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2. 发明专利

TW201129477A 抗反射膜 ANTI-REFLECTION FILM 审中-公开
公开(公告)号：TW201129477A
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：TW100104862
申请日：2011-02-15
申请人：日油股份有限公司
发明人：長谷川卓司 , 疋田真也
IPC分类号： B32B , G02B , C08L , C08K
摘要：本發明之課題在於提供一種抗反射性能、抗靜電性能、耐熱性及耐擦傷性優異之單層構成的抗反射膜。本發明之抗反射膜係於透明基材膜上直接積層低折射率層而構成。該低折射率層，係含有(a)多官能(甲基)丙烯酸酯、(b)中空矽石微粒子及(c)由π共軛系導電性高分子與摻雜物構成之複合體之低折射率層用塗液之硬化物。該低折射率層用塗液中，每(a)多官能(甲基)丙烯酸酯100質量份，含有(b)中空矽石微粒子40～250質量份及(c)複合體1～25質量份，且(c)複合體中之π共軛系導電性高分子與摻雜物之質量比設定為1：1～1：5。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种抗反射性能、抗静电性能、耐热性及耐擦伤性优异之单层构成的抗反射膜。本发明之抗反射膜系于透明基材膜上直接积层低折射率层而构成。该低折射率层，系含有(a)多官能(甲基)丙烯酸酯、(b)中空硅石微粒子及(c)由π共轭系导电性高分子与掺杂物构成之复合体之低折射率层用涂液之硬化物。该低折射率层用涂液中，每(a)多官能(甲基)丙烯酸酯100质量份，含有(b)中空硅石微粒子40～250质量份及(c)复合体1～25质量份，且(c)复合体中之π共轭系导电性高分子与掺杂物之质量比设置为1：1～1：5。

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