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1. 发明专利

TWI408425B 偏光板、光學膜及圖像顯示裝置有权
简体标题：偏光板、光学膜及图像显示设备
公开(公告)号：TWI408425B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：TW097141075
申请日：2008-10-24
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION , 日本觸媒股份有限公司 , NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
发明人：塘口直樹 , TOMOGUCHI, NAOKI , 杉野洋一郎 , SUGINO, YOUICHIROU , 岩本展明 , IWAMOTO, NOBUAKI , 加藤惠 , KATOU, MEGUMI
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3033 , G02B1/105 , G02B1/14 , Y10T428/25

2. 发明专利

TW201310089A 偏光件之製造方法审中-公开
简体标题：偏光件之制造方法
公开(公告)号：TW201310089A
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW101126024
申请日：2012-07-19
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：尾入大介 , OGOMI, DAISUKE , 岩本展明 , IWAMOTO, NOBUAKI , 八重樫將寬 , YAEGASHI, MASAHIRO
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/30
摘要：本發明目的為提供一種傷痕、皺紋及線條少，且無摺痕之具有優良外觀之偏光件之製造方法。本發明係一種偏光件之製造方法，其係在聚乙烯醇系薄膜上，至少施加膨潤處理、染色處理及交聯處理，其特徵在於：前述膨潤處理係在處理浴中至少設置第1導輥及以滿足下述式(1)之方式設置第2導輥，且以延伸倍率1.6~2.4倍進行延伸之處理；前述第2導輥係彎曲度(弧高/輥面長)為0.01~0.1之擴寬輥；X/Y≧0.65 (1)(式中，X係聚乙烯醇系薄膜進入處理浴起至與第2導輥接觸為止的運送距離，Y係聚乙烯醇系薄膜進入處理浴起至離開處理浴為止的運送距離)。
简体摘要：本发明目的为提供一种伤痕、皱纹及线条少，且无折痕之具有优良外观之偏光件之制造方法。本发明系一种偏光件之制造方法，其系在聚乙烯醇系薄膜上，至少施加膨润处理、染色处理及交联处理，其特征在于：前述膨润处理系在处理浴中至少设置第1导辊及以满足下述式(1)之方式设置第2导辊，且以延伸倍率1.6~2.4倍进行延伸之处理；前述第2导辊系弯曲度(弧高/辊面长)为0.01~0.1之扩宽辊；X/Y≧0.65 (1)(式中，X系聚乙烯醇系薄膜进入处理浴起至与第2导辊接触为止的运送距离，Y系聚乙烯醇系薄膜进入处理浴起至离开处理浴为止的运送距离)。

3. 发明专利

TWI564599B 偏光板之製造方法有权
简体标题：偏光板之制造方法
公开(公告)号：TWI564599B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW102106773
申请日：2013-02-26
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：岩本展明 , IWAMOTO, NOBUAKI , 尾入大介 , OGOMI, DAISUKE , 中田美惠 , NAKATA, MIE
IPC分类号： G02B5/30 , B32B37/12

4. 发明专利

TWI561362B 多層積層薄膜的製造方法有权
简体标题：多层积层薄膜的制造方法
公开(公告)号：TWI561362B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW101100788
申请日：2012-01-09
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：中田美惠 , NAKTA, MIE , 岩本展明 , IWAMOTO, NOBUAKI , 竹田哲郎 , TAKEDA, TETSUROU , 藤田裕 , FUJITA, YUTAKA
IPC分类号： B29C43/30 , B29D11/00 , G02B5/30 , B29K29/00

5. 发明专利

TW201310088A 偏光件及其製造方法审中-公开
简体标题：偏光件及其制造方法
公开(公告)号：TW201310088A
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW101125534
申请日：2012-07-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：尾入大介 , OGOMI, DAISUKE , 岩本展明 , IWAMOTO, NOBUAKI , 宮崎司 , MIYAZAKI, TSUKASA , 池永曉惠 , IKENAGA, AKIE
IPC分类号： G02B5/30
摘要：本發明之目的在於提供一種兼具高透光率及高偏光度，即白亮度及顯示對比高之偏光件及其製造方法。本發明之偏光件之製造方法係在聚乙烯醇系薄膜上，至少實施膨潤步驟、染色步驟、交聯步驟及延伸步驟者，其特徵在於：其係在前述膨潤步驟中，藉由將聚乙烯醇系薄膜延伸1.4~2.4倍，而將聚乙烯醇系薄膜之結晶度控制在25~32%。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种兼具高透光率及高偏光度，即白亮度及显示对比高之偏光件及其制造方法。本发明之偏光件之制造方法系在聚乙烯醇系薄膜上，至少实施膨润步骤、染色步骤、交联步骤及延伸步骤者，其特征在于：其系在前述膨润步骤中，借由将聚乙烯醇系薄膜延伸1.4~2.4倍，而将聚乙烯醇系薄膜之结晶度控制在25~32%。

6. 发明专利

TWI565975B 偏光件及其製造方法有权
简体标题：偏光件及其制造方法
公开(公告)号：TWI565975B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：TW101125534
申请日：2012-07-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：尾入大介 , OGOMI, DAISUKE , 岩本展明 , IWAMOTO, NOBUAKI , 宮崎司 , MIYAZAKI, TSUKASA , 池永曉惠 , IKENAGA, AKIE
IPC分类号： G02B5/30

7. 发明专利

TWI561859B 偏光件之製造方法有权
简体标题：偏光件之制造方法
公开(公告)号：TWI561859B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW101126024
申请日：2012-07-19
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：尾入大介 , OGOMI, DAISUKE , 岩本展明 , IWAMOTO, NOBUAKI , 八重樫將寬 , YAEGASHI, MASAHIRO
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/30

8. 发明专利

TW201337351A 偏光板之製造方法审中-公开
简体标题：偏光板之制造方法
公开(公告)号：TW201337351A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW102106773
申请日：2013-02-26
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：岩本展明 , IWAMOTO, NOBUAKI , 尾入大介 , OGOMI, DAISUKE , 中田美惠 , NAKATA, MIE
IPC分类号： G02B5/30 , B32B37/12
摘要：本發明提供一種即便第1透明保護膜與第2透明保護膜的尺寸變化率之差較大之情形時亦可抑制捲曲的偏光板之製造方法。本發明之偏光板之製造方法係於偏光元件之一面經由接著劑貼合第1透明保護膜，於另一面經由接著劑貼合第2透明保護膜而製造長條之偏光板之方法，且將第1透明保護膜之尺寸變化率(%)設為L1、第2透明保護膜之尺寸變化率設為L2(%)時之差(L1-L2)之絕對值滿足0.10以上，在偏光元件之寬度方向上自偏光元件之端部朝向外側存在之接著劑之寬度w(mm)滿足0≦w≦75。
简体摘要：本发明提供一种即便第1透明保护膜与第2透明保护膜的尺寸变化率之差较大之情形时亦可抑制卷曲的偏光板之制造方法。本发明之偏光板之制造方法系于偏光组件之一面经由接着剂贴合第1透明保护膜，于另一面经由接着剂贴合第2透明保护膜而制造长条之偏光板之方法，且将第1透明保护膜之尺寸变化率(%)设为L1、第2透明保护膜之尺寸变化率设为L2(%)时之差(L1-L2)之绝对值满足0.10以上，在偏光组件之宽度方向上自偏光组件之端部朝向外侧存在之接着剂之宽度w(mm)满足0≦w≦75。

9. 发明专利

TW201302476A 積層薄膜之製造方法审中-公开
简体标题：积层薄膜之制造方法
公开(公告)号：TW201302476A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101114520
申请日：2012-04-24
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：岩本展明 , IWAMOTO, NOBUAKI , 中田美惠 , NAKATA, MIE , 竹田哲郎 , TAKEDA, TETSUROU
IPC分类号： B32B37/12 , G02B5/30
摘要：本發明之目的在於提供一種可在透過接著劑黏合樹脂薄膜與透明薄膜時，防止金屬異物混入之積層薄膜之製造方法。本發明係有關於使樹脂薄膜與透明薄膜通過一對軋輥且透過接著劑黏合之積層薄膜之製造方法；其特徵在於：其於接著劑積存部設有磁鐵，且該接著劑積存部係設於軋輥之薄膜送入口且設於樹脂薄膜與透明薄膜之間。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种可在透过接着剂黏合树脂薄膜与透明薄膜时，防止金属异物混入之积层薄膜之制造方法。本发明系有关于使树脂薄膜与透明薄膜通过一对轧辊且透过接着剂黏合之积层薄膜之制造方法；其特征在于：其于接着剂积存部设有磁铁，且该接着剂积存部系设于轧辊之薄膜送入口且设于树脂薄膜与透明薄膜之间。

10. 发明专利

TW201245776A 偏光板的製造方法审中-公开
简体标题：偏光板的制造方法
公开(公告)号：TW201245776A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101100787
申请日：2012-01-09
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：中田美惠 , 岩本展明 , 竹田哲郎
IPC分类号： G02B , G02F , B32B
CPC分类号： B32B38/0008 , B32B37/12 , B32B2038/166 , B32B2309/02 , B32B2309/04 , B32B2309/105 , B32B2457/20 , B32B2551/00 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/3033
摘要：本發明之目的在於提供一種沒有凹陷、異物、或裂痕之外觀缺陷、且可使偏光元件與環烯烴系樹脂薄膜之接著力提升之偏光板的製造方法。本發明之偏光板的製造方法包含以下步驟：以輸出強度0.9~2.5kW，對環烯烴系樹脂薄膜中要設置偏光元件之面施行電暈放電處理之步驟；將已施行電暈放電處理之環烯烴系樹脂薄膜予以水洗之步驟；及藉由接著劑黏貼偏光元件與環烯烴系樹脂薄膜之步驟。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种没有凹陷、异物、或裂痕之外观缺陷、且可使偏光组件与环烯烃系树脂薄膜之接着力提升之偏光板的制造方法。本发明之偏光板的制造方法包含以下步骤：以输出强度0.9~2.5kW，对环烯烃系树脂薄膜中要设置偏光组件之面施行电晕放电处理之步骤；将已施行电晕放电处理之环烯烃系树脂薄膜予以水洗之步骤；及借由接着剂黏贴偏光组件与环烯烃系树脂薄膜之步骤。

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