0.3 MPa以上。此第二离形膜从此黏着剂层剥离下来之离形力系小于此第一离形膜从此黏着剂层剥离下来之离形力。此第二离形膜之构成方式，系与此黏着剂层接触之表面之算数平均粗糙度Ra2为30 nm以下，且其最大突起高度Rp2为250 nm以下。如此之双面黏着片随着优化其耐久性的同时，亦防止第二离形膜与黏着剂层之间发生气泡(层叠气泡)。

3. 发明专利

TW201412925A 保護薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：保护薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201412925A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102124895
申请日：2013-07-11
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：黑川敦史 , KUROKAWA, ATSUSHI , 荒井隆行 , ARAI, TAKAYUKI , 所司悟 , SHOSHI, SATORU
IPC分类号： C09J7/02 , C09J133/08
摘要：本發明係關於一種保護薄膜，係具有黏著劑層之保護薄膜，其特徵為：前述黏著劑層係由包含藉由活性自由基聚合所得到之重量平均分子量為40萬~200萬且分子量分布的值小於2.5的共聚物(甲基)丙烯酸酯系共聚物(A)的黏著劑組成物形成，前述(甲基)丙烯酸酯系共聚物(A)包含源自乙烯性不飽和羧酸之單體單元(a)。相對於前述(甲基)丙烯酸酯系共聚物(A)中的全部單體單元，前述源自乙烯性不飽和羧酸之單體單元(a)的比例為0.05質量%以上。依據本發明，可提供一種具有黏著劑層之保護薄膜，其在黏貼於被接著體上時，能以充分的黏著力接著在被接著體上，且在剝離時，附著在被接著體的殘渣物極少。
简体摘要：本发明系关于一种保护薄膜，系具有黏着剂层之保护薄膜，其特征为：前述黏着剂层系由包含借由活性自由基聚合所得到之重量平均分子量为40万~200万且分子量分布的值小于2.5的共聚物(甲基)丙烯酸酯系共聚物(A)的黏着剂组成物形成，前述(甲基)丙烯酸酯系共聚物(A)包含源自乙烯性不饱和羧酸之单体单元(a)。相对于前述(甲基)丙烯酸酯系共聚物(A)中的全部单体单元，前述源自乙烯性不饱和羧酸之单体单元(a)的比例为0.05质量%以上。依据本发明，可提供一种具有黏着剂层之保护薄膜，其在黏贴于被接着体上时，能以充分的黏着力接着在被接着体上，且在剥离时，附着在被接着体的残渣物极少。

4. 发明专利

TWI579364B 雙面黏著片有权
简体标题：双面黏着片
公开(公告)号：TWI579364B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW103111569
申请日：2014-03-27
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：黑川敦史 , KUROKAWA, ATSUSHI , 加茂雅康 , KAMO, MASAYASU
IPC分类号： C09J7/02 , B32B7/06
CPC分类号： C09J133/06 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/308 , B32B27/36 , B32B2307/748 , B32B2405/00 , B32B2457/00 , C09J7/10 , C09J7/403 , C09J2201/134 , C09J2201/622 , C09J2203/326

5. 发明专利

TWI527871B 黏著性組合物、黏著劑以及黏著片有权
简体标题：黏着性组合物、黏着剂以及黏着片
公开(公告)号：TWI527871B
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW101117516
申请日：2012-05-17
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：黑川敦史 , KUROKAWA, ATSUSHI , 又野仁 , MATANO, TADASHI , 荒井隆行 , ARAI, TAKAYUKI , 所司悟 , SHOSHI, SATORU
IPC分类号： C09J7/02 , C09J133/08 , C09J11/06 , C08J3/24 , B32B7/12 , G02B5/30

6. 发明专利

TWI534225B 黏著性組合物、黏著劑以及黏著片有权
简体标题：黏着性组合物、黏着剂以及黏着片
公开(公告)号：TWI534225B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW101117517
申请日：2012-05-17
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：黑川敦史 , KUROKAWA, ATSUSHI , 又野仁 , MATANO, TADASHI , 荒井隆行 , ARAI, TAKAYUKI , 所司悟 , SHOSHI, SATORU
IPC分类号： C09J133/08 , C09J7/02

7. 发明专利

TWI504707B 光學用黏著劑、光學用黏著片及附有黏著劑層之光學構件有权
简体标题：光学用黏着剂、光学用黏着片及附有黏着剂层之光学构件
公开(公告)号：TWI504707B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：TW100108852
申请日：2011-03-16
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：黑川敦史 , KUROKAWA, ATSUSHI , 荒井隆行 , ARAI, TAKAYUKI , 又野仁 , MATANO, TADASHI , 小澤祐樹 , OZAWA, YUUKI
IPC分类号： C09J133/08 , C09J133/14 , C09J7/02 , G02B5/30

8. 发明专利

TWI493002B 粘著性組成物、粘著劑以及粘著片有权
简体标题：粘着性组成物、粘着剂以及粘着片
公开(公告)号：TWI493002B
公开(公告)日：2015-07-21
申请号：TW099136666
申请日：2010-10-27
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：荒井隆行 , ARAI, TAKAYUKI , 又野仁 , MATANO, TADASHI , 黑川敦史 , KUROKAWA, ATSUSHI
IPC分类号： C09J133/08 , C08J3/24 , C08K5/29 , C09J7/02

9. 发明专利

TW201300490A 黏著性組合物、黏著劑以及黏著片审中-公开
简体标题：黏着性组合物、黏着剂以及黏着片
公开(公告)号：TW201300490A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101117516
申请日：2012-05-17
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：黑川敦史 , KUROKAWA, ATSUSHI , 又野仁 , MATANO, TADASHI , 荒井隆行 , ARAI, TAKAYUKI , 所司悟 , SHOSHI, SATORU
IPC分类号： C09J7/02 , C09J133/08 , C09J11/06 , C08J3/24 , B32B7/12 , G02B5/30
摘要：提供一種黏著性組合物、黏著劑以及黏著片，在其適用與偏振光板等的光學部件時，應力鬆馳率優良，在防止漏光的同時，耐久性也優良，進一步重復使用性也好。本發明的黏著性組合物含有重量平均分子量為50萬~300萬的第1(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)、重量平均分子量為8000~30萬的第2(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)以及交聯劑(C)。上述第1(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，實質上不含有酸性基，且作為該聚合物的構成單體單位，含有與交聯劑(C)的反應性滿足下式(I)的羥基單體(a)。第2(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)，實質上不含有酸性基，且作為該聚合物的構成單體單位，含有與交聯劑(C)的反應性滿足下式(I)的含羥基含有單體(b)。與交聯劑(C)的反應性：含羥基單體(a)＜含羥基單體(b)．．．(I)
简体摘要：提供一种黏着性组合物、黏着剂以及黏着片，在其适用与偏振光板等的光学部件时，应力松驰率优良，在防止漏光的同时，耐久性也优良，进一步重复使用性也好。本发明的黏着性组合物含有重量平均分子量为50万~300万的第1(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)、重量平均分子量为8000~30万的第2(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)以及交联剂(C)。上述第1(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，实质上不含有酸性基，且作为该聚合物的构成单体单位，含有与交联剂(C)的反应性满足下式(I)的羟基单体(a)。第2(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)，实质上不含有酸性基，且作为该聚合物的构成单体单位，含有与交联剂(C)的反应性满足下式(I)的含羟基含有单体(b)。与交联剂(C)的反应性：含羟基单体(a)＜含羟基单体(b)．．．(I)

10. 发明专利

TWI591146B 雙面黏著片及回捲體有权
简体标题：双面黏着片及回卷体
公开(公告)号：TWI591146B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW103111566
申请日：2014-03-27
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：黑川敦史 , KUROKAWA, ATSUSHI , 加茂雅康 , KAMO, MASAYASU , 遠藤優季 , ENDO, YUKI
IPC分类号： C09J201/00 , C09J7/02 , C08J3/28 , B32B27/06 , B32B7/04 , B65B69/00

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