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1. 发明专利

TW274677B 電漿處理方法及電漿處理裝置以及電漿產生裝置失效
简体标题：等离子处理方法及等离子处理设备以及等离子产生设备
公开(公告)号：TW274677B
公开(公告)日：1996-04-21
申请号：TW084102408
申请日：1995-03-14
申请人：東京電子股份有限公司 , 帝爾工程股份有限公司
发明人：石井信雄 , 岩田輝夫 , 越良一郎 , 輿水地
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H01L21/67069 , C23C16/0245 , C23C16/507 , C23C16/54
摘要：本發明係揭示一可針對被設在處理容器內之被處理體進行電漿成膜處理等之電漿處理的電漿處理方法。該方法具備：將情性氣體導入到處理容器內之第一工程，在處理容器內產生惰性氣體之電漿之第二工程，接著將用於處理被處理體之處理氣體導入到處理容器內之第三工程，以及在處理容器內產生處理氣體之電漿而對被處理體進行處理之第四工程。
简体摘要：本发明系揭示一可针对被设在处理容器内之被处理体进行等离子成膜处理等之等离子处理的等离子处理方法。该方法具备：将情性气体导入到处理容器内之第一工程，在处理容器内产生惰性气体之等离子之第二工程，接着将用于处理被处理体之处理气体导入到处理容器内之第三工程，以及在处理容器内产生处理气体之等离子而对被处理体进行处理之第四工程。

2. 发明专利

TW273068B 電漿處理裝置失效
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TW273068B
公开(公告)日：1996-03-21
申请号：TW083109725
申请日：1994-10-20
申请人：東京電子股份有限公司
发明人：今橋一成 , 田原好文 , 石井信雄 , 西川浩 , 輿水地
IPC分类号： H05H , H01L
摘要：本發明係一種高頻感應型電漿處理裝置。此電漿處理裝置具備：一具有氣體流入口及氣體流出口，且其中規定有處理室之處理容器，一配設於該處理室，用以支持具有被處理面的被處理體之支持機構，一對於上述處理室供給高頻能量，而在該處理室內產生感應電漿之機構，一對於該高頻能量產生機構施加高頻電壓之機構，一在上述電漿產生中，測定上述處理室內之壓力，並輸出對應該壓力變動的信號之機構，以及一根據來自上述測定機構之信號，控制上述高頻電流施加機構，而將施加電壓作可變控制之機構。
简体摘要：本发明系一种高频感应型等离子处理设备。此等离子处理设备具备：一具有气体流入口及气体流出口，且其中规定有处理室之处理容器，一配设于该处理室，用以支持具有被处理面的被处理体之支持机构，一对于上述处理室供给高频能量，而在该处理室内产生感应等离子之机构，一对于该高频能量产生机构施加高频电压之机构，一在上述等离子产生中，测定上述处理室内之压力，并输出对应该压力变动的信号之机构，以及一根据来自上述测定机构之信号，控制上述高频电流施加机构，而将施加电压作可变控制之机构。

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