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1. 发明专利

TWI402621B 光阻劑組成物有权
简体标题：光阻剂组成物
公开(公告)号：TWI402621B
公开(公告)日：2013-07-21
申请号：TW096115140
申请日：2007-04-27
申请人：東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：金東敏 , KIM, DONG-MIN , 金柄郁 , KIM, BYUNG-UK , 朴大然 , PARK, DAE-YEON , 金周赫 , KIM, JU-HYUK , 崔基植 , CHOI, KI-SIK , 金貞元 , KIM, JEONG-WON , 李起範 , LEE, KI-BEOM , 卞哲基 , BYEON, CHEOL-KI , 金紋秀 , KIM, MOON-SOO , 金炳厚 , KIM, BYONG-HOO , 邊滋勳 , BYUN, JA-HOON , 申在浩 , SHIN, JAE-HO
IPC分类号： G03F7/022 , H01L21/027

2. 发明专利

TWI407253B 光阻劑組成物有权
简体标题：光阻剂组成物
公开(公告)号：TWI407253B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW096115136
申请日：2007-04-27
申请人：東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：金東敏 , KIM, DONG-MIN , 金柄郁 , KIM, BYUNG-UK , 朴大然 , PARK, DAE-YEON , 金周赫 , KIM, JU-HYUK , 崔基植 , CHOI, KI-SIK , 金貞元 , KIM, JEONG-WON , 李起範 , LEE, KI-BEOM , 卞哲基 , BYEON, CHEOL-KI , 金紋秀 , KIM, MOON-SOO , 金炳厚 , KIM, BYONG-HOO , 邊滋勳 , BYUN, JA-HOON , 申在浩 , SHIN, JAE-HO
IPC分类号： G03F7/022 , H01L21/027

3. 发明专利

TWI397767B 光阻劑組成物有权
简体标题：光阻剂组成物
公开(公告)号：TWI397767B
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW095144261
申请日：2006-11-29
申请人：東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：金柄郁 , KIM, BYUNG-UK , 金東敏 , KIM, DONG-MIN , 朴大然 , PARK, DAE-YEON , 金周赫 , KIM, JU-HYUK , 崔基植 , CHOI, KI-SIK , 金貞元 , KIM, JEONG-WON , 李起範 , LEE, KI-BEOM , 卞哲基 , BYEON, CHEOL-KI , 金紋秀 , KIM, MOON-SOO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/022 , C08L61/04

4. 发明专利

TWI334512B 用於液晶裝置之正光阻組合物 POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR LIQUID CRYSTAL DEVICE 有权
简体标题：用于液晶设备之正光阻组合物 POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR LIQUID CRYSTAL DEVICE
公开(公告)号：TWI334512B
公开(公告)日：2010-12-11
申请号：TW093106545
申请日：2004-03-11
申请人：東進世美肯股份有限公司
发明人：李承昱 , 姜勳 , 金東敏 , 趙俊衍 , 朴大然
IPC分类号： G03F
摘要：本發明係關於一種可於液晶顯示電路及半導體積體電路上製造微電路圖案之液晶裝置光阻組合物，詳言之，本發明光阻組合物包含：(A)一清漆樹脂，其分子量介於5,000至9,000間且其中間-甲苯酚與對-甲苯酚的重量比例介於50至80比50至20間，視分子量的不同而定；(B)一光敏二疊氮類化合物；(C)一促黏劑；及(D)一有機溶劑。
本發明之液晶裝置光阻組合物具有極佳的感光速度、層殘存比、電路尺寸均一性、半高區域殘存層厚度均一性、解析度、顯影對比、黏附性、耐熱性及剝除溶解性，因此這些光阻組合物可用來感善產業工作環境。
简体摘要：本发明系关于一种可于液晶显示电路及半导体集成电路上制造微电路图案之液晶设备光阻组合物，详言之，本发明光阻组合物包含：(A)一清漆树脂，其分子量介于5,000至9,000间且其中间-甲苯酚与对-甲苯酚的重量比例介于50至80比50至20间，视分子量的不同而定；(B)一光敏二叠氮类化合物；(C)一促黏剂；及(D)一有机溶剂。本发明之液晶设备光阻组合物具有极佳的感光速度、层残存比、电路尺寸均一性、半高区域残存层厚度均一性、分辨率、显影对比、黏附性、耐热性及剥除溶解性，因此这些光阻组合物可用来感善产业工作环境。

5. 发明专利

TWI396040B 抗光蝕組成物有权
简体标题：抗光蚀组成物
公开(公告)号：TWI396040B
公开(公告)日：2013-05-11
申请号：TW094121420
申请日：2005-06-27
申请人：東進世美肯有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：姜勳 , KANG, HOON , 李承昱 , LEE, SEUNG-UK , 全雨植 , JUN, WOO-SIK , 朴大然 , PARK, DAE-YOUN , 金周赫 , KIM, JU-HYUK , 金柄郁 , KIM, BYUNG-UK
IPC分类号： G03C1/60
CPC分类号： G03F7/0048 , G03F7/0007 , G03F7/022

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