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1. 发明专利

TW200845111A 使半導體製造裝置動作之訓練系統审中-公开
简体标题：使半导体制造设备动作之训练系统
公开(公告)号：TW200845111A
公开(公告)日：2008-11-16
申请号：TW097123682
申请日：2001-12-31
申请人：日立國際電氣股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.
发明人：中野稔 , 齋藤剛
IPC分类号： H01L , G06F , G09B
CPC分类号： G09B25/02 , G09B5/02
摘要：本發明之課題在於提供一種可有效率的對使用者進行半導體製造裝置之訓練的半導體製造裝置之訓練系統。本發明解決手段為介由線路5連接裝置訓練伺服器1與使用者終端機3,而在裝置訓練伺服器1中,程式記憶機構記憶著執行相關半導體製造裝置模擬的程式;而條件資料接收機構則經由使用者終端機3從使用者處接收,並接收從該使用者終端機3透過線路5所傳送至相關半導體製造裝置模擬的條件資料;程式執行機構則根據所接收到的條件資料,執行程式記憶機構所記憶著的程式;結果資料送信機構則將利用執行程式而進行模擬的結果資料,透過線路5傳送給使用者終端機3。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可有效率的对用户进行半导体制造设备之训练的半导体制造设备之训练系统。本发明解决手段为介由线路5连接设备训练服务器1与用户终端机3,而在设备训练服务器1中,进程记忆机构记忆着运行相关半导体制造设备仿真的进程;而条件数据接收机构则经由用户终端机3从用户处接收,并接收从该用户终端机3透过线路5所发送至相关半导体制造设备仿真的条件数据;进程运行机构则根据所接收到的条件数据,运行进程记忆机构所记忆着的进程;结果数据送信机构则将利用运行进程而进行仿真的结果数据,透过线路5发送给用户终端机3。

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