专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI699394B 遮光構件、黑色樹脂組成物及黑色樹脂成形品有权
简体标题：遮光构件、黑色树脂组成物及黑色树脂成形品
公开(公告)号：TWI699394B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW105115797
申请日：2016-05-20
申请人：日商木本股份有限公司 , KIMOTO CO., LTD.
发明人：長濱豪士 , NAGAHAMA, TSUYOSHI
IPC分类号： C08L101/00 , G02B1/04

2. 发明专利

TW201708402A 遮光構件、黑色樹脂組成物及黑色樹脂成形品审中-公开
简体标题：遮光构件、黑色树脂组成物及黑色树脂成形品
公开(公告)号：TW201708402A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105115797
申请日：2016-05-20
申请人：木本股份有限公司 , KIMOTO CO., LTD.
发明人：長濱豪士 , NAGAHAMA, TSUYOSHI
IPC分类号： C08L101/00 , G02B1/04
CPC分类号： C08K3/04 , B32B27/20 , B32B2264/10 , B32B2307/41 , C08K2201/001 , C08K2201/003 , C08K2201/014 , C08L101/00 , G02B5/003 , G02B27/0018 , C08L75/04
摘要：本發明係提供一種可提高每單位規定厚度之光學濃度的遮光構件、黑色樹脂組成物及黑色樹脂成形品等。在具備基材(2)、與設於該基材(2)之至少一面的遮光膜(3)的遮光構件(1)中，係採用含有黏結劑樹脂(31)、平均粒徑D50為0.4~2.5μm的第1黑色顏料(32)及具有小於其之平均粒徑D50的第2黑色顏料(33)的遮光膜(3)。第2黑色顏料(33)的平均粒徑D50較佳為0.01~0.3μm。又，遮光膜(3)的光學濃度，以厚度換算較佳為0.54~2.00(μm-1)。
简体摘要：本发明系提供一种可提高每单位规定厚度之光学浓度的遮光构件、黑色树脂组成物及黑色树脂成形品等。在具备基材(2)、与设于该基材(2)之至少一面的遮光膜(3)的遮光构件(1)中，系采用含有黏结剂树脂(31)、平均粒径D50为0.4~2.5μm的第1黑色颜料(32)及具有小于其之平均粒径D50的第2黑色颜料(33)的遮光膜(3)。第2黑色颜料(33)的平均粒径D50较佳为0.01~0.3μm。又，遮光膜(3)的光学浓度，以厚度换算较佳为0.54~2.00(μm-1)。

3. 发明专利

TW201840711A 遮光性滑動薄膜、遮光性滑動構件及遮光性滑動薄膜用樹脂組成物审中-公开
简体标题：遮光性滑动薄膜、遮光性滑动构件及遮光性滑动薄膜用树脂组成物
公开(公告)号：TW201840711A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW106142328
申请日：2017-12-04
申请人：日商木本股份有限公司 , KIMOTO CO., LTD.
发明人：長濱豪士 , NAGAHAMA, TSUYOSHI
IPC分类号： C08L75/04 , C08K3/04 , C08L91/06 , B32B27/40 , B32B27/20 , G02B1/04 , G02B5/20 , G03B9/02 , G03B9/10 , G03B9/36
摘要：提供塗膜強度及耐磨耗性優良之遮光性滑動薄膜及遮光性滑動構件等。於基材(11)之至少1個以上之表面(11a)、(11b)，設置遮光性滑動薄膜(21)，該遮光性滑動薄膜(21)至少含有多元醇與聚異氰酸酯硬化劑之硬化物的胺基甲酸酯系黏合劑樹脂、碳黑及粒子狀蠟，該胺基甲酸酯系黏合劑樹脂，係前述多元醇與前述聚異氰酸酯硬化劑之摻合比例，以前述聚異氰酸酯硬化劑所具有之NCO基與前述多元醇所具有之OH基的比率計，為1：1.21~1.40。遮光性滑動薄膜(21)，較佳為實質上不含有平均粒子徑D50為3.0μm以上之無機填料及/或平均粒子徑D50為3.0μm以上之樹脂珠。
简体摘要：提供涂膜强度及耐磨耗性优良之遮光性滑动薄膜及遮光性滑动构件等。于基材(11)之至少1个以上之表面(11a)、(11b)，设置遮光性滑动薄膜(21)，该遮光性滑动薄膜(21)至少含有多元醇与聚异氰酸酯硬化剂之硬化物的胺基甲酸酯系黏合剂树脂、碳黑及粒子状蜡，该胺基甲酸酯系黏合剂树脂，系前述多元醇与前述聚异氰酸酯硬化剂之掺合比例，以前述聚异氰酸酯硬化剂所具有之NCO基与前述多元醇所具有之OH基的比率计，为1：1.21~1.40。遮光性滑动薄膜(21)，较佳为实质上不含有平均粒子径D50为3.0μm以上之无机填料及/或平均粒子径D50为3.0μm以上之树脂珠。

4. 发明专利

TW201833650A 層合遮光薄膜、以及使用其之光學機器用遮光環、透鏡單元及相機模組审中-公开
简体标题：层合遮光薄膜、以及使用其之光学机器用遮光环、透镜单元及相机模块
公开(公告)号：TW201833650A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106134137
申请日：2017-10-03
申请人：日商木本股份有限公司 , KIMOTO CO., LTD.
发明人：長濱豪士 , NAGAHAMA, TSUYOSHI , 豊島靖磨 , TOSHIMA, YASUMARO , 上垣聡 , UEGAKI, SATOSHI , 山本拡輝 , YAMAMOTO, HIROKI
IPC分类号： G03B11/00 , G02B5/22
摘要：本發明係提供一種具有黑色之遮光層，同時表背面之判別為容易的層合遮光薄膜等。層合遮光薄膜(100)係具有一種層合構造，該層合構造至少具備基材薄膜(11)、與設置於此基材薄膜(11)之一方之主面(11a)側的第一黑色遮光層(21)、與設置於另一方之主面(11b)側的第二黑色遮光層(31)。第一黑色遮光層(21)及第二黑色遮光層(31)係各自具有2.5以上之光學密度及5.0%以下之60度光澤度，第一黑色遮光層(21)係具有與第二黑色遮光層(31)不同的60度光澤度及／或明度指數(L＊)。基材薄膜(11)、第一黑色遮光層(21)及／或第二黑色遮光層(31)係具有由第一黑色遮光層(21)朝向第二黑色遮光層(31)而使薄膜寬度擴開的傾斜端面(12、22、32)為理想。
简体摘要：本发明系提供一种具有黑色之遮光层，同时表背面之判别为容易的层合遮光薄膜等。层合遮光薄膜(100)系具有一种层合构造，该层合构造至少具备基材薄膜(11)、与设置于此基材薄膜(11)之一方之主面(11a)侧的第一黑色遮光层(21)、与设置于另一方之主面(11b)侧的第二黑色遮光层(31)。第一黑色遮光层(21)及第二黑色遮光层(31)系各自具有2.5以上之光学密度及5.0%以下之60度光泽度，第一黑色遮光层(21)系具有与第二黑色遮光层(31)不同的60度光泽度及／或明度指数(L＊)。基材薄膜(11)、第一黑色遮光层(21)及／或第二黑色遮光层(31)系具有由第一黑色遮光层(21)朝向第二黑色遮光层(31)而使薄膜宽度扩开的倾斜端面(12、22、32)为理想。

5. 发明专利

TW201712370A 遮光構件、黑色樹脂組成物及黑色樹脂成形品审中-公开
简体标题：遮光构件、黑色树脂组成物及黑色树脂成形品
公开(公告)号：TW201712370A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105115798
申请日：2016-05-20
申请人：木本股份有限公司 , KIMOTO CO., LTD.
发明人：長濱豪士 , NAGAHAMA, TSUYOSHI
IPC分类号： G02B5/00 , G02B7/02 , B32B27/20 , G03B11/00
CPC分类号： C09D7/61 , B05D1/28 , B05D3/0413 , B05D3/067 , B05D5/06 , B05D7/04 , B05D2601/02 , B32B27/20 , C08K3/04 , C08K2201/001 , C09D4/00 , C09D5/32 , C09D7/42 , G02B5/003 , G02B7/02 , G02B27/0018 , G03B11/00
摘要：本發明係提供一種耐久性及耐溶劑性優良的遮光構件、黑色樹脂組成物及黑色樹脂成形品等。在具備基材(11)、與設於該基材(11)之至少一面的遮光膜(21)的遮光構件(1)中，係採用含有紫外線硬化型樹脂作為黏結劑樹脂，且含有黑色顏料作為分散於該黏結劑樹脂中的填充劑的遮光膜(21)。遮光膜(21)較佳為進一步含有光及/或熱聚合起始劑。又，遮光膜(21)中之填充劑的含量，以相對於遮光膜(21)中所含之全樹脂成分的固形分換算，較佳為10質量%以上、60質量%以下。
简体摘要：本发明系提供一种耐久性及耐溶剂性优良的遮光构件、黑色树脂组成物及黑色树脂成形品等。在具备基材(11)、与设于该基材(11)之至少一面的遮光膜(21)的遮光构件(1)中，系采用含有紫外线硬化型树脂作为黏结剂树脂，且含有黑色颜料作为分散于该黏结剂树脂中的填充剂的遮光膜(21)。遮光膜(21)较佳为进一步含有光及/或热聚合起始剂。又，遮光膜(21)中之填充剂的含量，以相对于遮光膜(21)中所含之全树脂成分的固形分换算，较佳为10质量%以上、60质量%以下。

6. 发明专利

TW201841042A 層積遮光薄膜、以及使用其的光學機器用遮光環、透鏡單元及攝影機模組审中-公开
简体标题：层积遮光薄膜、以及使用其的光学机器用遮光环、透镜单元及摄影机模块
公开(公告)号：TW201841042A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107109209
申请日：2018-03-19
申请人：日商木本股份有限公司 , KIMOTO CO., LTD.
发明人：長濱豪士 , NAGAHAMA, TSUYOSHI
IPC分类号： G03B11/04 , G03B17/28
摘要：提供一種即便具有通常難以判別表裏的光學密度高的遮光層，也容易判別表裏面的層積遮光薄膜等。層積遮光薄膜(100)，具有：至少具備基材薄膜(11)、設於該基材薄膜(11)的一方的主面(11a)側的遮光層(21)、及設於另一方的主面(11b)側的遮光層(31)的層積構造；遮光層(21)及遮光層(31)合計具有2.5以上的光學密度；遮光層(21)及遮光層(31)的60度光澤度之差為0.1%以上9.9%以下。基材薄膜(11)、遮光層(21)及/或遮光層(31)具有從遮光層(21)朝向遮光層(31)使薄膜寬度擴展開的傾斜端面(12、22、32)較佳。
简体摘要：提供一种即便具有通常难以判别表里的光学密度高的遮光层，也容易判别表里面的层积遮光薄膜等。层积遮光薄膜(100)，具有：至少具备基材薄膜(11)、设于该基材薄膜(11)的一方的主面(11a)侧的遮光层(21)、及设于另一方的主面(11b)侧的遮光层(31)的层积构造；遮光层(21)及遮光层(31)合计具有2.5以上的光学密度；遮光层(21)及遮光层(31)的60度光泽度之差为0.1%以上9.9%以下。基材薄膜(11)、遮光层(21)及/或遮光层(31)具有从遮光层(21)朝向遮光层(31)使薄膜宽度扩展开的倾斜端面(12、22、32)较佳。

7. 发明专利

TW201602642A 光學機器用遮光材及其製造方法审中-公开
简体标题：光学机器用遮光材及其制造方法
公开(公告)号：TW201602642A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104117945
申请日：2015-06-03
申请人：木本股份有限公司 , KIMOTO CO., LTD.
发明人：長濱豪士 , NAGAHAMA, TSUYOSHI , 豊島靖麿 , TOSHIMA, YASUMARO
IPC分类号： G02B5/00 , G02B1/11 , C09D5/00 , C09D7/12 , G03B9/00
CPC分类号： G02B5/003 , G02B1/16 , G02B2207/121 , G03B9/02 , G03B9/08 , G03B11/00
摘要：本發明提供一種製造光學機器遮光材之方法，該遮光材具有即使極薄地形成遮光膜時，仍可一面保持遮光性等遮光膜之必要物性，一面實現低光澤之遮光膜。本發明之製造具有遮光膜之光學機器用遮光材之方法中，準備至少包含黏合劑樹脂、黑色微粒子及染料之塗佈液。作為染料較好使用包含氧化鉻、氧化鐵、氧化鈷等金屬之染料。接著，將該塗佈液塗佈於基材上並乾燥，而形成遮光膜。
简体摘要：本发明提供一种制造光学机器遮光材之方法，该遮光材具有即使极薄地形成遮光膜时，仍可一面保持遮光性等遮光膜之必要物性，一面实现低光泽之遮光膜。本发明之制造具有遮光膜之光学机器用遮光材之方法中，准备至少包含黏合剂树脂、黑色微粒子及染料之涂布液。作为染料较好使用包含氧化铬、氧化铁、氧化钴等金属之染料。接着，将该涂布液涂布于基材上并干燥，而形成遮光膜。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式