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1. 发明专利

TW201724982A 具足部三維運動控制及足壓分散之裝置审中-公开
简体标题：具足部三维运动控制及足压分散之设备
公开(公告)号：TW201724982A
公开(公告)日：2017-07-16
申请号：TW105101256
申请日：2016-01-15
申请人：歐立達股份有限公司 , GLOBAL ACTION INC
发明人：劉克濤 , 楊世偉 , 陳宗欣 , 小林永芳
IPC分类号： A43B17/00 , A61F5/14
CPC分类号： A43B7/24 , A43B7/141 , A43B7/142 , A43B7/143 , A43B7/144 , A43B7/1445 , A43B17/006 , A43B17/02 , A43B17/14
摘要：本發明係一種具足部三維運動控制及足壓分散之裝置，當人體在行進動作時用以控制足部關節三維運動及足壓分散，可支撐足弓，及調整足部各關節因著地時之運動及地面反作用力所造成的異常足壓。其包括一足弓支撐本體，用以支撐足部的內側縱弓、橫弓與外側縱弓。在行進時用以控制中、前足的關節運動，分散前足足壓。足弓支撐本體後端至少一側向相對應的後足足跟部延伸形成一後足運動調整部，用以調整後足內外翻角度，加強足跟軟組織的吸震度，提供後足著地運動的穩定度，進而降低足跟足壓。在足弓支撐部上另有一剛性加強部，用以加強控制不同型態的足部過度或不足旋前運動。
简体摘要：本发明系一种具足部三维运动控制及足压分散之设备，当人体在行进动作时用以控制足部关节三维运动及足压分散，可支撑足弓，及调整足部各关节因着地时之运动及地面反作用力所造成的异常足压。其包括一足弓支撑本体，用以支撑足部的内侧纵弓、横弓与外侧纵弓。在行进时用以控制中、前足的关节运动，分散前足足压。足弓支撑本体后端至少一侧向相对应的后足足跟部延伸形成一后足运动调整部，用以调整后足内外翻角度，加强足跟软组织的吸震度，提供后足着地运动的稳定度，进而降低足跟足压。在足弓支撑部上另有一刚性加强部，用以加强控制不同型态的足部过度或不足旋前运动。

2. 发明专利

TWI394556B 判別足弓型態的量測方法有权
简体标题：判别足弓型态的量测方法
公开(公告)号：TWI394556B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW100100724
申请日：2011-01-07
申请人：歐立達股份有限公司 , GLOBAL ACTION INC.
发明人：楊世偉 , YANG, SAI WEI , 劉克濤 , LIU, KEH TAO , 鄭朝謚 , ZHENG, CHOA YI
IPC分类号： A61B5/103 , A61B5/107
CPC分类号： A43D1/02

3. 发明专利

TWI535419B 用於分析騎乘自行車之膝關節運動軌跡的量測系統及其方法有权
简体标题：用于分析骑乘自行车之膝关节运动轨迹的量测系统及其方法
公开(公告)号：TWI535419B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW102138527
申请日：2013-10-24
申请人：歐立達股份有限公司 , GLOBAL ACTION INC.
发明人：李柏勳 , 張幼欣 , 劉克濤 , 楊世偉
IPC分类号： A61B5/11
CPC分类号： A63B24/0006 , A43B7/14 , A43D1/02 , A61B5/1114 , A61B5/1122 , A61B5/1127 , A61B5/4585 , G06K9/00342 , G06T7/20 , G06T2207/10004 , G06T2207/10152 , G06T2207/30196 , G06T2207/30221

4. 发明专利

TWI569743B 具足部三維運動控制及足壓分散之裝置有权
简体标题：具足部三维运动控制及足压分散之设备
公开(公告)号：TWI569743B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW105101256
申请日：2016-01-15
申请人：歐立達股份有限公司 , GLOBAL ACTION INC
发明人：劉克濤 , 楊世偉 , 陳宗欣 , 小林永芳
IPC分类号： A43B17/00 , A61F5/14
CPC分类号： A43B7/24 , A43B7/141 , A43B7/142 , A43B7/143 , A43B7/144 , A43B7/1445 , A43B17/006 , A43B17/02 , A43B17/14

5. 发明专利

TW201515635A 用於分析騎乘自行車之膝關節運動軌跡的量測系統及其方法审中-公开
简体标题：用于分析骑乘自行车之膝关节运动轨迹的量测系统及其方法
公开(公告)号：TW201515635A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW102138527
申请日：2013-10-24
申请人：歐立達股份有限公司 , GLOBAL ACTION INC.
发明人：李柏勳 , 張幼欣 , 劉克濤 , 楊世偉
IPC分类号： A61B5/11
CPC分类号： A63B24/0006 , A43B7/14 , A43D1/02 , A61B5/1114 , A61B5/1122 , A61B5/1127 , A61B5/4585 , G06K9/00342 , G06T7/20 , G06T2207/10004 , G06T2207/10152 , G06T2207/30196 , G06T2207/30221
摘要：一種用於分析騎乘自行車之膝關節運動軌跡的量測系統及其方法，主用於量測並分析騎乘者之騎乘自行車之膝關節的運動軌跡，而量測系統係至少包含一可踩踏裝置、一固定於騎乘者下肢的脛骨粗隆處之發光燈體、一影像擷取裝置及一膝關節運動軌跡分析裝置，因此當騎乘者於可踩踏裝置上進行循環踩踏時，該影像擷取裝置能夠擷取具有騎乘者下肢中心位置之影像與騎乘者進行循環踩踏時該發光燈體之發光光點軌跡線影像，而該運動軌跡分析裝置則能夠產生出一近似橢圓運動軌跡圖，並以騎乘者的身體中心線為基準，與橢圓運動軌跡圖之軌跡長軸線進行比對分析後，則能夠得到騎乘自行車之膝關節運動軌跡的偏移數據與足底受力分佈，再依據騎乘自行車之膝關節運動軌跡的偏移數據與足底受力分佈，搭配出適合騎乘者的鞋墊款式。
简体摘要：一种用于分析骑乘自行车之膝关节运动轨迹的量测系统及其方法，主用于量测并分析骑乘者之骑乘自行车之膝关节的运动轨迹，而量测系统系至少包含一可踩踏设备、一固定于骑乘者下肢的胫骨粗隆处之发光灯体、一影像截取设备及一膝关节运动轨迹分析设备，因此当骑乘者于可踩踏设备上进行循环踩踏时，该影像截取设备能够截取具有骑乘者下肢中心位置之影像与骑乘者进行循环踩踏时该发光灯体之发光光点轨迹线影像，而该运动轨迹分析设备则能够产生出一近似椭圆运动轨迹图，并以骑乘者的身体中心线为基准，与椭圆运动轨迹图之轨迹长轴线进行比对分析后，则能够得到骑乘自行车之膝关节运动轨迹的偏移数据与足底受力分布，再依据骑乘自行车之膝关节运动轨迹的偏移数据与足底受力分布，搭配出适合骑乘者的鞋垫款式。

6. 发明专利

TW201228637A 判別足弓型態的量測方法审中-公开
简体标题：判别足弓型态的量测方法
公开(公告)号：TW201228637A
公开(公告)日：2012-07-16
申请号：TW100100724
申请日：2011-01-07
申请人：歐立達股份有限公司
发明人：楊世偉 , 劉克濤 , 鄭朝謚
IPC分类号： A61B
CPC分类号： A43D1/02
摘要：本發明係揭露一種判別足弓型態的量測方法，其根據人體足印之資料進行量測與判別，該方法包含下列步驟：首先，取得足印，其係待測者在靜態站姿下的足印，且該足印包含外側輪廓線以及內側輪廓線；其次，取得該足印外掌切點與外跟切點，以及該足印內掌切點與內跟切點；其後，取得足掌中點及足跟中點；其次，取得足中軸線與足中垂線；然後，取得足寬長Lf，其係足中垂線的長度；以及取得足弓寬La；最後，將該足弓寬La除以該足寬長Lf，得到一足型指數(Foot Type Index,FTI)，即FTI=La/Lf。根據該足型指數即可判別該足印所表彰之足弓型態。
简体摘要：本发明系揭露一种判别足弓型态的量测方法，其根据人体足印之数据进行量测与判别，该方法包含下列步骤：首先，取得足印，其系待测者在静态站姿下的足印，且该足印包含外侧轮廓线以及内侧轮廓线；其次，取得该足印外掌切点与外跟切点，以及该足印内掌切点与内跟切点；其后，取得足掌中点及足跟中点；其次，取得足中轴线与足中垂线；然后，取得足宽长Lf，其系足中垂线的长度；以及取得足弓宽La；最后，将该足弓宽La除以该足宽长Lf，得到一足型指数(Foot Type Index,FTI)，即FTI=La/Lf。根据该足型指数即可判别该足印所表彰之足弓型态。

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