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3. 发明专利

TW201643274A 鍍膜設備审中-公开
简体标题：镀膜设备
公开(公告)号：TW201643274A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW104119254
申请日：2015-06-15
申请人：欣興電子股份有限公司 , UNIMICRON TECHNOLOGY CORP.
发明人：扈欣祺 , HU, HSIN CHI
IPC分类号： C25B9/06 , C25B9/16
摘要：一種鍍膜設備，包括一鍍膜槽、一加熱器、一第一循環裝置及一固定組件。加熱器加熱鍍液。第一循環裝置包括一第一驅動單元、一循環管、一第一抽液管、一盒體及一第二抽液管。循環管及第一抽液管連接第一驅動單元且延伸至鍍膜槽內。第一驅動單元驅動鍍液從鍍膜槽流經第一抽液管、第一驅動單元及循環管而回到鍍膜槽內。盒體位於鍍膜槽內且連通鍍膜槽而容納部分鍍液。第二抽液管連接於第一驅動單元且延伸至盒體內。第一驅動單元驅動盒體內的鍍液經由第二抽液管離開盒體，以帶動盒體外的鍍液往盒體流動。固定組件固定於鍍膜槽底部且連接循環管。
简体摘要：一种镀膜设备，包括一镀膜槽、一加热器、一第一循环设备及一固定组件。加热器加热镀液。第一循环设备包括一第一驱动单元、一循环管、一第一抽液管、一盒体及一第二抽液管。循环管及第一抽液管连接第一驱动单元且延伸至镀膜槽内。第一驱动单元驱动镀液从镀膜槽流经第一抽液管、第一驱动单元及循环管而回到镀膜槽内。盒体位于镀膜槽内且连通镀膜槽而容纳部分镀液。第二抽液管连接于第一驱动单元且延伸至盒体内。第一驱动单元驱动盒体内的镀液经由第二抽液管离开盒体，以带动盒体外的镀液往盒体流动。固定组件固定于镀膜槽底部且连接循环管。

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