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    • 1. 发明专利
    • 聚醯亞胺系膜之製造方法
    • 聚酰亚胺系膜之制造方法
    • TW201600335A
    • 2016-01-01
    • TW104117076
    • 2015-05-28
    • 東洋紡股份有限公司TOYOBO CO., LTD.
    • 內山翔子UCHIYAMA, SHOKO多田謙太TADA, KENTA栗田智晴KURITA, TOMOHARU
    • B32B38/10C08J5/18C08G73/10B32B15/088
    • B29C41/02B29C41/24B32B15/08B32B15/088C08G73/10C08J5/18
    • 隨著電子資訊設備等小型輕量化、高機能化之進展,在電氣・電子構件、光裝置構件等使用之膜要求有更優良的耐熱性、透明性、表面平滑性、及光學特性。本發明之課題在於提供以良好良率、有效率地製造耐熱性、表面平滑性、光學特性、及透明性優異且更薄之聚醯亞胺系膜的方法。提供一種聚醯亞胺系膜之製造方法,該聚醯亞胺系膜之表面粗糙度(Rz)小於0.08μm,該方法具有步驟(A)~步驟(C)。 步驟(A):在鏡面光澤度為200以上且表面粗糙度(Rz)為0.5μm以下之金屬材料之表面之一部分或全部疊層溶劑可溶性樹脂A,並獲得金屬疊層體A; 步驟(B):在金屬疊層體A之溶劑可溶性樹脂A層之面更疊層和溶劑可溶性樹脂A為不同的聚醯亞胺系樹脂B,並獲得金屬疊層體B; 步驟(C):從金屬疊層體B將聚醯亞胺系樹脂B層剝離而獲得聚醯亞胺系膜。
    • 随着电子信息设备等小型轻量化、高机能化之进展,在电气・电子构件、光设备构件等使用之膜要求有更优良的耐热性、透明性、表面平滑性、及光学特性。本发明之课题在于提供以良好良率、有效率地制造耐热性、表面平滑性、光学特性、及透明性优异且更薄之聚酰亚胺系膜的方法。提供一种聚酰亚胺系膜之制造方法,该聚酰亚胺系膜之表面粗糙度(Rz)小于0.08μm,该方法具有步骤(A)~步骤(C)。 步骤(A):在镜面光泽度为200以上且表面粗糙度(Rz)为0.5μm以下之金属材料之表面之一部分或全部叠层溶剂可溶性树脂A,并获得金属叠层体A; 步骤(B):在金属叠层体A之溶剂可溶性树脂A层之面更叠层和溶剂可溶性树脂A为不同的聚酰亚胺系树脂B,并获得金属叠层体B; 步骤(C):从金属叠层体B将聚酰亚胺系树脂B层剥离而获得聚酰亚胺系膜。