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1. 发明专利

TW201843052A 薄膜审中-公开
公开(公告)号：TW201843052A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107113303
申请日：2018-04-19
申请人：日商東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：真鍋功 , MANABE, ISAO , 莊司秀夫 , SHOJI, HIDEO , 田中照也 , TANAKA, TERUYA
IPC分类号： B32B27/36 , B32B7/02 , C08J5/18
摘要：本發明提供一種薄膜，其在利用至少單面的表面粗糙度SRa為100nm以上3000nm以下、20cm×14cm範圍之前述表面粗糙度SRa的偏差為10%以下、且320nm的平行線穿透率ST320為30%以上的薄膜作為轉印薄膜使用時，可均勻地轉印低光澤調外觀，而且在使用光硬化性樹脂作為被轉印材時，亦可達成低光澤外觀的轉印、形狀固定，而具有不易發生粒子脫落或切削等不良狀況的良好加工步驟合適性。
简体摘要：本发明提供一种薄膜，其在利用至少单面的表面粗糙度SRa为100nm以上3000nm以下、20cm×14cm范围之前述表面粗糙度SRa的偏差为10%以下、且320nm的平行线穿透率ST320为30%以上的薄膜作为转印薄膜使用时，可均匀地转印低光泽调外观，而且在使用光硬化性树脂作为被转印材时，亦可达成低光泽外观的转印、形状固定，而具有不易发生粒子脱落或切削等不良状况的良好加工步骤合适性。

2. 发明专利

TW201841738A 薄膜、及薄膜之製造方法审中-公开
简体标题：薄膜、及薄膜之制造方法
公开(公告)号：TW201841738A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107113461
申请日：2018-04-20
申请人：日商東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：莊司秀夫 , SHOJI, HIDEO , 田中照也 , TANAKA, TERUYA , 真鍋功 , MANABE, ISAO
IPC分类号： B32B7/10 , B32B37/06
摘要：一種薄膜，其特徵為：在25℃的5%伸張時應力Ta為1.0MPa以上20.0MPa以下，施加120g/mm2之荷重，將從25℃到160℃為止以10℃/分鐘的升溫速度升溫時在90℃的尺寸變化當作90℃尺寸變化率1，將90℃尺寸變化率1成為最大的方向當作X方向，將與X方向在薄膜面內正交的方向當作Y方向，將X方向的90℃尺寸變化率當作Tx1(%)時，Tx1為-10.00%以上10.00%以下。本發明提供一種適合作為半導體製程用基材之薄膜，其具備在加熱步驟中能維持平面性的程度之耐熱性及作為切割用黏著薄膜等使用的充分柔軟性。
简体摘要：一种薄膜，其特征为：在25℃的5%伸张时应力Ta为1.0MPa以上20.0MPa以下，施加120g/mm2之荷重，将从25℃到160℃为止以10℃/分钟的升温速度升温时在90℃的尺寸变化当作90℃尺寸变化率1，将90℃尺寸变化率1成为最大的方向当作X方向，将与X方向在薄膜面内正交的方向当作Y方向，将X方向的90℃尺寸变化率当作Tx1(%)时，Tx1为-10.00%以上10.00%以下。本发明提供一种适合作为半导体制程用基材之薄膜，其具备在加热步骤中能维持平面性的程度之耐热性及作为切割用黏着薄膜等使用的充分柔软性。

3. 发明专利

TWI653136B 積層聚酯薄膜、及使用其而成之偏光板有权
简体标题：积层聚酯薄膜、及使用其而成之偏光板
公开(公告)号：TWI653136B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW103143604
申请日：2014-12-15
申请人：日商東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：真鍋功 , MANABE, ISAO , 莊司秀夫 , SHOJI, HIDEO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI , 合田亘 , GOUDA, WATARU , 高橋弘造 , TAKAHASHI, KOZO , 石田康之 , ISHIDA, YASUYUKI , 岩谷忠彥 , IWAYA, TADAHIKO
IPC分类号： B29C55/12 , G02B5/30

4. 发明专利

TWI553045B 成型用雙軸配向聚酯薄膜有权
简体标题：成型用双轴配向聚酯薄膜
公开(公告)号：TWI553045B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW101150355
申请日：2012-12-27
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：真鍋功 , MANABE, ISAO , 莊司秀夫 , SHOJI, HIDEO , 高橋弘造 , TAKAHASHI, KOZO
IPC分类号： C08J5/18 , B29C55/12 , B32B27/36 , B29K67/00 , B29L7/00 , B29L9/00
CPC分类号： B32B27/36 , B29C51/002 , B29C55/023 , B29C55/143 , B29K2067/00 , B32B7/00 , B32B7/02 , B32B27/08 , B32B2307/306 , B32B2307/308 , B32B2307/50 , B32B2307/51 , B32B2307/518 , B32B2307/732 , B32B2307/734 , B32B2307/75 , B32B2451/00 , C08J5/18 , C08J2367/02 , C08J2467/02 , Y10T428/24942 , Y10T428/31786

5. 发明专利

TWI632053B 雙軸配向聚酯薄膜有权
简体标题：双轴配向聚酯薄膜
公开(公告)号：TWI632053B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW103122201
申请日：2014-06-27
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：真鍋功 , MANABE, ISAO , 莊司秀夫 , SHOJI, HIDEO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B29D7/01 , B29C55/12 , B29C71/02 , G02B5/30 , B29K67/00

6. 发明专利

TW201531396A 積層聚酯薄膜、及使用其而成之偏光板审中-公开
简体标题：积层聚酯薄膜、及使用其而成之偏光板
公开(公告)号：TW201531396A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103143604
申请日：2014-12-15
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：真鍋功 , MANABE, ISAO , 莊司秀夫 , SHOJI, HIDEO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI , 合田亘 , GOUDA, WATARU , 高橋弘造 , TAKAHASHI, KOZO , 石田康之 , ISHIDA, YASUYUKI , 岩谷忠彥 , IWAYA, TADAHIKO
IPC分类号： B29C55/12 , G02B5/30
CPC分类号： B32B27/36 , B32B27/08 , B32B2250/05 , B32B2250/244 , B32B2307/42 , B32B2457/202 , B32B2457/208 , G02B5/3033
摘要：提供雖是雙軸拉伸聚酯薄膜但在使用於觸控面板用途、偏光片保護用途等之際不會呈現干涉色的聚酯薄膜、及偏光板。一種積層聚酯薄膜，係具有聚酯A層和熔點比聚酯A層低的聚酯B層的10層以下的積層聚酯薄膜，對與積層薄膜的寬度方向中心、及寬度400mm中的薄膜面垂直的方向的遲延度(retardation)(Re)皆為1000nm以下。
简体摘要：提供虽是双轴拉伸聚酯薄膜但在使用于触摸皮肤用途、偏光片保护用途等之际不会呈现干涉色的聚酯薄膜、及偏光板。一种积层聚酯薄膜，系具有聚酯A层和熔点比聚酯A层低的聚酯B层的10层以下的积层聚酯薄膜，对与积层薄膜的宽度方向中心、及宽度400mm中的薄膜面垂直的方向的迟延度(retardation)(Re)皆为1000nm以下。

7. 发明专利

TW201509640A 雙軸配向聚酯薄膜审中-公开
简体标题：双轴配向聚酯薄膜
公开(公告)号：TW201509640A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103122201
申请日：2014-06-27
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：真鍋功 , MANABE, ISAO , 莊司秀夫 , SHOJI, HIDEO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B29D7/01 , B29C55/12 , B29C71/02 , G02B5/30 , B29K67/00
CPC分类号： C08J5/18 , B29C47/0021 , B29C47/0057 , B29C47/80 , B29C47/86 , B29C47/8805 , B29C47/8845 , B29C47/887 , B29C47/889 , B32B27/36 , C08J2367/02
摘要：本發明之課題在於提供一種成型性、寬度方向物性均勻性優異，可適合用於成型加工用、光學用之雙軸配向聚酯薄膜。本發明之解決手段為一種雙軸配向聚酯薄膜，其在150℃的薄膜MD(machine direction，縱向)方向之10%伸張時應力為5MPa以上30MPa以下，在150℃的薄膜MD方向之熱收縮率為5%以下，且1000mm寬度中的薄膜之配向角(主配向軸與薄膜TD(transverse direction，橫向)方向或薄膜MD方向所成之角度中小者的角度)之最大值為20°以下。惟，1000mm寬度的薄膜之配向角，係將薄膜的任意位置之主配向軸方向設為TD方向，以該位置作為中心，沿著TD方向於2方向各自取550mm寬度，作成寬度為1100mm之薄膜，於自該任意之點起往TD方向兩端在50mm、100mm、150mm、200mm、250mm、300mm、350mm、400mm、450mm、500mm之位置(1000mm寬度)，測定配向角，求得其中之最大值；而且，於同一薄膜面內將與TD方向呈正交的方向設為MD方向。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种成型性、宽度方向物性均匀性优异，可适合用于成型加工用、光学用之双轴配向聚酯薄膜。本发明之解决手段为一种双轴配向聚酯薄膜，其在150℃的薄膜MD(machine direction，纵向)方向之10%伸张时应力为5MPa以上30MPa以下，在150℃的薄膜MD方向之热收缩率为5%以下，且1000mm宽度中的薄膜之配向角(主配向轴与薄膜TD(transverse direction，横向)方向或薄膜MD方向所成之角度中小者的角度)之最大值为20°以下。惟，1000mm宽度的薄膜之配向角，系将薄膜的任意位置之主配向轴方向设为TD方向，以该位置作为中心，沿着TD方向于2方向各自取550mm宽度，作成宽度为1100mm之薄膜，于自该任意之点起往TD方向两端在50mm、100mm、150mm、200mm、250mm、300mm、350mm、400mm、450mm、500mm之位置(1000mm宽度)，测定配向角，求得其中之最大值；而且，于同一薄膜面内将与TD方向呈正交的方向设为MD方向。

8. 发明专利

TW201341437A 成型用雙軸配向聚酯薄膜审中-公开
简体标题：成型用双轴配向聚酯薄膜
公开(公告)号：TW201341437A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW101150355
申请日：2012-12-27
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：真鍋功 , MANABE, ISAO , 莊司秀夫 , SHOJI, HIDEO , 高橋弘造 , TAKAHASHI, KOZO
IPC分类号： C08J5/18 , B29C55/12 , B32B27/36 , B29K67/00 , B29L7/00 , B29L9/00
CPC分类号： B32B27/36 , B29C51/002 , B29C55/023 , B29C55/143 , B29K2067/00 , B32B7/00 , B32B7/02 , B32B27/08 , B32B2307/306 , B32B2307/308 , B32B2307/50 , B32B2307/51 , B32B2307/518 , B32B2307/732 , B32B2307/734 , B32B2307/75 , B32B2451/00 , C08J5/18 , C08J2367/02 , C08J2467/02 , Y10T428/24942 , Y10T428/31786
摘要：本發明之課題為提供一種成型性、尺寸安定性、耐熱性、成型後之品質優良，而適合用於施行成型加工，製成各種成型構件之成型用雙軸配向聚酯薄膜。本發明之解決手段為提供一種成型用雙軸配向聚酯薄膜，其於100℃之薄膜長度方向及寬度方向之貯藏彈性率分別為100MPa以上1000MPa以下，於180℃之薄膜長度方向及寬度方向之貯藏彈性率分別為41MPa以上400MPa以下，並且於150℃之薄膜長度方向及寬度方向之100%伸長時應力(F100值)分別為5MPa以上60MPa以下。
简体摘要：本发明之课题为提供一种成型性、尺寸安定性、耐热性、成型后之品质优良，而适合用于施行成型加工，制成各种成型构件之成型用双轴配向聚酯薄膜。本发明之解决手段为提供一种成型用双轴配向聚酯薄膜，其于100℃之薄膜长度方向及宽度方向之贮藏弹性率分别为100MPa以上1000MPa以下，于180℃之薄膜长度方向及宽度方向之贮藏弹性率分别为41MPa以上400MPa以下，并且于150℃之薄膜长度方向及宽度方向之100%伸长时应力(F100值)分别为5MPa以上60MPa以下。

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