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2. 发明专利

TWI364627B 感光性樹脂組合物及使用其之撓性印刷電路板有权
简体标题：感光性树脂组合物及使用其之挠性印刷电路板
公开(公告)号：TWI364627B
公开(公告)日：2012-05-21
申请号：TW096143153
申请日：2007-11-14
申请人：旭化成電子材料股份有限公司 , PI技術研究所股份有限公司
发明人：清水建樹 , 長澤俊明 , 高橋秀明 , 文茂索 , 五島敏之
IPC分类号： G03F , H05K
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/027 , H05K3/287
摘要：本發明之樹脂組合物係一種感光性樹脂組合物，該感光性樹脂組合物之特徵在於：含有(A)成分、(B)成分以及(C)成分，且上述(A)成分為鹼溶性樹脂，上述(B)成分為選自由具有式(1)所示之結構之化合物、具有異三聚氰酸環之化合物、以及上述(A)成分以外之含有一個或兩個醯亞胺基的醯亞胺化合物所組成之群的至少一種化合物，上述(C)成分為醌二疊氮化合物。
P＝X 式(1)
(式中，P表示磷原子，其共價鍵數為5；X表示氮原子或氧原子，X為氮原子時，其共價鍵數為3，為氧原子時，其共價鍵數為2；磷原子與氮原子或氧原子以雙鍵鍵結)。
简体摘要：本发明之树脂组合物系一种感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物之特征在于：含有(A)成分、(B)成分以及(C)成分，且上述(A)成分为碱溶性树脂，上述(B)成分为选自由具有式(1)所示之结构之化合物、具有异三聚氰酸环之化合物、以及上述(A)成分以外之含有一个或两个酰亚胺基的酰亚胺化合物所组成之群的至少一种化合物，上述(C)成分为醌二叠氮化合物。 P＝X 式(1) (式中，P表示磷原子，其共价键数为5；X表示氮原子或氧原子，X为氮原子时，其共价键数为3，为氧原子时，其共价键数为2；磷原子与氮原子或氧原子以双键键结)。

3. 发明专利

TWI500700B 半導體裝置用聚醯亞胺樹脂組成物，使用該組成物在半導體裝置中形成膜之方法及半導體裝置有权
简体标题：半导体设备用聚酰亚胺树脂组成物，使用该组成物在半导体设备中形成膜之方法及半导体设备
公开(公告)号：TWI500700B
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW100106377
申请日：2011-02-25
申请人： PI技術研究所股份有限公司 , PI R&D CO., LTD. , 三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：五島敏之 , GOSHIMA, TOSHIYUKI , 瀨川繁昌 , SEGAWA, SIGEMASA , 文茂索 , WIN, MAW SOE , 山下潤一 , YAMASHITA, JUNICHI , 高梨健 , TAKANASHI, KEN
IPC分类号： C08L79/08 , C08J5/18 , H01L21/312
CPC分类号： C08G73/1042 , C08G73/106 , C08L79/08 , C09D179/08 , H01L23/3157 , H01L2924/0002 , H01L2924/09701 , H01L2924/19041 , H01L2924/00

4. 发明专利

TWI560239B 太陽電池之背面反射層形成用聚醯亞胺樹脂組成物及使用該組成物之太陽電池之背面反射層形成方法有权
简体标题：太阳电池之背面反射层形成用聚酰亚胺树脂组成物及使用该组成物之太阳电池之背面反射层形成方法
公开(公告)号：TWI560239B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW100133903
申请日：2011-09-21
申请人： PI技術研究所股份有限公司 , PI R&D CO., LTD.
发明人：文茂索 , WIN, MAW SOE , 五島敏之 , GOSHIMA, TOSHIYUKI , 佐藤貴裕 , SATO, TAKAHIRO , 高遠秀尚 , TAKATO, HIDENAO , 坂田功 , SAKATA, ISAO
IPC分类号： C08L79/08 , C08K3/22 , B32B27/34 , H01L31/0216
CPC分类号： H01L31/02327 , C08G73/1039 , C08G73/1042 , C08G73/1046 , C08G73/106 , C08G73/1064 , C08G73/1067 , C08G73/1071 , C08L2203/204 , C09D179/08 , H01L31/056 , Y02E10/52 , Y02E10/547 , C08K3/22

5. 发明专利

TWI441878B 電沉積塗料組成物及電沉積方法有权
简体标题：电沉积涂料组成物及电沉积方法
公开(公告)号：TWI441878B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW097116432
申请日：2008-05-05
申请人：三菱電線工業股份有限公司 , MITSUBISHI CABLE INDUSTRIES, LTD. , PI技術研究所股份有限公司 , PI R&D CO., LTD.
发明人：藤井政德 , FUJII, MASANORI , 厨子敏博 , ZUSHI, TOSHIHIRO , 本城宏昌 , HONJO, HIROMASA , 長門豊和 , NAGATO, TOYOKAZU , 威莫索 , WIN, MAW SOE , 中島慎太郎 , NAKAJIMA, SHINTARO , 五島敏之 , GOSHIMA, TOSHIYUKI , 石井陽 , ISHII, KIYOSHI
IPC分类号： C09D179/08 , C09D183/10 , C09D5/44
CPC分类号： C09D5/4484 , C09D179/08 , C09D183/10 , C25D13/06

6. 发明专利

TW201219495A 太陽電池之背面反射層形成用聚醯亞胺樹脂組成物及使用該組成物之太陽電池之背面反射層形成方法 POLYIMIDE RESIN COMPOSITION FOR FORMATION OF SOLAR CELL BACK REFLECTIVE LAYER AND METHOD OF FORMING SOLAR CELL BACK REFLECTIVE LAYER USING THE SAME 审中-公开
简体标题：太阳电池之背面反射层形成用聚酰亚胺树脂组成物及使用该组成物之太阳电池之背面反射层形成方法 POLYIMIDE RESIN COMPOSITION FOR FORMATION OF SOLAR CELL BACK REFLECTIVE LAYER AND METHOD OF FORMING SOLAR CELL BACK REFLECTIVE LAYER USING THE SAME
公开(公告)号：TW201219495A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：TW100133903
申请日：2011-09-21
申请人： PI技術研究所股份有限公司
发明人：文茂索 , 五島敏之 , 佐藤貴裕 , 高遠秀尚 , 坂田功
IPC分类号： C08L , C08K , B32B , H01L
CPC分类号： H01L31/02327 , C08G73/1039 , C08G73/1042 , C08G73/1046 , C08G73/106 , C08G73/1064 , C08G73/1067 , C08G73/1071 , C08L2203/204 , C09D179/08 , H01L31/056 , Y02E10/52 , Y02E10/547 , C08K3/22
摘要：本發明提供一種可簡便且低成本地形成耐熱性或各種耐久性優異、可有助於提高太陽電池之轉換率及長期使用時之可靠性之太陽電池之背面反射層的太陽電池之背面反射層之形成方法，及其所使用之組成物，以及具有由該方法所形成之背面反射層之太陽電池。本發明之太陽電池之背面反射層形成用聚醯亞胺樹脂組成物包含有機溶劑、溶解於該有機溶劑中之聚醯亞胺樹脂、及分散於該有機溶劑中之光反射性粒子。
简体摘要：本发明提供一种可简便且低成本地形成耐热性或各种耐久性优异、可有助于提高太阳电池之转换率及长期使用时之可靠性之太阳电池之背面反射层的太阳电池之背面反射层之形成方法，及其所使用之组成物，以及具有由该方法所形成之背面反射层之太阳电池。本发明之太阳电池之背面反射层形成用聚酰亚胺树脂组成物包含有机溶剂、溶解于该有机溶剂中之聚酰亚胺树脂、及分散于该有机溶剂中之光反射性粒子。

7. 发明专利

TW201024376A 組合物、包含組合物之塗膜、包含塗膜之積層體及配置有積層體之電子機器审中-公开
简体标题：组合物、包含组合物之涂膜、包含涂膜之积层体及配置有积层体之电子机器
公开(公告)号：TW201024376A
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：TW098107197
申请日：2009-03-05
申请人：旭化成股份有限公司 , PI技術研究所股份有限公司
发明人：足立弘明 , 孫恩海 , 本多英司 , 佐佐木洋朗 , 脇周三 , 五島敏之 , 西川義一
IPC分类号： C08L , C08K , C09D , B32B
CPC分类号： C08L79/08 , C08G73/1032 , C08G73/106 , C08G77/455 , C08K3/22 , C08K5/57 , H05K1/0346 , H05K3/285 , H05K3/4673 , H05K2201/0154 , H05K2203/0759 , H05K2203/0783 , Y10T428/24802
摘要：本發明提供一種組合物，其於加工時具有良好之黏度穩定性、流動性，於加工後具有良好之形狀保持性，於乾燥時在不使導體層發生劣化之溫度區域具有良好之乾燥性，於乾燥後可獲得與金屬/聚醯亞胺之接著強度、阻燃性、耐熱性、彎曲性、機械物性、耐化學品性優異之塗膜。本發明之組合物之特徵在於：包含(A)聚醯亞胺、(B)2種以上之混合溶劑，且上述2種以上之混合溶劑的相溶參數為9~14。
简体摘要：本发明提供一种组合物，其于加工时具有良好之黏度稳定性、流动性，于加工后具有良好之形状保持性，于干燥时在不使导体层发生劣化之温度区域具有良好之干燥性，于干燥后可获得与金属/聚酰亚胺之接着强度、阻燃性、耐热性、弯曲性、机械物性、耐化学品性优异之涂膜。本发明之组合物之特征在于：包含(A)聚酰亚胺、(B)2种以上之混合溶剂，且上述2种以上之混合溶剂的相溶参数为9~14。

8. 发明专利

TW201224004A 太陽電池內之絕緣膜形成用聚醯亞胺樹脂組成物及使用該組成物之太陽電池內之絕緣膜形成方法 POLYIMIDE RESIN COMPOSITION FOR FORMATION OF INSULATING FILM OF SOLAR CELL AND METHOD OF FORMING INSULATING FILM OF SOLAR CELL USING THE SAME 审中-公开
简体标题：太阳电池内之绝缘膜形成用聚酰亚胺树脂组成物及使用该组成物之太阳电池内之绝缘膜形成方法 POLYIMIDE RESIN COMPOSITION FOR FORMATION OF INSULATING FILM OF SOLAR CELL AND METHOD OF FORMING INSULATING FILM OF SOLAR CELL USING THE SAME
公开(公告)号：TW201224004A
公开(公告)日：2012-06-16
申请号：TW100133905
申请日：2011-09-21
申请人： PI技術研究所股份有限公司
发明人：文茂索 , 五島敏之 , 佐藤貴裕
IPC分类号： C08G , H01B , H01L , H01M
CPC分类号： H01L31/02167 , C08G73/1039 , C08G73/1042 , C08G73/1046 , C08G73/105 , C08G73/106 , C08G73/1064 , C09D179/08 , H01L31/022441 , H01L31/0682 , Y02E10/547
摘要：本發明提供一種具有最適於網版印刷等之流變特性，使與各塗佈基板之濕潤性提高，可進行500次以上之連續印刷，且可於印刷、塗佈後或乾燥、硬化時不產生氣泡、收縮或針孔而被覆特定部分的太陽電池之絕緣層形成用聚醯亞胺樹脂組成物；及使用該組成物之太陽電池內之絕緣層形成方法；以及具有由該方法所形成之絕緣層之太陽電池。本發明之太陽電池內之絕緣膜形成用聚醯亞胺樹脂組成物於第一有機溶劑(A)與第二有機溶劑(B)之混合溶劑中包含下述聚醯亞胺樹脂，其為可溶於上述混合溶劑之耐熱性聚醯亞胺樹脂，且於聚醯亞胺之重複單位中含有烷基及/或全氟烷基並具有觸變性。
简体摘要：本发明提供一种具有最适于网版印刷等之流变特性，使与各涂布基板之湿润性提高，可进行500次以上之连续印刷，且可于印刷、涂布后或干燥、硬化时不产生气泡、收缩或针孔而被覆特定部分的太阳电池之绝缘层形成用聚酰亚胺树脂组成物；及使用该组成物之太阳电池内之绝缘层形成方法；以及具有由该方法所形成之绝缘层之太阳电池。本发明之太阳电池内之绝缘膜形成用聚酰亚胺树脂组成物于第一有机溶剂(A)与第二有机溶剂(B)之混合溶剂中包含下述聚酰亚胺树脂，其为可溶于上述混合溶剂之耐热性聚酰亚胺树脂，且于聚酰亚胺之重复单位中含有烷基及/或全氟烷基并具有触变性。

9. 发明专利

TW201137039A 半導體裝置用聚醯亞胺樹脂組成物，使用該組成物在半導體裝置中形成膜之方法及半導體裝置 POLYIMIDE RESIN COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR DEVICES, METHOD OF FORMING FILM IN SEMICONDUCTOR DEVICES USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICES 审中-公开
简体标题：半导体设备用聚酰亚胺树脂组成物，使用该组成物在半导体设备中形成膜之方法及半导体设备 POLYIMIDE RESIN COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR DEVICES, METHOD OF FORMING FILM IN SEMICONDUCTOR DEVICES USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICES
公开(公告)号：TW201137039A
公开(公告)日：2011-11-01
申请号：TW100106377
申请日：2011-02-25
申请人： PI技術研究所股份有限公司 , 三菱電機股份有限公司
发明人：五島敏之 , 瀨川繁昌 , 文茂索 , 山下潤一 , 高梨健
IPC分类号： C08L , C08J , H01L
CPC分类号： C08G73/1042 , C08G73/106 , C08L79/08 , C09D179/08 , H01L23/3157 , H01L2924/0002 , H01L2924/09701 , H01L2924/19041 , H01L2924/00
摘要：本發明揭示一種用於半導體裝置之聚醯亞胺組成物，其具有適用於網印及分配塗布之流變特性，其具有與各種塗布基質之改良潤濕性質，藉此可達成500次或更多次的連續印刷，藉此於印刷及乾燥後或於乾燥或固化期間不會產生氣泡、塌凹(cissing)及針孔，且其可塗布期望區域。亦揭示一種於半導體中形成膜之方法，及具有藉由此方法形成之膜作為絕緣膜、保護膜或其類似物之半導體。該用於半導體裝置之組成物包含第一有機溶劑(A)及第二有機溶劑(B)之混合溶劑；及於重複單元中具有選自由烷基及全氟烷基組成之群之至少一基團且具有觸變性質的聚醯亞胺樹脂，該聚醯亞胺樹脂係溶解於該混合溶劑中。
简体摘要：本发明揭示一种用于半导体设备之聚酰亚胺组成物，其具有适用于网印及分配涂布之流变特性，其具有与各种涂布基质之改良润湿性质，借此可达成500次或更多次的连续印刷，借此于印刷及干燥后或于干燥或固化期间不会产生气泡、塌凹(cissing)及针孔，且其可涂布期望区域。亦揭示一种于半导体中形成膜之方法，及具有借由此方法形成之膜作为绝缘膜、保护膜或其类似物之半导体。该用于半导体设备之组成物包含第一有机溶剂(A)及第二有机溶剂(B)之混合溶剂；及于重复单元中具有选自由烷基及全氟烷基组成之群之至少一基团且具有触变性质的聚酰亚胺树脂，该聚酰亚胺树脂系溶解于该混合溶剂中。

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