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1. 发明专利

TW200526239A 陽離子經改性之純化半乳甘露聚醣及含該物質之化粧料組成物 A CATION-MODIFIED PURIFIED GALACTOMANNAN POLYSACCHARIDE AND A COSMTEIC COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：阳离子经改性之纯化半乳甘露聚糖及含该物质之化妆料组成物 A CATION-MODIFIED PURIFIED GALACTOMANNAN POLYSACCHARIDE AND A COSMTEIC COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW200526239A
公开(公告)日：2005-08-16
申请号：TW094102780
申请日：2005-01-28
申请人：東邦化學工業股份有限公司 TOHO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
发明人：武田博光 TAKEDA, HIROMITSU , 森芳彥 MORI, YOSHIHIKO , 上田裕芳 UEDA, HIROMICHI
IPC分类号： A61K
CPC分类号： C08B37/0003 , A61K8/737 , A61K2800/5426 , A61Q1/02 , A61Q5/02 , A61Q5/06 , A61Q5/10 , A61Q5/12 , A61Q19/002 , A61Q19/10 , C08B37/0087 , C08B37/0093
摘要：本發明係關於提供一種添加於毛髮處理用組成物，既使使用於受損毛髮時，亦顯示優良的護髮效果，添加於沐浴用洗潔劑等皮膚化粧料組成物時，可得到起泡性其泡沫質地的改善與良好使用感之陽離子改性聚合物。純化由種子之胚乳部分所得的甘露糖作為結構單位之主鏈上，以半乳糖單位作為側鏈所構成之甘露糖與半乳糖的組成比為4對1及／或3對1之粗製半乳甘露聚醣經時所得之半乳甘露糖含有量為80質量％以上之純化半乳糖甘露聚醣，該純化半乳糖甘露聚醣的一部份羥基為下述化學式所示的含第4級氮之基所取代，調節來自該含第4級氮之基的陽離子電荷量至特定範圍所得之陽離子改性純化半乳甘露聚醯、與含有該陽離子改性純化半乳甘露聚醣之化粧料組成物。094102780-p01.bmp(式中，R1、R2各表示碳數1～3的烷基、R3#3表示碳數1～24的烷基、X^–表示陰離子；n表示n＝0或n＝1～30，當n＝1～30時，(R4O)n表示碳數2～4的環氧烷烴之共聚物，單一的環氧烷烴所成之聚烷二醇鏈及／或2種以上的環氧烷烴所成之聚烷二醇鏈)。
简体摘要：本发明系关于提供一种添加于毛发处理用组成物，既使使用于受损毛发时，亦显示优良的护发效果，添加于沐浴用洗洁剂等皮肤化妆料组成物时，可得到起泡性其泡沫质地的改善与良好使用感之阳离子改性聚合物。纯化由种子之胚乳部分所得的甘露糖作为结构单位之主链上，以半乳糖单位作为侧链所构成之甘露糖与半乳糖的组成比为4对1及／或3对1之粗制半乳甘露聚糖经时所得之半乳甘露糖含有量为80质量％以上之纯化半乳糖甘露聚糖，该纯化半乳糖甘露聚糖的一部份羟基为下述化学式所示的含第4级氮之基所取代，调节来自该含第4级氮之基的阳离子电荷量至特定范围所得之阳离子改性纯化半乳甘露聚酰、与含有该阳离子改性纯化半乳甘露聚糖之化妆料组成物。094102780-p01.bmp(式中，R1、R2各表示碳数1～3的烷基、R3#3表示碳数1～24的烷基、X^–表示阴离子；n表示n＝0或n＝1～30，当n＝1～30时，(R4O)n表示碳数2～4的环氧烷烃之共聚物，单一的环氧烷烃所成之聚烷二醇链及／或2种以上的环氧烷烃所成之聚烷二醇链)。

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