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    • 1. 发明专利
    • 電容式電漿與線性微波電漿之混成鍍膜裝置
    • 电容式等离子与线性微波等离子之混成镀膜设备
    • TW201107529A
    • 2011-03-01
    • TW098127660
    • 2009-08-18
    • 沈幼敏李碩仁沈和畇李其源柯文政
    • 沈幼敏李碩仁沈和畇李其源柯文政
    • C23C
    • 本發明係有關一種電容式電漿與線性微波電漿之混成鍍膜裝置,其包括:一容器、一第一板、一第二板、一電容式電漿之控制部、至少兩個線性微波電漿產生部及一第二氣體供應管。該容器係具有一第一空間、一第二空間及一第三空間;以氫氣或氮氣先進入該第一空間中,再進入該第二空間而被分解,分解後之氫原子或氮原子進入該第三空間與矽烷進行電漿增強之化學氣相鍍膜反應,進而在該工件上形成一含矽鍍膜。由於先用電容式電漿將難分解之氫氣或氮氣分解,故,本發明兼具鍍膜速率高及成本低等優點及功效。
    • 本发明系有关一种电容式等离子与线性微波等离子之混成镀膜设备,其包括:一容器、一第一板、一第二板、一电容式等离子之控制部、至少两个线性微波等离子产生部及一第二气体供应管。该容器系具有一第一空间、一第二空间及一第三空间;以氢气或氮气雪铁龙入该第一空间中,再进入该第二空间而被分解,分解后之氢原子或氮原子进入该第三空间与硅烷进行等离子增强之化学气相镀膜反应,进而在该工件上形成一含硅镀膜。由于先用电容式等离子将难分解之氢气或氮气分解,故,本发明兼具镀膜速率高及成本低等优点及功效。
    • 2. 发明专利
    • 電容式電漿與線性微波電漿之混成鍍膜裝置
    • 电容式等离子与线性微波等离子之混成镀膜设备
    • TWI378154B
    • 2012-12-01
    • TW098127660
    • 2009-08-18
    • 沈幼敏李碩仁沈和畇李其源柯文政
    • 沈幼敏李碩仁沈和畇李其源柯文政
    • C23C
    • 本發明係有關一種電容式電漿與線性微波電漿之混成鍍膜裝置,其包括:一容器、一第一板、一第二板、一電容式電漿之控制部、至少兩個線性微波電漿產生部及一第二氣體供應管。該容器係具有一第一空間、一第二空間及一第三空間;以氫氣或氮氣先進入該第一空間中,再進入該第二空間而被分解,分解後之氫原子或氮原子進入該第三空間與矽烷進行電漿增強之化學氣相鍍膜反應,進而在該工件上形成一含矽鍍膜。由於先用電容式電漿將難分解之氫氣或氮氣分解,故,本發明兼具鍍膜速率高及成本低等優點及功效。
    • 本发明系有关一种电容式等离子与线性微波等离子之混成镀膜设备,其包括:一容器、一第一板、一第二板、一电容式等离子之控制部、至少两个线性微波等离子产生部及一第二气体供应管。该容器系具有一第一空间、一第二空间及一第三空间;以氢气或氮气雪铁龙入该第一空间中,再进入该第二空间而被分解,分解后之氢原子或氮原子进入该第三空间与硅烷进行等离子增强之化学气相镀膜反应,进而在该工件上形成一含硅镀膜。由于先用电容式等离子将难分解之氢气或氮气分解,故,本发明兼具镀膜速率高及成本低等优点及功效。
    • 4. 发明专利
    • 高密度微波與特高頻混成式電漿鍍膜裝置
    • 高密度微波与特高频混成式等离子镀膜设备
    • TW201101938A
    • 2011-01-01
    • TW098120211
    • 2009-06-17
    • 沈幼敏李碩仁沈和畇
    • 沈幼敏李碩仁沈和畇金麟聖李其源柯文政
    • H05H
    • 本發明係有關一種高密度微波與特高頻混成式電漿鍍膜裝置,其包括一真空工作容室、一真空抽氣部、一對磁力產生部、複數個微波產生單元、一氫氣分解部、一反應氣體產生部及一電漿阻隔網。先將工件置入真空工作容室,啓動磁力產生部,並以微波產生單元產生2.45G赫茲的微波,再以氫氣分解部與反應氣體產生部分別對真空工作容室供入氫原子與矽烷。由於共振產生面因電子迴旋共振現象而形成一電漿源,持續產生高密度低離子能量之電漿,當氫原子與反應氣體進入真空工作容室中,反應氣體與氫原子進行氣相反應並在工件上進行表面反應,進而達到高速與高品質之電漿鍍膜。故,本案兼具維護作業容易、系統總耗電量較小、無壓力匹配問題、可節省氫氣用量且可避免氫原子再復合、增加沉積率及均勻性與可對矩形及較大尺寸或捲繞式的工件進行加工等優點及功效。
    • 本发明系有关一种高密度微波与特高频混成式等离子镀膜设备,其包括一真空工作容室、一真空抽气部、一对磁力产生部、复数个微波产生单元、一氢气分解部、一反应气体产生部及一等离子阻隔网。先将工件置入真空工作容室,启动磁力产生部,并以微波产生单元产生2.45G赫兹的微波,再以氢气分解部与反应气体产生部分别对真空工作容室供入氢原子与硅烷。由于共振产生面因电子回旋共振现象而形成一等离子源,持续产生高密度低离子能量之等离子,当氢原子与反应气体进入真空工作容室中,反应气体与氢原子进行气相反应并在工件上进行表面反应,进而达到高速与高品质之等离子镀膜。故,本案兼具维护作业容易、系统总耗电量较小、无压力匹配问题、可节省氢气用量且可避免氢原子再复合、增加沉积率及均匀性与可对矩形及较大尺寸或卷绕式的工件进行加工等优点及功效。
    • 5. 发明专利
    • 電解拋光處理系統及方法
    • 电解抛光处理系统及方法
    • TW200628640A
    • 2006-08-16
    • TW094103872
    • 2005-02-05
    • 郭佳儱 KUO, C.L.李碩仁陳炤彰
    • 郭佳儱 KUO, C.L.李碩仁陳炤彰
    • C25F
    • 本發明係為一種電解拋光處理系統及方法,其系統包括一電解液槽、一厚度介於0.5mm至0.005mm間之金屬薄片、一電極部及一電源供應部。其方法包括前處理步驟、電解拋光步驟、後處理步驟及檢測步驟。在介於此金屬薄片及此電極部間之電解間隙處,此金屬薄片上之複數個尖端部因電流密度較大而優先產生逆電鍍反應並脫離金屬薄片,進而達到改善此金屬薄片之第一表面之表面粗度,並兼具適合大面積可撓性金屬之表面處理、可連續式處理、無接觸式處理之殘留應力,以及可同時雙面處理之優點及功效。
    • 本发明系为一种电解抛光处理系统及方法,其系统包括一电解液槽、一厚度介于0.5mm至0.005mm间之金属薄片、一电极部及一电源供应部。其方法包括前处理步骤、电解抛光步骤、后处理步骤及检测步骤。在介于此金属薄片及此电极部间之电解间隙处,此金属薄片上之复数个尖端部因电流密度较大而优先产生逆电镀反应并脱离金属薄片,进而达到改善此金属薄片之第一表面之表面粗度,并兼具适合大面积可挠性金属之表面处理、可连续式处理、无接触式处理之残留应力,以及可同时双面处理之优点及功效。
    • 7. 发明专利
    • 具有電解水生成部之冷卻水塔循環水系統之電解吸附水垢裝置
    • 具有电解水生成部之冷却水塔循环水系统之电解吸附水垢设备
    • TW201515726A
    • 2015-05-01
    • TW102139145
    • 2013-10-29
    • 李碩仁LEE, SHUO JEN三輝科技企業有限公司
    • 李碩仁LEE, SHUO JEN張振緯謝政翔
    • B08B9/027C02F1/461
    • 本發明係有關一種具有電解水生成部之冷卻水塔循環水系統之電解吸附水垢裝置,其包括一冷卻水塔循環水系統、一電解水生成部及一鹼性水供應部。冷卻水塔循環水系統具有一冷卻水塔、冷卻水管路及一散熱部;散熱部設於冷卻水管路上,冷卻水管路將流經散熱部之水液導入冷卻水塔冷卻,並將較冷之水液從冷卻水塔導向散熱部進行散熱。電解水生成部具有一電解水反應器及一鹼性水供應部。電解水反應器產生鹼性工作液並供入水塔中;鹼性水供應部設一帶正電之網狀電極伸入水塔之水液中,達到使冷卻水塔內之水液的水垢電解吸附率提高而能夠降低冷卻水塔之水垢之產生機率。故,本案兼具溶垢效果佳對人體及環境皆無害、適合事業單位長期使用、可精確控制其鹼性水產生之條件,與可設定清除水垢的時間等優點。
    • 本发明系有关一种具有电解水生成部之冷却水塔循环水系统之电解吸附水垢设备,其包括一冷却水塔循环水系统、一电解水生成部及一碱性水供应部。冷却水塔循环水系统具有一冷却水塔、冷却水管路及一散热部;散热部设于冷却水管路上,冷却水管路将流经散热部之水液导入冷却水塔冷却,并将较冷之水液从冷却水塔导向散热部进行散热。电解水生成部具有一电解水反应器及一碱性水供应部。电解水反应器产生碱性工作液并供入水塔中;碱性水供应部设一带正电之网状电极伸入水塔之水液中,达到使冷却水塔内之水液的水垢电解吸附率提高而能够降低冷却水塔之水垢之产生概率。故,本案兼具溶垢效果佳对人体及环境皆无害、适合事业单位长期使用、可精确控制其碱性水产生之条件,与可设置清除水垢的时间等优点。
    • 8. 实用新型
    • 電化學滾筒電解裝置
    • 电化学滚筒电解设备
    • TWM401212U
    • 2011-04-01
    • TW099219767
    • 2010-10-13
    • 李碩仁陳貽和
    • 李碩仁陳貽和
    • H01M
    • 本創作係為一種電化學滾筒電解裝置,其包括:一槽體、一電極部、一滾筒、一驅動裝置及一直流電源供應部。該槽體係具有一固定部及一裝有電解液之槽體空間;該電極部係固定於該固定部上;該滾筒係用以置放金屬材質之待加工物件;該驅動裝置係用以驅動該滾筒之轉動;而該直流電源供應部之正極係連接至該電極部,負極則連接至少一電解槽陰極,且該電解槽陰極係置於該電解液中;藉此,當驅動裝置驅動該滾筒轉動時,係會帶動該滾筒空間內之待加工物件翻轉,使得該待加工物件與該電極部接觸而產生電解反應,對該待加工物件之表面進行電化學加工;故,本創作兼具有效節省人力與時間、可使複數待加工物件同時達到電化學加工及加工均勻性佳等優點及功效。
    • 本创作系为一种电化学滚筒电解设备,其包括:一槽体、一电极部、一滚筒、一驱动设备及一直流电源供应部。该槽体系具有一固定部及一装有电解液之槽体空间;该电极部系固定于该固定部上;该滚筒系用以置放金属材质之待加工对象;该驱动设备系用以驱动该滚筒之转动;而该直流电源供应部之正极系连接至该电极部,负极则连接至少一电解槽阴极,且该电解槽阴极系置于该电解液中;借此,当驱动设备驱动该滚筒转动时,系会带动该滚筒空间内之待加工对象翻转,使得该待加工对象与该电极部接触而产生电解反应,对该待加工对象之表面进行电化学加工;故,本创作兼具有效节省人力与时间、可使复数待加工对象同时达到电化学加工及加工均匀性佳等优点及功效。
    • 10. 实用新型
    • 工件外形表面電化學機械拋光之機構
    • 工件外形表面电化学机械抛光之机构
    • TW516471U
    • 2003-01-01
    • TW089216947
    • 2000-09-29
    • 李碩仁
    • 李碩仁賴建璋廖子穎鍾明裕
    • B23HB24B
    • 本創作係提供一種工件外形表面電化學機械拋光之機構。此機構(磨頭)與工件間為彈性接觸可調整拋光壓力,所以機械設備之精度對工件表面粗糙度之達成並不是重要的影響因素。工件外形表面電化學機械拋光之機構為模組化,依工作需求可替換各種磨料、配件,可配合現有機台應用在各種加工機上,並不需要專用機。係利用鈍化性電解液在金屬表面生成鈍化膜之機理,在磨頭電極之陰極和工件陽極間接通電流,使工作金屬表面只生成鈍化膜而不發生電化學溶解,再利用研磨把鈍化膜高點去除,如此反覆進行此過程,以使表面粗糙度降低至極小的表面者。
    • 本创作系提供一种工件外形表面电化学机械抛光之机构。此机构(磨头)与工件间为弹性接触可调整抛光压力,所以机械设备之精度对工件表面粗糙度之达成并不是重要的影响因素。工件外形表面电化学机械抛光之机构为模块化,依工作需求可替换各种磨料、配件,可配合现有机台应用在各种加工机上,并不需要专用机。系利用钝化性电解液在金属表面生成钝化膜之机理,在磨头电极之阴极和工件阳极间接通电流,使工作金属表面只生成钝化膜而不发生电化学溶解,再利用研磨把钝化膜高点去除,如此反复进行此过程,以使表面粗糙度降低至极小的表面者。