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1. 发明专利

TWI327160B 電激發光材料之精製方法、電激發光材料及電激發光元件 METHOD FOR REFINING ELECTROLUMINESCENCE MATERIAL, ELECTROLUMINESCENCE MATERIAL AND ELECTROLUMINESCENCE DEVICE 有权
简体标题：电激发光材料之精制方法、电激发光材料及电激发光组件 METHOD FOR REFINING ELECTROLUMINESCENCE MATERIAL, ELECTROLUMINESCENCE MATERIAL AND ELECTROLUMINESCENCE DEVICE
公开(公告)号：TWI327160B
公开(公告)日：2010-07-11
申请号：TW093116081
申请日：2004-06-04
申请人：日立化成工業股份有限公司 , 麥克斯汀有限公司
发明人：津田義博 , 森下芳伊 , 野村理行 , 田井誠司 , 星陽介 , 舟生重昭 , 摩塔美帝法夏J , 王里昇
IPC分类号： C09K
CPC分类号： C08G61/124 , C09K11/06 , C09K2211/1007 , C09K2211/1011 , C09K2211/1014 , C09K2211/1029 , C09K2211/1416 , C09K2211/1425 , C09K2211/1433 , C09K2211/1475 , C09K2211/1483 , Y10S428/917
摘要：本發明之目的是提供可以有效的去除鈀之精製法以及使用該法之電激發光材料和電激發光元件。本發明是有關於一種電激發光材料之精製方法，藉由對含有作為雜質之鈀的電激發光材料以含有磷之材料進行處理，以將鈀去除。
简体摘要：本发明之目的是提供可以有效的去除钯之精制法以及使用该法之电激发光材料和电激发光组件。本发明是有关于一种电激发光材料之精制方法，借由对含有作为杂质之钯的电激发光材料以含有磷之材料进行处理，以将钯去除。

2. 发明专利

TW484033B 電漿顯示器用背面板之製造方法失效
简体标题：等离子显示器用背皮肤之制造方法
公开(公告)号：TW484033B
公开(公告)日：2002-04-21
申请号：TW088101906
申请日：1999-02-08
申请人：日立化成工業股份有限公司
发明人：佐藤和也 , 野尻剛 , 島村真理子 , 村松有紀子 , 田井誠司 , 田仲裕之 , 堀部芳幸
IPC分类号： G03F
摘要：一種電漿顯示器用背面板之製造法，其特徵在於採用具有複數的凸部之基體，於基片上形成已對應於此基體的形狀之間隔壁材料及含有螢光體之樹脂組成物而成的圖形，其次予以熱培而成。
简体摘要：一种等离子显示器用背皮肤之制造法，其特征在于采用具有复数的凸部之基体，于基片上形成已对应于此基体的形状之间隔壁材料及含有萤光体之树脂组成物而成的图形，其次予以热培而成。

3. 发明专利

TW200300512A 擴散反射板,用於該擴散反射板的製造之轉移原模、轉移基膜、轉移膜,及擴散反射板之製造方法失效
简体标题：扩散反射板,用于该扩散反射板的制造之转移原模、转移基膜、转移膜,及扩散反射板之制造方法
公开(公告)号：TW200300512A
公开(公告)日：2003-06-01
申请号：TW091133228
申请日：2002-11-13
申请人：日立化成工業股份有限公司
发明人：鶴岡恭生 YASUO TSURUOKA , 木澤桂子 KEIKO KIZAWA , 崎俊勝 TOSHIKATSU SHIMAZAKE , 伴野秀邦 HIDEKUNI BANNO , 岩室光則 MITSUNORI IWAMURO , 田井誠司 , 津田義博 YOSHIHIRO TSUDA , 吉田健
IPC分类号： G02F
摘要：本發明係有關一種擴散反射板，該可將光擴散反射之擴散反射板，為在相對於擴散反射板基材表面由垂直面(a)與斜面(b)構成之鋸齒狀橫切面上，該垂直面(a)與傾斜面(b)連續重複形成鋸齒狀，傾斜面(b)相對於基材表面之傾斜角為2至30度，垂直面(a)相對於基材表面之傾斜角為75至105度，與該鋸齒狀橫切面呈垂直之傾斜面(b)之橫切面形成有振幅之波形而具有連續之凹凸面者。
简体摘要：本发明系有关一种扩散反射板，该可将光扩散反射之扩散反射板，为在相对于扩散反射板基材表面由垂直面(a)与斜面(b)构成之锯齿状横切面上，该垂直面(a)与倾斜面(b)连续重复形成锯齿状，倾斜面(b)相对于基材表面之倾斜角为2至30度，垂直面(a)相对于基材表面之倾斜角为75至105度，与该锯齿状横切面呈垂直之倾斜面(b)之横切面形成有振幅之波形而具有连续之凹凸面者。

4. 发明专利

TW538090B 形成阻障圍壁用之樹脂組成物,形成阻障圍壁用之樹脂組成物元件,使用該元件之阻障圍壁之製造方法,以及電漿顯示板用基板之製造方法失效
简体标题：形成阻障围壁用之树脂组成物,形成阻障围壁用之树脂组成物组件,使用该组件之阻障围壁之制造方法,以及等离子显示板用基板之制造方法
公开(公告)号：TW538090B
公开(公告)日：2003-06-21
申请号：TW089126171
申请日：2000-12-08
申请人：日立化成工業股份有限公司
发明人：野尻剛 , 田井誠司 , 佐佐木晶巿 , 川上廣幸 , 鈴木真理子 , 杉浦有美子
IPC分类号： C08L , C08K , H01J , C08J
摘要：本發明揭示一種由含玻璃轉移溫度(Tg)在30℃以下之黏結劑聚合物之有機材料及阻障圍壁用無機材料組成之阻障圍壁形成用樹脂組成物；一種阻障圍壁形成用樹脂組成物元件，係於支承膜上設置上述阻障圍壁形成用樹脂組成物層，更於其上設有保護膜而成者；一種阻障圍壁之製造法，其特徵包括於設有可予去除之浮雕圖樣之基板上，將上述阻障圍壁形成用樹脂組成物元件配置為與阻障圍壁形成用樹脂組成物層相接觸，於阻障圍壁形成用樹脂組成物層加壓，將阻障圍壁形成用樹脂組成物層積層於設有浮雕圖樣之基板上之後，將浮雕圖樣去除而得由阻障圍壁形成用樹脂組成物構成圖樣，將該圖樣焙燒而成者；一種介電材料及阻障圍壁形成用樹脂組成物元件，係於支承膜上設介電材料層，於上述介電材料層上設上述阻障圍壁形成用樹脂組成物而成者，一種電漿顯示面板用基板之製造方法，以及其特徵包括於有凹部之底材上，將上述介電材料以及阻障圍壁形成用樹脂組成物元件，使上述阻障圍壁形成用樹脂組成物能與上述具凹部之底材的凹部相接觸而積層後，去除支承膜，其次，於形成有圖樣狀電極之基板上，將該具凹部之底材、介電材料層以及阻障圍壁形成用樹脂組成物層所構成之積層體，使上述介電材料層能與上述基板相接觸而積層之後，去除具凹部之底材，形成對應於具凹部之底材的凹部之圖樣後，將介電材料及阻障圍壁形成用樹脂組成物之圖樣加以焙燒。
简体摘要：本发明揭示一种由含玻璃转移温度(Tg)在30℃以下之黏结剂聚合物之有机材料及阻障围壁用无机材料组成之阻障围壁形成用树脂组成物；一种阻障围壁形成用树脂组成物组件，系于支承膜上设置上述阻障围壁形成用树脂组成物层，更于其上设有保护膜而成者；一种阻障围壁之制造法，其特征包括于设有可予去除之浮雕图样之基板上，将上述阻障围壁形成用树脂组成物组件配置为与阻障围壁形成用树脂组成物层相接触，于阻障围壁形成用树脂组成物层加压，将阻障围壁形成用树脂组成物层积层于设有浮雕图样之基板上之后，将浮雕图样去除而得由阻障围壁形成用树脂组成物构成图样，将该图样焙烧而成者；一种介电材料及阻障围壁形成用树脂组成物组件，系于支承膜上设介电材料层，于上述介电材料层上设上述阻障围壁形成用树脂组成物而成者，一种等离子显示皮肤用基板之制造方法，以及其特征包括于有凹部之底材上，将上述介电材料以及阻障围壁形成用树脂组成物组件，使上述阻障围壁形成用树脂组成物能与上述具凹部之底材的凹部相接触而积层后，去除支承膜，其次，于形成有图样状电极之基板上，将该具凹部之底材、介电材料层以及阻障围壁形成用树脂组成物层所构成之积层体，使上述介电材料层能与上述基板相接触而积层之后，去除具凹部之底材，形成对应于具凹部之底材的凹部之图样后，将介电材料及阻障围壁形成用树脂组成物之图样加以焙烧。

5. 发明专利

TW460484B 螢光體圖型之製造方法、形成螢光體圖型用感光性構件、螢光體圖型及電漿顯示板用背面板失效
简体标题：萤光体图型之制造方法、形成萤光体图型用感光性构件、萤光体图型及等离子显示板用背皮肤
公开(公告)号：TW460484B
公开(公告)日：2001-10-21
申请号：TW087120363
申请日：1998-12-08
申请人：日立化成工業股份有限公司
发明人：佐藤和也 , 田仲裕之 , 野尻剛 , 田井誠司 , 川上廣幸 , 島村真理子 , 杉浦有美子
IPC分类号： C08F , C09K , H01J
摘要：本發明係提供一種螢光體圖型之製造方法，係被具有 P D P用基板等之凹凸之基板之阻隔層條壁面及基板底面所圍成之凹部內面整體可形成良率佳之均勻膜厚之螢光體圖型。
本發明之螢光體圖型之製造方法，其特徵係具有以下(I)~(I V)各步驟:
(I)具有凹凸之基板上依序形成(A)含有螢光體之感光性樹脂組成物層及(C)含有微粒子之樹脂層的步驟;
(I I)將活性光線照射於(C)含有微粒子之樹脂層及(A)含有螢光體之感光性樹脂組成物層的步驟;
(III)除去(C)含有微粒子之樹脂層，藉由顯影選擇性除去(A)含有螢光體之感光性樹脂組成物層，形成圖型的步驟;(I V)藉由燒結除去有機成分的步驟。
简体摘要：本发明系提供一种萤光体图型之制造方法，系被具有 P D P用基板等之凹凸之基板之阻隔层条壁面及基板底面所围成之凹部内面整体可形成良率佳之均匀膜厚之萤光体图型。本发明之萤光体图型之制造方法，其特征系具有以下(I)~(I V)各步骤: (I)具有凹凸之基板上依序形成(A)含有萤光体之感光性树脂组成物层及(C)含有微粒子之树脂层的步骤; (I I)将活性光线照射于(C)含有微粒子之树脂层及(A)含有萤光体之感光性树脂组成物层的步骤; (III)除去(C)含有微粒子之树脂层，借由显影选择性除去(A)含有萤光体之感光性树脂组成物层，形成图型的步骤;(I V)借由烧结除去有机成分的步骤。

6. 发明专利

TW226400B 塗覆用樹脂以及防污塗覆用組成物失效
简体标题：涂覆用树脂以及防污涂覆用组成物
公开(公告)号：TW226400B
公开(公告)日：1994-07-11
申请号：TW081110039
申请日：1992-12-15
申请人：日立化成工業股份有限公司
发明人：大土井千惠 , 田井誠司 , 田仲裕之 , 田鎖壽紀 , 森部勇
IPC分类号： C09D
摘要：本發明係關於塗覆用樹脂，其包含一聚合物，該聚合物係由通式（Ｉ）所示不飽和單體：□ (Ⅰ)式中，Ｒ示Ｈ或烷基，而Ｘ係選自：
CC ，
简体摘要：本发明系关于涂覆用树脂，其包含一聚合物，该聚合物系由通式（Ｉ）所示不饱和单体：□ (Ⅰ)式中，Ｒ示Ｈ或烷基，而Ｘ系选自： CC ，

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