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1. 发明专利

TW201826431A 基板處理裝置及基板搬送方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板搬送方法
公开(公告)号：TW201826431A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106131898
申请日：2017-09-18
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：長久保啟一 , NAGAKUBO, KEIICHI , 佐佐木義明 , SASAKI, YOSHIAKI
IPC分类号： H01L21/677
摘要：提供一種可正確地特定出以重疊之方式來配置的2片基板之各位置的基板搬送方法。在以重疊的方式，藉由搬送臂來保持2片晶圓的基板處理裝置中，下方晶圓檢出感應器之發光部係以配置於在將下方晶圓朝向程序模組內部搬送時，下方晶圓所會通過之區域，並且位於下方晶圓及上方晶圓之間的方式來加以配置，下方晶圓檢出感應器的感光部係以透過下方晶圓而與發光部對向的方式來加以配置，上方晶圓檢出感應器係配置於在將上方晶圓朝向程序模組內部搬送時，上方晶圓所會通過之區域。
简体摘要：提供一种可正确地特定出以重叠之方式来配置的2片基板之各位置的基板搬送方法。在以重叠的方式，借由搬送臂来保持2片晶圆的基板处理设备中，下方晶圆检出感应器之发光部系以配置于在将下方晶圆朝向进程模块内部搬送时，下方晶圆所会通过之区域，并且位于下方晶圆及上方晶圆之间的方式来加以配置，下方晶圆检出感应器的感光部系以透过下方晶圆而与发光部对向的方式来加以配置，上方晶圆检出感应器系配置于在将上方晶圆朝向进程模块内部搬送时，上方晶圆所会通过之区域。

2. 外观设计

TWD155120S 電漿處理裝置用電極構件有权
简体标题：等离子处理设备用电极构件
公开(公告)号：TWD155120S
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW101301747
申请日：2012-03-30
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
设计人：長久保啟一 , NAGAKUBO, KEIICHI

3. 外观设计

TWD155119S 電漿處理裝置用電極板有权
简体标题：等离子处理设备用电极板
公开(公告)号：TWD155119S
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW101301746
申请日：2012-03-30
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
设计人：桑原有生 , KUWABARA, YUSEI , 長久保啟一 , NAGAKUBO, KEIICHI

4. 发明专利

TWI502618B 電漿蝕刻用之電極板及電漿蝕刻處理裝置有权
简体标题：等离子蚀刻用之电极板及等离子蚀刻处理设备
公开(公告)号：TWI502618B
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW100134605
申请日：2011-09-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：佐藤直行 , SATOH, NAOYUKI , 長山將之 , NAGAYAMA, NOBUYUKI , 長久保啟一 , NAGAKUBO, KEIICHI
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32449 , C23C16/455 , C23C16/45561 , C23C16/45563 , C23C16/45565 , C23C16/505 , C23C16/509 , H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/32541

5. 外观设计

TWD154353S 聚焦環有权
简体标题：聚焦环
公开(公告)号：TWD154353S
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101301750
申请日：2012-03-30
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
设计人：桑原有生 , KUWABARA, YUSEI , 長久保啟一 , NAGAKUBO, KEIICHI

6. 发明专利

TW201801812A 基板搬送機構之洗淨方法及基板處理系統审中-公开
简体标题：基板搬送机构之洗净方法及基板处理系统
公开(公告)号：TW201801812A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106108445
申请日：2017-03-15
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：長久保啟一 , NAGAKUBO, KEIICHI
IPC分类号： B08B7/00 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： B08B7/0071 , H01L21/67109 , H01L21/67173 , H01L21/6719 , H01L21/67207 , H01L21/67248 , H01L21/67742 , H01L21/67748
摘要：本發明提供一種可抑制成本的上升，且防止熱損傷之基板搬送機構之洗淨方法。搬送臂的各拾取器會重複朝使AFS昇華之PHT處理模組內的進入及自PHT處理模組內的退出。
简体摘要：本发明提供一种可抑制成本的上升，且防止热损伤之基板搬送机构之洗净方法。搬送臂的各十取器会重复朝使AFS升华之PHT处理模块内的进入及自PHT处理模块内的退出。

7. 发明专利

TWI587748B 電漿處理裝置用的消耗零件的再利用方法有权
简体标题：等离子处理设备用的消耗零件的再利用方法
公开(公告)号：TWI587748B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW099119117
申请日：2010-06-11
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：長山將之 , NAGAYAMA, NOBUYUKI , 佐藤直行 , SATOH, NAOYUKI , 長久保啟一 , NAGAKUBO, KEIICHI , 永關一也 , NAGASEKI, KAZUYA
IPC分类号： H05H1/00 , C23C16/32 , H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/465 , C23C16/0227 , C23C16/325 , C23C16/4418 , H01J37/32467 , H01J37/32862

8. 外观设计

TWD154352S 聚焦環有权
简体标题：聚焦环
公开(公告)号：TWD154352S
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101301748
申请日：2012-03-30
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
设计人：桑原有生 , KUWABARA, YUSEI , 長久保啟一 , NAGAKUBO, KEIICHI

9. 发明专利

TW202027207A 基板處理裝置及基板搬送方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板搬送方法
公开(公告)号：TW202027207A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108140026
申请日：2019-11-05
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：遠藤榮幾 , ENDO, EIKI , 金丸秀忠 , KANEMARU, HIDETADA , 齊藤泰宏 , SAITO, YASUHIRO , 長久保啟一 , NAGAKUBO, KEIICHI , 坂本儀秀 , SAKAMOTO, YOSHIHIDE , 岩崎智德 , IWASAKI, TOMONORI
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07
摘要：本發明為一種基板處理裝置，具有載置埠、加載互鎖室、處理模組、基板搬送機構及控制部；基板搬送機構係具有複數基板保持部，各基板保持部係構成為會保持1片基板；控制部在處理模組是一片片地處理基板之情況，會控制基板搬送機構來使第1基板保持部會在載置埠與處理模組間搬送基板，且使第2基板保持部會在加載互鎖室與處理模組間搬送基板；在處理模組是同時處理複數基板之情況，會控制基板搬送機構來使複數基板保持部會在載置埠、加載互鎖室及處理模組間同時搬送複數基板。
简体摘要：本发明为一种基板处理设备，具有载置端口、加载互锁室、处理模块、基板搬送机构及控制部；基板搬送机构系具有复数基板保持部，各基板保持部系构成为会保持1片基板；控制部在处理模块是一片片地处理基板之情况，会控制基板搬送机构来使第1基板保持部会在载置端口与处理模块间搬送基板，且使第2基板保持部会在加载互锁室与处理模块间搬送基板；在处理模块是同时处理复数基板之情况，会控制基板搬送机构来使复数基板保持部会在载置端口、加载互锁室及处理模块间同时搬送复数基板。

10. 发明专利

TWI622326B 表面處理方法有权
简体标题：表面处理方法
公开(公告)号：TWI622326B
公开(公告)日：2018-04-21
申请号：TW099122667
申请日：2010-07-09
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：佐藤直行 , SATOH, NAOYUKI , 長山將之 , NAGAYAMA, NOBUYUKI , 長久保啟一 , NAGAKUBO, KEIICHI
IPC分类号： H05H1/00
CPC分类号： C23C8/36 , C23C8/80 , C23C16/325 , C23C16/4404 , C23C16/56 , H01J2237/31

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