专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW200712451A 處理流體之流量測定方法、使用處理流體之處理方法及其裝置和處理用記錄媒體失效
简体标题：处理流体之流量测定方法、使用处理流体之处理方法及其设备和处理用记录媒体
公开(公告)号：TW200712451A
公开(公告)日：2007-04-01
申请号：TW095128186
申请日：2006-08-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：佐竹圭吾 SATAKE, KEIGO
IPC分类号： G01F
CPC分类号： H01L21/67253 , G01F1/68 , G01F1/684 , G01F1/6847
摘要： [課題]使得能根據被供給至處理室內之處理流體的被供給時之溫度,正確地測定出處理流體的流量。[解決手段]於將作為被處理體之半導體晶圓W藉由處理流體(舉例而言,臭氧氣體與水蒸氣之混合氣體)來處理的處理室2內,在從處理流體供給源(臭氧產生器7,水蒸氣產生器9)經由處理流體供給管6來供給處理流體時,經由溫度感測器10,來計測出流動於處理流體供給管內之處理流體的溫度,並將其檢測訊號傳達至CPU20,經由CPU20,當流動於處理流體供給管內之處理流體的溫度到達特定之溫度時,判定處理流體為到達特定之流量。
简体摘要： [课题]使得能根据被供给至处理室内之处理流体的被供给时之温度,正确地测定出处理流体的流量。[解决手段]于将作为被处理体之半导体晶圆W借由处理流体(举例而言,臭氧气体与水蒸气之混合气体)来处理的处理室2内,在从处理流体供给源(臭氧产生器7,水蒸气产生器9)经由处理流体供给管6来供给处理流体时,经由温度传感器10,来计测出流动于处理流体供给管内之处理流体的温度,并将其检测信号传达至CPU20,经由CPU20,当流动于处理流体供给管内之处理流体的温度到达特定之温度时,判定处理流体为到达特定之流量。

2. 发明专利

TW200937564A 基板處理裝置及基板處理方法以及記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法以及记忆媒体
公开(公告)号：TW200937564A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097149801
申请日：2008-12-19
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：佐竹圭吾 SATAKE, KEIGO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67253
摘要：本發明的課題是在於提供一種使因為處理液供給單元(13)內的處理液的減少而引起基板處理裝置的强制停止的頻率減少,而有效地使用處理液,成品率良好的基板處理裝置。其解決手段是具備:複數的液處理單元(12),其係對基板實施液處理;基板搬送手段,其係對複數的液處理單元(12)進行基板的搬入‧搬出;處理液供給單元(13),其係供給處理液至複數的液處理單元(12);及液位計(161),其係檢測出上述處理液供給單元(13)的處理液存積槽(16)內的處理液的剩餘量,當液位計(161)所檢測出的處理液存積槽(16)內的處理液的剩餘量低於所定量時,停止基板搬入至液處理單元(12)。
简体摘要：本发明的课题是在于提供一种使因为处理液供给单元(13)内的处理液的减少而引起基板处理设备的强制停止的频率减少,而有效地使用处理液,成品率良好的基板处理设备。其解决手段是具备:复数的液处理单元(12),其系对基板实施液处理;基板搬送手段,其系对复数的液处理单元(12)进行基板的搬入‧搬出;处理液供给单元(13),其系供给处理液至复数的液处理单元(12);及液位计(161),其系检测出上述处理液供给单元(13)的处理液存积槽(16)内的处理液的剩余量,当液位计(161)所检测出的处理液存积槽(16)内的处理液的剩余量低于所定量时,停止基板搬入至液处理单元(12)。

3. 发明专利

TWI287626B 處理流體之流量測定方法、使用處理流體之處理方法及其裝置和處理用記錄媒體失效
简体标题：处理流体之流量测定方法、使用处理流体之处理方法及其设备和处理用记录媒体
公开(公告)号：TWI287626B
公开(公告)日：2007-10-01
申请号：TW095128186
申请日：2006-08-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：佐竹圭吾 SATAKE, KEIGO
IPC分类号： G01F
CPC分类号： H01L21/67253 , G01F1/68 , G01F1/684 , G01F1/6847
摘要： [課題]使得能根據被供給至處理室內之處理流體的被供給時之溫度，正確地測定出處理流體的流量。
[解決手段]於將作為被處理體之半導體晶圓W藉由處理流體(舉例而言，臭氧氣體與水蒸氣之混合氣體)來處理的處理室2內，在從處理流體供給源(臭氧產生器7，水蒸氣產生器9)經由處理流體供給管6來供給處理流體時，經由溫度感測器10，來計測出流動於處理流體供給管內之處理流體的溫度，並將其檢測訊號傳達至CPU20，經由CPU20，當流動於處理流體供給管內之處理流體的溫度到達特定之溫度時，判定處理流體為到達特定之流量。
简体摘要： [课题]使得能根据被供给至处理室内之处理流体的被供给时之温度，正确地测定出处理流体的流量。 [解决手段]于将作为被处理体之半导体晶圆W借由处理流体(举例而言，臭氧气体与水蒸气之混合气体)来处理的处理室2内，在从处理流体供给源(臭氧产生器7，水蒸气产生器9)经由处理流体供给管6来供给处理流体时，经由温度传感器10，来计测出流动于处理流体供给管内之处理流体的温度，并将其检测信号传达至CPU20，经由CPU20，当流动于处理流体供给管内之处理流体的温度到达特定之温度时，判定处理流体为到达特定之流量。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式