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    • 3. 发明专利
    • 無鹼玻璃基板及其製造方法以及液晶顯示面板
    • 无碱玻璃基板及其制造方法以及液晶显示皮肤
    • TWI367868B
    • 2012-07-11
    • TW096125714
    • 2007-07-13
    • 旭硝子股份有限公司
    • 前原輝敬西澤學加瀨準一郎松本修治
    • C03CC03BG02F
    • C03C3/091G02F2001/133302G02F2202/09
    • 本發明提供一種楊氏模數高,線膨脹係數低,變形點高,密度高,黏度低,以浮法形成不使透明消失,耐酸性優異之無鹼玻璃基板。
      本發明之無鹼玻璃基板係以下述氧化物為基準且以莫耳%表示,實質上不含鹼成分及BaO,各成分之含有率為SiO2:57.0~65.0%,Al2O3:10.0~12.0%,B2O3:6.0~9.0%,MgO:5.0~10.0%,CaO:5.0~10.0%,SrO:2.5~5.5%,且MgO+CaO+SrO:16.0~19.0%,MgO/(MgO+CaO+SrO)≧0.40,B2O3/(SiO2+Al2O3+B2O3)≦0.12,楊氏模數≧75GPa,50~350℃之線膨脹係數:30×10-7~40×10-7/℃,變形點≧640℃,滿足黏度η為logη=2之溫度T2≦1620℃,滿足黏度η為logη=4之溫度T4≦1245℃,透明消失溫度≦T4,在90℃,0.1N之鹽酸中浸漬20小時後之單位面積之質量減少量為0.6mg/cm2以下。
    • 本发明提供一种杨氏模数高,线膨胀系数低,变形点高,密度高,黏度低,以浮法形成不使透明消失,耐酸性优异之无碱玻璃基板。 本发明之无碱玻璃基板系以下述氧化物为基准且以莫耳%表示,实质上不含碱成分及BaO,各成分之含有率为SiO2:57.0~65.0%,Al2O3:10.0~12.0%,B2O3:6.0~9.0%,MgO:5.0~10.0%,CaO:5.0~10.0%,SrO:2.5~5.5%,且MgO+CaO+SrO:16.0~19.0%,MgO/(MgO+CaO+SrO)≧0.40,B2O3/(SiO2+Al2O3+B2O3)≦0.12,杨氏模数≧75GPa,50~350℃之线膨胀系数:30×10-7~40×10-7/℃,变形点≧640℃,满足黏度η为logη=2之温度T2≦1620℃,满足黏度η为logη=4之温度T4≦1245℃,透明消失温度≦T4,在90℃,0.1N之盐酸中浸渍20小时后之单位面积之质量减少量为0.6mg/cm2以下。
    • 4. 发明专利
    • 無鹼玻璃之製造方法
    • 无碱玻璃之制造方法
    • TWI377181B
    • 2012-11-21
    • TW097139757
    • 2008-10-16
    • 旭硝子股份有限公司
    • 黑木有一山本峰子林泰夫櫛谷英樹松本修治前原輝敬加瀨準一郎
    • C03BC03C
    • C03B5/225C03C1/00C03C3/091Y02P40/57
    • 本發明係提供一種可得到玻璃中之泡為少,均質性、平坦度為高之無鹼玻璃之製造方法。
      對含有矽砂及硼源之玻璃母材組成原料中添加了澄清劑之玻璃原料進行熔融而成形之無鹼玻璃之製造方法中,作為矽砂其D50為15~60μm,粒徑100μm以上之粒子的比例為2.5體積%以下者,作為硼源使用硼源100質量%之中含有10~100質量%硼酸酐者,做為澄清劑使用SnO2,玻璃原料之熔融則以步驟(a)、(b)進行。將(a)玻璃原料在熔融玻璃之黏度成為超過1024dPa.s之溫度下加熱,使成為熔融玻璃之步驟。將(b)熔融玻璃在黏度成為1024dPa.s以下之溫度下,比步驟(a)之溫度高30℃以上之溫度下加熱,將熔融玻璃中之泡進行脫泡之步驟。
    • 本发明系提供一种可得到玻璃中之泡为少,均质性、平坦度为高之无碱玻璃之制造方法。 对含有硅砂及硼源之玻璃母材组成原料中添加了澄清剂之玻璃原料进行熔融而成形之无碱玻璃之制造方法中,作为硅砂其D50为15~60μm,粒径100μm以上之粒子的比例为2.5体积%以下者,作为硼源使用硼源100质量%之中含有10~100质量%硼酸酐者,做为澄清剂使用SnO2,玻璃原料之熔融则以步骤(a)、(b)进行。将(a)玻璃原料在熔融玻璃之黏度成为超过1024dPa.s之温度下加热,使成为熔融玻璃之步骤。将(b)熔融玻璃在黏度成为1024dPa.s以下之温度下,比步骤(a)之温度高30℃以上之温度下加热,将熔融玻璃中之泡进行脱泡之步骤。