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1. 发明专利

TW202004961A 水平式基板舟审中-公开
公开(公告)号：TW202004961A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108107565
申请日：2019-03-07
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：德姆沙艾昂 , DOMSA, IOAN , 科爾根伊恩 , COLGAN, IAN , 齋藤誠 , SAITO, MAKOTO , 山崎滿 , YAMAZAKI, MITSURU , 艾瑞斯喬治 , EYRES, GEORGE
IPC分类号： H01L21/673
摘要：提供水平式基板載具，譬如用於在水平式熱處理期間固持半導體基板之載具。水平式基板載具具有不對稱放置的支撐導軌。水平式基板載具之一側沒有上導軌，而水平式基板載具的另一側具有放置於相對高之位置的上導軌，例如在60° 或更大、更佳地是於70° 或更大、且最佳的是在90° 之角位置。沒有上導軌的一側可用於以機器手臂裝載水平式基板載具。在較佳實施例中，僅提供三條導軌：於一側上之一上導軌和二下導軌。這三條導軌的使用及配置可將基板固持在精確均勻之位置中，最小化基板運動，並最小化微粒產生，而全部同時允許輕易之機器手臂接取。
简体摘要：提供水平式基板载具，譬如用于在水平式热处理期间固持半导体基板之载具。水平式基板载具具有不对称放置的支撑导轨。水平式基板载具之一侧没有上导轨，而水平式基板载具的另一侧具有放置于相对高之位置的上导轨，例如在60° 或更大、更佳地是于70° 或更大、且最佳的是在90° 之角位置。没有上导轨的一侧可用于以机器手臂装载水平式基板载具。在较佳实施例中，仅提供三条导轨：于一侧上之一上导轨和二下导轨。这三条导轨的使用及配置可将基板固持在精确均匀之位置中，最小化基板运动，并最小化微粒产生，而全部同时允许轻易之机器手臂接取。

2. 发明专利

TW201841216A 基板處理裝置及處理系統审中-公开
简体标题：基板处理设备及处理系统
公开(公告)号：TW201841216A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107105800
申请日：2018-02-21
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：前原大樹 , MAEHARA, HIROKI , 渡邊直樹 , WATANABE, NAOKI , 石井亨 , ISHII, TORU , 中村貫人 , NAKAMURA, KANTO , 齋藤誠 , SAITO, MAKOTO , 赫爾利大衛 , HURLEY, DAVID , 科爾岡伊恩 , COLGAN, IAN
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
摘要：本發明提供一種在MRAM的製造工序中，可在成膜後以單片來進行著磁處理及退火處理之基板處理裝置及處理系統。一實施型態之基板處理裝置及處理系統係單片地處理具有磁性層之基板，具備有：支撐部，係支撐基板；加熱部，係加熱支撐部所支撐之基板；冷卻部，係冷卻支撐部所支撐之基板；磁石部，係用以產生磁場；以及處理容器，係收納支撐部、加熱部及冷卻部；磁石部係具備有相互並行地延伸之第1端面與第2端面；第1端面與第2端面為分離的且相對向；第1端面係對應於磁石部的第1磁極；第2端面係對應於磁石部的第2磁極；處理容器係配置於第1端面與第2端面之間。
简体摘要：本发明提供一种在MRAM的制造工序中，可在成膜后以单片来进行着磁处理及退火处理之基板处理设备及处理系统。一实施型态之基板处理设备及处理系统系单片地处理具有磁性层之基板，具备有：支撑部，系支撑基板；加热部，系加热支撑部所支撑之基板；冷却部，系冷却支撑部所支撑之基板；磁石部，系用以产生磁场；以及处理容器，系收纳支撑部、加热部及冷却部；磁石部系具备有相互并行地延伸之第1端面与第2端面；第1端面与第2端面为分离的且相对向；第1端面系对应于磁石部的第1磁极；第2端面系对应于磁石部的第2磁极；处理容器系配置于第1端面与第2端面之间。

3. 发明专利

TWI645042B 磁性退火裝置有权
简体标题：磁性退火设备
公开(公告)号：TWI645042B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW104128551
申请日：2015-08-31
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山崎滿 , YAMAZAKI, MITSURU , 克拉克貝瑞 , CLARKE, BARRY , 科爾根伊恩 , COLGAN, IAN , 艾瑞斯喬治 , EYRES, GEORGE , 德姆沙艾昂 , DOMSA, IOAN
IPC分类号： C21D1/04 , C21D9/00 , H01L43/12

4. 发明专利

TW201833947A 工作件磁化系統及其操作方法审中-公开
简体标题：工作件磁化系统及其操作方法
公开(公告)号：TW201833947A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106146127
申请日：2017-12-28
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：科爾根伊恩 , COLGAN, IAN , 德姆沙艾昂 , DOMSA, IOAN , 艾瑞斯喬治 , EYRES, GEORGE , 石井亨 , ISHII, TORU , 齊藤誠 , SAITO, MAKOTO , 赫爾利大衛 , HURLEY, DAVID , 歐蕭尼西諾埃爾 , O'SHAUGHNESSY, NOEL , 克拉克貝瑞 , CLARKE, BARRY , 林狄賈提范德 , LINDE, JATTIE VAN DER , 休斯帕特 , HUGHES, PAT
IPC分类号： H01F13/00 , H01L43/12
摘要：本揭露內容描述用以使一或更多工作件磁性退火的設備及該設備的操作方法。該設備包含：用以支撐一或更多工作件的工作件固持器，其中該一或更多工作件具有至少一實質上平坦表面；一選用的工作件加熱系統，其係配置成使一或更多工作件升溫至退火溫度；及具有第一磁體及第二磁體的磁體組件，該第一及第二磁體在每一磁體的相反極之間定義間隙，其中該磁體組件係設置成產生實質上垂直於一或更多工作件之平坦表面的磁場。
简体摘要：本揭露内容描述用以使一或更多任务作件磁性退火的设备及该设备的操作方法。该设备包含：用以支撑一或更多任务作件的工作件固持器，其中该一或更多任务作件具有至少一实质上平坦表面；一选用的工作件加热系统，其系配置成使一或更多任务作件升温至退火温度；及具有第一磁体及第二磁体的磁体组件，该第一及第二磁体在每一磁体的相反极之间定义间隙，其中该磁体组件系设置成产生实质上垂直于一或更多任务作件之平坦表面的磁场。

5. 发明专利

TW201904100A 用於降低的覆蓋區域製造環境之直立多批次磁性退火系統审中-公开
简体标题：用于降低的覆盖区域制造环境之直立多批次磁性退火系统
公开(公告)号：TW201904100A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107115408
申请日：2018-05-07
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：科爾根伊恩 , COLGAN, IAN , 德姆沙艾昂 , DOMSA, IOAN , 艾瑞斯喬治 , EYRES, GEORGE , 齋藤誠 , SAITO, MAKOTO , 歐蕭尼西諾埃爾 , O'SHAUGHNESSY, NOEL , 石井亨 , ISHII, TORU , 赫爾利大衛 , HURLEY, DAVID
IPC分类号： H01L43/12 , H01L27/22 , H01L21/477 , C21D1/42
摘要：描述關於退火系統與使用直立多批次垂直磁性退火系統以處理微電子工件之相關方法的實施例，該直立多批次垂直磁性退火系統允許多個退火系統的並排構造，以滿足降低的覆蓋區域需求。
简体摘要：描述关于退火系统与使用直立多批次垂直磁性退火系统以处理微电子工件之相关方法的实施例，该直立多批次垂直磁性退火系统允许多个退火系统的并排构造，以满足降低的覆盖区域需求。

6. 发明专利

TW201623634A 磁性退火裝置审中-公开
简体标题：磁性退火设备
公开(公告)号：TW201623634A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104128551
申请日：2015-08-31
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山崎滿 , YAMAZAKI, MITSURU , 克拉克貝瑞 , CLARKE, BARRY , 科爾根伊恩 , COLGAN, IAN , 艾瑞斯喬治 , EYRES, GEORGE , 德姆沙艾昂 , DOMSA, IOAN
IPC分类号： C21D1/04 , C21D9/00
CPC分类号： F27B17/0025 , F27D5/0037 , F27D99/0001 , H01L21/67115 , H01L21/67754 , H01L43/12
摘要：本發明提供一種磁性退火裝置，用於將複數之基板在磁場中退火，其包含：橫長筒狀的處理容器，用於在收納該複數之基板之狀態下將該基板磁性退火處理；加熱機構，設置為自外部覆蓋該處理容器之沿長邊方向延伸的面中之至少一部分；磁石，設置為自更外部覆蓋該加熱機構；基板保持具，可於該處理容器內保持該複數之基板；以及隔熱板，設置成包圍著該基板保持具之至少一部分。
简体摘要：本发明提供一种磁性退火设备，用于将复数之基板在磁场中退火，其包含：横长筒状的处理容器，用于在收纳该复数之基板之状态下将该基板磁性退火处理；加热机构，设置为自外部覆盖该处理容器之沿长边方向延伸的面中之至少一部分；磁石，设置为自更外部覆盖该加热机构；基板保持具，可于该处理容器内保持该复数之基板；以及隔热板，设置成包围着该基板保持具之至少一部分。

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