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2. 发明专利

TW201135833A 靜電式夾持裝置 ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE 审中-公开
简体标题：静电式夹持设备 ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE
公开(公告)号：TW201135833A
公开(公告)日：2011-10-16
申请号：TW099142753
申请日：2010-12-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , 住友大阪水泥股份有限公司
发明人：佐佐木康晴 , 增澤健二 , 真壁曉之 , 小坂井守 , 佐藤隆 , 石村和典 , 早原龍二 , 河野仁
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6831 , H01J37/32642 , H01J2237/332 , H01J2237/338 , H01L21/67069 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248
摘要：本發明係提供一種靜電式夾持裝置,其係藉由靜電式夾持部、以包圍該靜電式夾持部之方式設置之環狀聚焦環部、及用以冷卻此等靜電式夾持部及聚焦環部之冷卻基座部所構成,前述聚焦環部係具備:環狀聚焦環、環狀導熱薄板、環狀陶瓷環、非磁性體之加熱器、及對該加熱器供電之電極部。
简体摘要：本发明系提供一种静电式夹持设备,其系借由静电式夹持部、以包围该静电式夹持部之方式设置之环状聚焦环部、及用以冷却此等静电式夹持部及聚焦环部之冷却基座部所构成,前述聚焦环部系具备:环状聚焦环、环状导热薄板、环状陶瓷环、非磁性体之加热器、及对该加热器供电之电极部。

3. 发明专利

TWI621206B 載置台及電漿處理裝置有权
简体标题：载置台及等离子处理设备
公开(公告)号：TWI621206B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW103106079
申请日：2014-02-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：富岡武敏 , TOMIOKA, TAKETOSHI , 後平拓 , GOHIRA, TAKU , 真壁曉之 , MAKABE, TOSHIYUKI
IPC分类号： H01L21/683 , H01J37/20 , H01J37/32

4. 发明专利

TW201444020A 載置台及電漿處理裝置审中-公开
简体标题：载置台及等离子处理设备
公开(公告)号：TW201444020A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW103106079
申请日：2014-02-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：富岡武敏 , TOMIOKA, TAKETOSHI , 後平拓 , GOHIRA, TAKU , 真壁曉之 , MAKABE, TOSHIYUKI
IPC分类号： H01L21/683 , H01J37/20 , H01J37/32
摘要：本發明旨在提供一種載置台及電漿處理裝置，可抑制被處理體之中央部區域與端部區域中溫度不均一。其中載置台包含：基座部，於內部形成冷媒用流路；及靜電吸盤，設於基座部上，具有載置被處理體之載置面，靜電吸附被處理體。基座部包含：第1上表面，設置靜電吸盤；環狀之第2上表面，設於較該第1上表面更外方低於該第1上表面之位置，設置聚焦環；及側面，於第1上表面與第2上表面之間沿鉛直方向延伸。流路包含中央流路及周緣流路。中央流路於第1上表面之下方延伸。周緣流路於第2上表面之下方延伸，且包含於第1上表面之下方沿側面朝設有第1上表面之方向延伸之部分。於載置面，呈點狀設有接觸被處理體之背面之複數之凸部，載置面之端部區域之複數之凸部與被處理體之背面接觸之面積每單位面積之大小，大於載置面之中央部區域之複數之凸部與被處理體之背面接觸之面積每單位面積之大小。
简体摘要：本发明旨在提供一种载置台及等离子处理设备，可抑制被处理体之中央部区域与端部区域中温度不均一。其中载置台包含：基座部，于内部形成冷媒用流路；及静电吸盘，设于基座部上，具有载置被处理体之载置面，静电吸附被处理体。基座部包含：第1上表面，设置静电吸盘；环状之第2上表面，设于较该第1上表面更外方低于该第1上表面之位置，设置聚焦环；及侧面，于第1上表面与第2上表面之间沿铅直方向延伸。流路包含中央流路及周缘流路。中央流路于第1上表面之下方延伸。周缘流路于第2上表面之下方延伸，且包含于第1上表面之下方沿侧面朝设有第1上表面之方向延伸之部分。于载置面，呈点状设有接触被处理体之背面之复数之凸部，载置面之端部区域之复数之凸部与被处理体之背面接触之面积每单位面积之大小，大于载置面之中央部区域之复数之凸部与被处理体之背面接触之面积每单位面积之大小。

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