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    • 5. 发明专利
    • 再剝離性加工薄膜 REMOVABLE PROCESSING FILM
    • 再剥离性加工薄膜 REMOVABLE PROCESSING FILM
    • TW200951197A
    • 2009-12-16
    • TW098108526
    • 2009-03-17
    • 琳得科股份有限公司
    • 那須健司山田晃史倉田雄一田畠浩司
    • C09J
    • H05K3/386C09J7/385C09J133/08C09J2205/114C09J2425/00C09J2433/00C09J2467/006C09J2479/086
    • 一種再剝離性加工薄膜,係由在基材薄膜之一面形成由(A)丙烯酸丁酯單元40~80質量%、苯乙烯單元1~15質量%、甲基丙烯酸甲酯單元1~30質量%、丙烯酸甲酯單元1~30質量%、含羥基之乙烯系單體單元1~10質量%及含羧基之乙烯系單體單元0.1~1質量%所成,重量平均分子量Mw為30萬~100萬,分子量分布(Mw/Mn)為3.0以下之丙烯酸酯系共聚物及(B)異氰酸酯系交聯劑所成之黏著劑層而成。此加工薄膜當被著體係基材薄片時,剝離後基材薄片側之污染被抑制,與剝離後施用於剝離面之接著性薄片之接著力夠高,且被著體係暴露於260℃左右高溫之玻璃部時亦適用。
    • 一种再剥离性加工薄膜,系由在基材薄膜之一面形成由(A)丙烯酸丁酯单元40~80质量%、苯乙烯单元1~15质量%、甲基丙烯酸甲酯单元1~30质量%、丙烯酸甲酯单元1~30质量%、含羟基之乙烯系单体单元1~10质量%及含羧基之乙烯系单体单元0.1~1质量%所成,重量平均分子量Mw为30万~100万,分子量分布(Mw/Mn)为3.0以下之丙烯酸酯系共聚物及(B)异氰酸酯系交联剂所成之黏着剂层而成。此加工薄膜当被着体系基材薄片时,剥离后基材薄片侧之污染被抑制,与剥离后施用于剥离面之接着性薄片之接着力够高,且被着体系暴露于260℃左右高温之玻璃部时亦适用。