专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201624528A 電漿處理裝置及電漿處理裝置之運轉方法审中-公开
简体标题：等离子处理设备及等离子处理设备之运转方法
公开(公告)号：TW201624528A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104142478
申请日：2015-12-17
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：大森健史 , OHMORI, TAKESHI , 佐藤大祐 , SATOU, DAISUKE , 臼井建人 , USUI, TATEHITO , 井上智己 , INOUE, SATOMI , 前田賢治 , MAEDA, KENJI
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32917 , H01J37/32926 , H01J37/32972 , H01J37/3299
摘要：本發明係一種電漿處理裝置及電漿處理裝置之運轉方法，其課題為提供使產率提升之電漿處理裝置。解決手段係使用加以形成於配置在真空容器內部之處理室內的電漿，處理加以配置於前述處理室內之晶圓的電漿裝置，其中，具備：加以配置於圍繞前述處理室周圍之前述真空容器之側壁，而透過自前述電漿的發光之一方的窗，和加以配置於夾持此一方的窗之處理室之另一方側，而透過自此處理室外部的光之另一方的窗，和加以配置於前述一方的窗之外部，接受自此一方的窗的光而進行檢出之受光部，和將自加以配置於前述另一方的窗之外部的前述外部的光之光源及加以配置於此光源與前述另一方的窗之間而將自前述光源的光，分歧為朝向前述處理室內的光路及朝向另外方向之光路之同時，將自前述另一方的窗之前述處理室內的光，更反射於其他方向之光分歧部，和加以傳達從此光分歧部通過前述處理室而在前述受光部加以受光的光和在前述光分歧部而分歧於其他方向的光及所反射的光而使用此等的光，檢出自在前述受光部而受光之前述電漿的發光之檢出部，經由依據該結果所調節之前述處理的條件而處理前述晶圓。
简体摘要：本发明系一种等离子处理设备及等离子处理设备之运转方法，其课题为提供使产率提升之等离子处理设备。解决手段系使用加以形成于配置在真空容器内部之处理室内的等离子，处理加以配置于前述处理室内之晶圆的等离子设备，其中，具备：加以配置于围绕前述处理室周围之前述真空容器之侧壁，而透过自前述等离子的发光之一方的窗，和加以配置于夹持此一方的窗之处理室之另一方侧，而透过自此处理室外部的光之另一方的窗，和加以配置于前述一方的窗之外部，接受自此一方的窗的光而进行检出之受光部，和将自加以配置于前述另一方的窗之外部的前述外部的光之光源及加以配置于此光源与前述另一方的窗之间而将自前述光源的光，分歧为朝向前述处理室内的光路及朝向另外方向之光路之同时，将自前述另一方的窗之前述处理室内的光，更反射于其他方向之光分歧部，和加以传达从此光分歧部通过前述处理室而在前述受光部加以受光的光和在前述光分歧部而分歧于其他方向的光及所反射的光而使用此等的光，检出自在前述受光部而受光之前述等离子的发光之检出部，经由依据该结果所调节之前述处理的条件而处理前述晶圆。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式