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    • 2. 发明专利
    • 顯示裝置及其製造方法
    • 显示设备及其制造方法
    • TWI250547B
    • 2006-03-01
    • TW091102674
    • 2002-02-18
    • 東芝股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
    • 千草尚高橋大樹阿部美千代青木克之
    • H01J
    • H01J29/896Y10T428/31663
    • 本發明提供一種顯示裝置。該顯示裝置,具有螢光屏面、及在前述螢光屏面上所形成之由3層以上之層而成之多層反射帶電防止膜。前述多層反射帶電防止膜,係從前述螢光屏面依序具有吸收層、導電層以及保護層。前述吸收層係含有至少1種之有機色素、SiO2以及矽烷偶合劑,且前述矽烷偶合劑之含量係對前述SiO2與前述有機色素之固體成份之合計重量為7倍量以下。
      前述矽烷偶合劑,較佳為具有選自烷基、乙烯基、苯基、環氧基、羰基、醚基、羧基、酯基、巰基、醯胺基、胺基、氰基以及硝基中之至少1個功能基者。
      本發明之顯示裝置,係不使用大規模之加熱裝置或冷卻裝置,即能以比較低溫度且短時間之條件進行多層反射帶電防止膜之生產,且並無外觀異常,顯示影像之對比度特性亦優異者。
    • 本发明提供一种显示设备。该显示设备,具有萤光屏面、及在前述萤光屏面上所形成之由3层以上之层而成之多层反射带电防止膜。前述多层反射带电防止膜,系从前述萤光屏面依序具有吸收层、导电层以及保护层。前述吸收层系含有至少1种之有机色素、SiO2以及硅烷偶合剂,且前述硅烷偶合剂之含量系对前述SiO2与前述有机色素之固体成份之合计重量为7倍量以下。 前述硅烷偶合剂,较佳为具有选自烷基、乙烯基、苯基、环氧基、羰基、醚基、羧基、酯基、巯基、酰胺基、胺基、氰基以及硝基中之至少1个功能基者。 本发明之显示设备,系不使用大规模之加热设备或冷却设备,即能以比较低温度且短时间之条件进行多层反射带电防止膜之生产,且并无外观异常,显示影像之对比度特性亦优异者。
    • 4. 发明专利
    • 反射防止膜、及備有該反射防止膜之顯示裝置
    • 反射防止膜、及备有该反射防止膜之显示设备
    • TW303476B
    • 1997-04-21
    • TW082109325
    • 1993-11-08
    • 東芝股份有限公司
    • 千草尚伊藤武夫松田秀三阿部美千代
    • H01JG02FG09F
    • H01J29/896G02B1/115G02B1/116G02F1/133502
    • 本發明,係有關防止外光反射的反射防止膜及備有該反射防止膜之顯示裝置,特別,關於由至少2層薄膜所成的多層反射防止膜。
      係一種在基體上至少將2層薄膜疊片的多層構造之反射防止膜,其特徵為,前述薄膜中的至少1層,含有在400~700nm之全波長域具有吸收的色素,並且,該反射防止膜在具有吸收之波長的反射防止膜之反射率變成比前述基體的反射率小者。該反射防止膜,能夠適用到陰極射線管或液晶顯示裝置等顯示裝置之光透過性顯示部基體,有效地防止外光的反射。
    • 本发明,系有关防止外光反射的反射防止膜及备有该反射防止膜之显示设备,特别,关于由至少2层薄膜所成的多层反射防止膜。 系一种在基体上至少将2层薄膜叠片的多层构造之反射防止膜,其特征为,前述薄膜中的至少1层,含有在400~700nm之全波长域具有吸收的色素,并且,该反射防止膜在具有吸收之波长的反射防止膜之反射率变成比前述基体的反射率小者。该反射防止膜,能够适用到阴极射线管或液晶显示设备等显示设备之光透过性显示部基体,有效地防止外光的反射。
    • 8. 实用新型
    • 陰極射線管
    • 阴极射线管
    • TW588856U
    • 2004-05-21
    • TW093200658
    • 1999-06-17
    • 東芝股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
    • 高橋芳典千草尚青木克之深澤浩義
    • H01J
    • H01J29/896H01J29/868H01J2229/8632H01J2229/8636H01J2229/882
    • 本創作係關於在面屏板(face panel)之外表面,具有防止洩漏電磁波之優異效果,對比被最適合化之反射防止膜之陰極射線管。又,有效率地製造具有上述之洩漏電磁波之防止效果高的反射防止膜之陰極射線管。本創作之構成為:此陰極射線管為在面屏板之外表面,於分別包含著色之ITO與著色之ATO之至少其中之一,及具有與這些之顏色有補色關係之顏色之著色材之透明導電層之上,具有以SiO2為主要成分之層被疊層之反射防止膜。著色ITO以及/或著色ATO係使用粒徑為10~500nm者。又,著色材係使用在550~600nm之波長領域具有最大吸收之染料等,反射防止膜之表面電阻值希望在1×106Ω/sq以下。在具有此種反射防止膜之陰極射線管,AEF有效地被防止,而且對比提昇具有理想之人體色。
    • 本创作系关于在面屏板(face panel)之外表面,具有防止泄漏电磁波之优异效果,对比被最适合化之反射防止膜之阴极射线管。又,有效率地制造具有上述之泄漏电磁波之防止效果高的反射防止膜之阴极射线管。本创作之构成为:此阴极射线管为在面屏板之外表面,于分别包含着色之ITO与着色之ATO之至少其中之一,及具有与这些之颜色有补色关系之颜色之着色材之透明导电层之上,具有以SiO2为主要成分之层被叠层之反射防止膜。着色ITO以及/或着色ATO系使用粒径为10~500nm者。又,着色材系使用在550~600nm之波长领域具有最大吸收之染料等,反射防止膜之表面电阻值希望在1×106Ω/sq以下。在具有此种反射防止膜之阴极射线管,AEF有效地被防止,而且对比提升具有理想之人体色。
    • 9. 发明专利
    • 導電性反射防止膜、導電性反射防止膜之製造方法及陰極射線管
    • 导电性反射防止膜、导电性反射防止膜之制造方法及阴极射线管
    • TW569272B
    • 2004-01-01
    • TW086110083
    • 1997-07-16
    • 東芝股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
    • 千草尚阿部美千代青木克之
    • H01J
    • H01J29/868H01J29/896H01J2229/8913
    • 本發明,係關於做為反射防止膜作用且能防止發生 AEF(洩漏電場Alternating electric field)的導電性反射防止膜,該導電性反射防止膜之製造方法及在螢光屏的前面(面板)之外表面有該導電性反射防止膜的陰極射線管。
      在含有導電材之第1塗膜上,以燒成時的條件下,形成具有和該第1塗膜之膨脹率略相同膨脹率的第2塗膜,將第1及第2塗膜同時燒成。如此地,能夠得到表面電阻值充份低,耐水性及耐藥品性優異,減低反射光之導電性反射防止膜。然後,由把該導電性反射防止膜適用在陰極射線管。能夠得到能幾乎防止發生AEF,同時能經長期顯示高畫質的畫像之陰極射線管。
    • 本发明,系关于做为反射防止膜作用且能防止发生 AEF(泄漏电场Alternating electric field)的导电性反射防止膜,该导电性反射防止膜之制造方法及在萤光屏的前面(皮肤)之外表面有该导电性反射防止膜的阴极射线管。 在含有导电材之第1涂膜上,以烧成时的条件下,形成具有和该第1涂膜之膨胀率略相同膨胀率的第2涂膜,将第1及第2涂膜同时烧成。如此地,能够得到表面电阻值充份低,耐水性及耐药品性优异,减低反射光之导电性反射防止膜。然后,由把该导电性反射防止膜适用在阴极射线管。能够得到能几乎防止发生AEF,同时能经长期显示高画质的画像之阴极射线管。