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1. 实用新型

TWM474256U 複合掩膜版組件失效
简体标题：复合掩膜版组件
公开(公告)号：TWM474256U
公开(公告)日：2014-03-11
申请号：TW102216757
申请日：2013-09-06
申请人：昆山允升吉光電科技有限公司 , KUN SHAN POWER STENCIL CO., LTD.
发明人：魏志凌 , WEI, CHIH-LING , 高小平 , KAO, HSIAO-PING , 潘世珎 , PAN, SHIH-CHEN
IPC分类号： H01L27/32
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24

2. 发明专利

TW201410892A 複合掩膜版組件审中-公开
简体标题：复合掩膜版组件
公开(公告)号：TW201410892A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102132119
申请日：2013-09-06
申请人：昆山允升吉光電科技有限公司 , KUN SHAN POWER STENCIL CO., LTD.
发明人：魏志凌 , WEI, CHIH-LING , 高小平 , KAO, HSIAO-PING , 潘世珎 , PAN, SHIH-CHEN
IPC分类号： C23C14/04
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24
摘要：一種複合掩膜版組件，包括掩膜主體和掩膜框，該掩膜主體包括掩膜層和支撐層，該掩膜層具有開口，以構成掩膜版圖案區。該支撐層具有與該掩膜層之開口相對應之支撐條，該支撐層與該掩膜層緊密結合，起到對該掩膜層的支撐作用，且該支撐層不會對該開口形成遮擋。本發明係以金屬合金材料作為支撐層，與習知掩膜版相比，內部金屬材料大量減少，使得複合掩膜版的總體質量減少。在將複合掩膜版固定在外框上時，其內部下垂量將會減少，以降低或彌補掩膜主體板面產生下垂的情況，以提高產品的良品率。
简体摘要：一种复合掩膜版组件，包括掩膜主体和掩膜框，该掩膜主体包括掩膜层和支撑层，该掩膜层具有开口，以构成掩膜版图案区。该支撑层具有与该掩膜层之开口相对应之支撑条，该支撑层与该掩膜层紧密结合，起到对该掩膜层的支撑作用，且该支撑层不会对该开口形成遮挡。本发明系以金属合金材料作为支撑层，与习知掩膜版相比，内部金属材料大量减少，使得复合掩膜版的总体质量减少。在将复合掩膜版固定在外框上时，其内部下垂量将会减少，以降低或弥补掩膜主体板面产生下垂的情况，以提高产品的良品率。

3. 实用新型

TWM474258U 掩膜框架及其對應的蒸鍍用掩膜組件有权
简体标题：掩膜框架及其对应的蒸镀用掩膜组件
公开(公告)号：TWM474258U
公开(公告)日：2014-03-11
申请号：TW102216761
申请日：2013-09-06
申请人：昆山允升吉光電科技有限公司 , KUN SHAN POWER STENCIL CO., LTD.
发明人：魏志凌 , WEI, CHIH-LING , 高小平 , KAO, HSIAO-PING , 潘世珎 , PAN, SHIH-CHEN
IPC分类号： H01L27/32
CPC分类号： C23C14/042

4. 发明专利

TWI503427B 掩膜框架及其對應的蒸鍍用掩膜組件有权
简体标题：掩膜框架及其对应的蒸镀用掩膜组件
公开(公告)号：TWI503427B
公开(公告)日：2015-10-11
申请号：TW102132121
申请日：2013-09-06
申请人：昆山允升吉光電科技有限公司 , KUN SHAN POWER STENCIL CO., LTD.
发明人：魏志凌 , WEI, CHIH-LING , 高小平 , KAO, HSIAO-PING , 潘世珎 , PAN, SHIH-CHEN
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/042

5. 发明专利

TWI500784B 複合掩膜版組件有权
简体标题：复合掩膜版组件
公开(公告)号：TWI500784B
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW102132119
申请日：2013-09-06
申请人：昆山允升吉光電科技有限公司 , KUN SHAN POWER STENCIL CO., LTD.
发明人：魏志凌 , WEI, CHIH-LING , 高小平 , KAO, HSIAO-PING , 潘世珎 , PAN, SHIH-CHEN
IPC分类号： C23C14/04
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24

6. 发明专利

TW201410894A 掩膜框架及其對應的蒸鍍用掩膜組件审中-公开
简体标题：掩膜框架及其对应的蒸镀用掩膜组件
公开(公告)号：TW201410894A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102132121
申请日：2013-09-06
申请人：昆山允升吉光電科技有限公司 , KUN SHAN POWER STENCIL CO., LTD.
发明人：魏志凌 , WEI, CHIH-LING , 高小平 , KAO, HSIAO-PING , 潘世珎 , PAN, SHIH-CHEN
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/042
摘要：一種掩膜框架及其對應的蒸鍍用掩膜組件，所述掩膜框架包括：外框，包括兩組對邊，所述兩組對邊構成一個中空封閉矩形框架；固定杆，置於外框內側且與掩膜版一組對邊連接；及固定機構，連接外框和置於外框內側的固定杆以支撐固定杆，將向內收縮的固定杆向外進行拉伸，以減少或彌補當固定杆將掩膜版繃緊時產生的固定杆邊框向內收縮量的作用。本發明提供的掩膜框架及其對應的蒸鍍用掩膜組件，可以進一步降低掩膜版的下垂現象，提升產品品質、精度以及良品率，同時也可以製備尺寸更大的面板。
简体摘要：一种掩膜框架及其对应的蒸镀用掩膜组件，所述掩膜框架包括：外框，包括两组对边，所述两组对边构成一个中空封闭矩形框架；固定杆，置于外框内侧且与掩膜版一组对边连接；及固定机构，连接外框和置于外框内侧的固定杆以支撑固定杆，将向内收缩的固定杆向外进行拉伸，以减少或弥补当固定杆将掩膜版绷紧时产生的固定杆边框向内收缩量的作用。本发明提供的掩膜框架及其对应的蒸镀用掩膜组件，可以进一步降低掩膜版的下垂现象，提升产品品质、精度以及良品率，同时也可以制备尺寸更大的皮肤。

7. 发明专利

TWI615280B 金屬網布及採用該金屬網布製得的掩膜版有权
简体标题：金属网布及采用该金属网布制得的掩膜版
公开(公告)号：TWI615280B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW102112579
申请日：2013-04-09
申请人：昆山允升吉光電科技有限公司
发明人：魏志凌 , WEI, CHIH-LING , 高小平 , KAO, HSIAO-PING , 潘世珎 , PAN, SHIH- CHEN
IPC分类号： B41F15/36 , B41N1/24
CPC分类号： B41F15/36

8. 发明专利

TW201341203A 金屬網布及採用該金屬網布製得的掩膜版审中-公开
简体标题：金属网布及采用该金属网布制得的掩膜版
公开(公告)号：TW201341203A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW102112579
申请日：2013-04-09
申请人：昆山允升吉光電科技有限公司
发明人：魏志凌 , WEI, CHIH-LING , 高小平 , KAO, HSIAO-PING , 潘世珎 , PAN, SHIH- CHEN
IPC分类号： B41F15/36 , B41N1/24
CPC分类号： B41F15/36
摘要：一種金屬網布及採用該金屬網布製得的掩膜版，可用於精密印刷的工業生產中，所述金屬網布設置有網格區，所述網格區是由兩組相互垂直的絲網線組構成，所述金屬網布的網格區中間區域設置有圖案區域，所述圖案係由金屬網布沿橫向或/及縱向絲網線的構成；所述金屬網布目數為100～600目，線徑尺寸係為10～100um，厚度係為10～45um，可有效解決了習知精密印刷技術中由於所用絲網具有編織型節點，導致成型掩膜版印刷不均勻的問題。
简体摘要：一种金属网布及采用该金属网布制得的掩膜版，可用于精密印刷的工业生产中，所述金属网布设置有网格区，所述网格区是由两组相互垂直的丝网线组构成，所述金属网布的网格区中间区域设置有图案区域，所述图案系由金属网布沿横向或/及纵向丝网线的构成；所述金属网布目数为100～600目，线径尺寸系为10～100um，厚度系为10～45um，可有效解决了习知精密印刷技术中由于所用丝网具有编织型节点，导致成型掩膜版印刷不均匀的问题。

9. 实用新型

TWM462880U 金屬網布及採用該金屬網布製得的掩膜版有权
简体标题：金属网布及采用该金属网布制得的掩膜版
公开(公告)号：TWM462880U
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW102206426
申请日：2013-04-09
申请人：昆山允升吉光電科技有限公司
发明人：魏志凌 , WEI, CHIH-LING , 高小平 , KAO, HSIAO-PING , 潘世珎 , PAN, SHIH- CHEN
IPC分类号： G03F7/12
CPC分类号： B41F15/36

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