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1. 发明专利

TWI530718B 偏光板裁切磨邊裝置及提高偏光板吸收軸精度的製造方法有权
简体标题：偏光板裁切磨边设备及提高偏光板吸收轴精度的制造方法
公开(公告)号：TWI530718B
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：TW103110152
申请日：2014-03-18
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORPORATION
发明人：陳銘訓 , CHEN, MINGHSUN , 郭真寬 , KUO, CHENKUAN , 吳建宏 , WU, JIANHUNG
IPC分类号： G02B5/30

2. 发明专利

TWI564603B 量子棒膜有权
公开(公告)号：TWI564603B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW104115271
申请日：2015-05-13
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORPORATION
发明人：吳建宏 , WU, JIANHUNG , 趙士維 , CHAO, SHIHWEI
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/207 , G02B5/1809 , G02B5/1819 , G02F1/133609 , G02F1/13362 , G02F2001/133614 , G02F2201/30 , G02F2202/36 , H01L33/60

3. 发明专利

TWI461760B 偏光膜的裁切方法及其裁切系統有权
简体标题：偏光膜的裁切方法及其裁切系统
公开(公告)号：TWI461760B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW101147210
申请日：2012-12-13
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORPORATION
发明人：吳建宏 , WU, JIANHUNG
IPC分类号： G02B5/30

4. 发明专利

TW201640153A 量子棒膜审中-公开
公开(公告)号：TW201640153A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW104115271
申请日：2015-05-13
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORPORATION
发明人：吳建宏 , WU, JIANHUNG , 趙士維 , CHAO, SHIHWEI
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/207 , G02B5/1809 , G02B5/1819 , G02F1/133609 , G02F1/13362 , G02F2001/133614 , G02F2201/30 , G02F2202/36 , H01L33/60
摘要：本發明係有關於一種用於液晶顯示器之背光模組中之量子棒膜，其包含一第一阻隔層，一次波長微結構，以及複數個量子棒；其中，次波長微結構具有成平行方向排列之一光柵，平行光柵間之凹槽具有與光柵排列方向垂直之一配向微結構，以及光柵頂部具有一反射面；這些量子棒堆疊於次波長微結構中之配向微結構中，且這些量子棒之長軸排列方向垂直於光柵之排列方向。
简体摘要：本发明系有关于一种用于液晶显示器之背光模块中之量子棒膜，其包含一第一阻隔层，一次波长微结构，以及复数个量子棒；其中，次波长微结构具有成平行方向排列之一光栅，平行光栅间之凹槽具有与光栅排列方向垂直之一配向微结构，以及光栅顶部具有一反射面；这些量子棒堆栈于次波长微结构中之配向微结构中，且这些量子棒之长轴排列方向垂直于光栅之排列方向。

5. 实用新型

TWM503569U 積層膜片檢測系統有权
简体标题：积层膜片检测系统
公开(公告)号：TWM503569U
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW104205291
申请日：2015-04-09
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORPORATION
发明人：吳建宏 , WU, JIANHUNG
IPC分类号： G01N21/88

6. 发明专利

TW201537240A 偏光板裁切磨邊裝置及提高偏光板吸收軸精度的製造方法审中-公开
简体标题：偏光板裁切磨边设备及提高偏光板吸收轴精度的制造方法
公开(公告)号：TW201537240A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW103110152
申请日：2014-03-18
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORPORATION
发明人：陳銘訓 , CHEN, MINGHSUN , 郭真寬 , KUO, CHENKUAN , 吳建宏 , WU, JIANHUNG
IPC分类号： G02B5/30
摘要：本發明係提供一種偏光板裁切磨邊裝置及及提高偏光板吸收軸經度的製造方法。此裝置包含一平台，其具有一旋轉控制元件，用以旋轉該平台；一光學檢測模組，用以量測偏光板的原始吸收軸角度；一裁切磨邊模組，可同時進行偏光板的裁切與磨邊；以及一資訊處理元件，用以接收量測之該原始吸收軸角度與設定裁切吸收軸角度，並轉換成一角度旋轉資訊傳送至平台的旋轉控制元件，以使平台和裁切磨邊模組產生相對移動，接著再將一裁切磨邊指令傳送至裁切磨邊模組，以進行偏光板的裁切與磨邊，提高偏光板的吸收軸精度。
简体摘要：本发明系提供一种偏光板裁切磨边设备及及提高偏光板吸收轴经度的制造方法。此设备包含一平台，其具有一旋转控件，用以旋转该平台；一光学检测模块，用以量测偏光板的原始吸收轴角度；一裁切磨边模块，可同时进行偏光板的裁切与磨边；以及一信息处理组件，用以接收量测之该原始吸收轴角度与设置裁切吸收轴角度，并转换成一角度旋转信息发送至平台的旋转控件，以使平台和裁切磨边模块产生相对移动，接着再将一裁切磨边指令发送至裁切磨边模块，以进行偏光板的裁切与磨边，提高偏光板的吸收轴精度。

7. 发明专利

TW201423169A 偏光膜的裁切方法及其裁切系統审中-公开
简体标题：偏光膜的裁切方法及其裁切系统
公开(公告)号：TW201423169A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW101147210
申请日：2012-12-13
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORPORATION
发明人：吳建宏 , WU, JIANHUNG
IPC分类号： G02B5/30
摘要：一種偏光膜的裁切方法，其包含以下步驟：(1)提供一具有保護膜的偏光膜捲料；(2)定位偏光膜捲料上裁切區及所對應的檢測區；(3)移除檢測區的保護膜；(4)量測檢測區的吸收軸角度，取得複數個吸收軸角度資訊；(5)傳送吸收軸角度資訊至資訊處理裝置；(6)以資訊處理裝置分析吸收軸角度資訊，轉換成裁切資訊，將裁切資訊傳送至裁切控制裝置；(7)根據裁切資訊調整裁切裝置中每一刀模之角度；以及(8)沿裁切區裁切偏光膜捲料，形成複數偏光板。
简体摘要：一种偏光膜的裁切方法，其包含以下步骤：(1)提供一具有保护膜的偏光膜卷料；(2)定位偏光膜卷料上裁切区及所对应的检测区；(3)移除检测区的保护膜；(4)量测检测区的吸收轴角度，取得复数个吸收轴角度信息；(5)发送吸收轴角度信息至信息处理设备；(6)以信息处理设备分析吸收轴角度信息，转换成裁切信息，将裁切信息发送至裁切控制设备；(7)根据裁切信息调整裁切设备中每一刀模之角度；以及(8)沿裁切区裁切偏光膜卷料，形成复数偏光板。

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