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1. 发明专利

TW201734443A 複合帶電粒子束裝置审中-公开
简体标题：复合带电粒子束设备
公开(公告)号：TW201734443A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106100732
申请日：2017-01-10
申请人：日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：大西毅 , OONISHI, TSUYOSHI , 荷田昌克 , HASUDA, MASAKATSU
IPC分类号： G01N23/225
CPC分类号： H01J37/09 , H01J37/023 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/30 , H01J37/3005 , H01J37/3056 , H01J37/31 , H01J2237/022 , H01J2237/2809 , H01J2237/2813 , H01J2237/31745
摘要：本發明關於複合帶電粒子束裝置。提供一種在同時具備聚焦離子束鏡筒和電子束鏡筒的複合帶電粒子束裝置中，防止電子束鏡筒的污損並且能夠高精度地照射電子束的複合帶電粒子束裝置。具備：樣品台，載置樣品；聚焦離子束鏡筒，向前述樣品照射聚焦離子束；電子束鏡筒，向前述樣品照射電子束；樣品室，收容前述樣品台、前述聚焦離子束鏡筒、以及電子束鏡筒；防污板，以能夠在插入到前述電子束鏡筒的出射面和前述樣品台之間的插入位置、以及從前述出射面和前述樣品台之間退出的開放位置之間移位的方式形成；以及操作單元，使前述防污板在前述插入位置和前述開放位置之間移位。
简体摘要：本发明关于复合带电粒子束设备。提供一种在同时具备聚焦离子束镜筒和电子束镜筒的复合带电粒子束设备中，防止电子束镜筒的污损并且能够高精度地照射电子束的复合带电粒子束设备。具备：样品台，载置样品；聚焦离子束镜筒，向前述样品照射聚焦离子束；电子束镜筒，向前述样品照射电子束；样品室，收容前述样品台、前述聚焦离子束镜筒、以及电子束镜筒；防污板，以能够在插入到前述电子束镜筒的出射面和前述样品台之间的插入位置、以及从前述出射面和前述样品台之间退出的开放位置之间移位的方式形成；以及操作单元，使前述防污板在前述插入位置和前述开放位置之间移位。

2. 发明专利

TW201802858A 控制裝置、帶電粒子束裝置、程式及生產加工品的方法审中-公开
简体标题：控制设备、带电粒子束设备、进程及生产加工品的方法
公开(公告)号：TW201802858A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106100729
申请日：2017-01-10
申请人：日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：富松聡 , TOMIMATSU, SATOSHI , 大西毅 , OONISHI, TSUYOSHI , 川田洋揮 , KAWADA, HIROKI , 栄井英雄 , SAKAI, HIDEO
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3026 , H01J37/20 , H01J37/3045 , H01J37/3056 , H01J37/3171 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/31745
摘要：本發明之課題在於可緩和離子束加工於加工面的形成方向上之限制，同時抑制幕效應。本發明之解決手段為一種控制裝置，其係控制帶電粒子束裝置，該帶電粒子束裝置，具備：具有相互非平行之至少2個旋轉軸之加工載台，以及藉由從既定方向照射帶電粒子束以加工該加工載台上的加工對象物之照射部之控制裝置，其係具備角度算出部，該角度算出部，係根據：藉由照射部，使具有不平行於任一旋轉軸之法線之加工面生成於加工對象物之第1加工的方向，與相對於藉由第1加工所生成之加工面，藉由照射部從與第1加工的方向不同之方向進行加工之第2加工的方向，來算出將加工載台的方向從第1加工的方向改變至第2加工的方向之繞著旋轉軸的旋轉角。
简体摘要：本发明之课题在于可缓和离子束加工于加工面的形成方向上之限制，同时抑制幕效应。本发明之解决手段为一种控制设备，其系控制带电粒子束设备，该带电粒子束设备，具备：具有相互非平行之至少2个旋转轴之加工载台，以及借由从既定方向照射带电粒子束以加工该加工载台上的加工对象物之照射部之控制设备，其系具备角度算出部，该角度算出部，系根据：借由照射部，使具有不平行于任一旋转轴之法线之加工面生成于加工对象物之第1加工的方向，与相对于借由第1加工所生成之加工面，借由照射部从与第1加工的方向不同之方向进行加工之第2加工的方向，来算出将加工载台的方向从第1加工的方向改变至第2加工的方向之绕着旋转轴的旋转角。

3. 发明专利

TW201835964A 帶電粒子束裝置以及試樣加工方法审中-公开
简体标题：带电粒子束设备以及试样加工方法
公开(公告)号：TW201835964A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107107249
申请日：2018-03-05
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：酉川翔太 , TORIKAWA, SHOTA , 大西毅 , OONISHI, TSUYOSHI
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/30 , G01N1/28 , G01N23/225 , H01L21/3065
摘要：本發明提供帶電粒子束裝置以及試樣加工方法，其能夠對減小了試樣的厚度的整個微小試樣片均勻地照射帶電粒子束並且能夠明確地掌握加工時的加工終點。該帶電粒子束裝置朝向試樣照射帶電粒子束，製成微小試樣片，其特徵在於，該帶電粒子束裝置具有：帶電粒子束鏡筒，其能夠朝向所述試樣照射帶電粒子束；試樣室，其收納所述帶電粒子束鏡筒；以及試樣片支架，其能夠保持所述試樣，在通過所述帶電粒子束形成減小了所述試樣的一部分區域的厚度的微小試樣片時，與該微小試樣片的減薄部分相鄰的部分形成相對於所述減薄部分傾斜的傾斜部。
简体摘要：本发明提供带电粒子束设备以及试样加工方法，其能够对减小了试样的厚度的整个微小试样片均匀地照射带电粒子束并且能够明确地掌握加工时的加工终点。该带电粒子束设备朝向试样照射带电粒子束，制成微小试样片，其特征在于，该带电粒子束设备具有：带电粒子束镜筒，其能够朝向所述试样照射带电粒子束；试样室，其收纳所述带电粒子束镜筒；以及试样片支架，其能够保持所述试样，在通过所述带电粒子束形成减小了所述试样的一部分区域的厚度的微小试样片时，与该微小试样片的减薄部分相邻的部分形成相对于所述减薄部分倾斜的倾斜部。

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