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    • 2. 发明专利
    • 低含水性軟質器材及其製造方法
    • 低含水性软质器材及其制造方法
    • TW201319098A
    • 2013-05-16
    • TW101129694
    • 2012-08-16
    • 東麗股份有限公司TORAY INDUSTRIES, INC.
    • 北川瑠美子KITAGAWA, RUMIKO中村正孝NAKAMURA, MASATAKA
    • C08F283/12A61F2/16G02B1/04
    • A61L27/14A61L15/22A61L29/04A61L31/04
    • 本發明之低含水性軟質器材包含於低含水性軟質基材之表面之至少一部分,形成有包含酸性聚合體及鹼性聚合體之層的軟質構件。該低含水性軟質器材之製造方法依序包含下述步驟1~步驟3:步驟1,其係使包含每1分子具有複數個聚合性官能基且數量平均分子量為6000以上之聚矽氧烷化合物即成分A、及具有氟烷基之聚合性單體即成分B的混合物進行聚合,獲得所需之形狀之成型體;步驟2,其係使成型體接觸鹼性聚合體溶液後,清洗除去剩餘之該鹼性聚合體溶液;及步驟3,其係使成型體接觸酸性聚合體溶液後,清洗除去剩餘之該酸性聚合體溶液。本發明提供一種除親水性以外亦具有良好之易滑性、即便長時間使用亦不易乾燥、可保持柔軟性、且形狀之變化較小的低含水性軟質器材及其製造方法。
    • 本发明之低含水性软质器材包含于低含水性软质基材之表面之至少一部分,形成有包含酸性聚合体及碱性聚合体之层的软质构件。该低含水性软质器材之制造方法依序包含下述步骤1~步骤3:步骤1,其系使包含每1分子具有复数个聚合性官能基且数量平均分子量为6000以上之聚硅氧烷化合物即成分A、及具有氟烷基之聚合性单体即成分B的混合物进行聚合,获得所需之形状之成型体;步骤2,其系使成型体接触碱性聚合体溶液后,清洗除去剩余之该碱性聚合体溶液;及步骤3,其系使成型体接触酸性聚合体溶液后,清洗除去剩余之该酸性聚合体溶液。本发明提供一种除亲水性以外亦具有良好之易滑性、即便长时间使用亦不易干燥、可保持柔软性、且形状之变化较小的低含水性软质器材及其制造方法。
    • 9. 发明专利
    • 醫療器材及其製造方法
    • 医疗器材及其制造方法
    • TW201919717A
    • 2019-06-01
    • TW107127660
    • 2018-08-08
    • 日商東麗股份有限公司TORAY INDUSTRIES, INC.
    • 北川瑠美子KITAGAWA, RUMIKO中村正孝NAKAMURA, MASATAKA
    • A61L15/26
    • 本案發明係提供一種醫療器材,係具有基材、與於上述基材之至少一部分具有親水性聚合物層而成,並滿足下述(a)~(d)之條件:(a)構成上述親水性聚合物層之聚合物為含有酸性基之親水性聚合物;(b)上述親水性聚合物層之厚度為1nm以上且未滿100nm;(c)上述親水性聚合物層之鹼性基/酸性基的數量比為0.2以下;(d)浸漬於磷酸緩衝液並施加超音波洗淨40分鐘後的液膜保持時間為15秒以上。並提供使基材表面經親水化之醫療器材及藉由簡便方法製造其之方法。
    • 本案发明系提供一种医疗器材,系具有基材、与于上述基材之至少一部分具有亲水性聚合物层而成,并满足下述(a)~(d)之条件:(a)构成上述亲水性聚合物层之聚合物为含有酸性基之亲水性聚合物;(b)上述亲水性聚合物层之厚度为1nm以上且未满100nm;(c)上述亲水性聚合物层之碱性基/酸性基的数量比为0.2以下;(d)浸渍于磷酸缓冲液并施加超音波洗净40分钟后的液膜保持时间为15秒以上。并提供使基材表面经亲水化之医疗器材及借由简便方法制造其之方法。