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1. 发明专利

TW201819661A 多層膜之成膜方法审中-公开
简体标题：多层膜之成膜方法
公开(公告)号：TW201819661A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106118813
申请日：2017-06-07
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：首藤俊介 , SHUTO, SHUNSUKE , 佐木暁 , SAKI, SATORU
IPC分类号： C23C14/54 , C23C14/56 , B32B37/00
摘要：本發明於使構成多層膜之各層隔開時間間隔地逐層積層之多層膜之成膜方法中，實現不浪費材料與時間之各層之膜厚修正。本發明之多層膜之成膜方法包含以下步驟：設定各層之膜厚之目標值(目標膜厚值)；求出成膜後之多層膜6之各層之推定膜厚(推定膜厚值)；求出用以使各層之目標膜厚值與推定膜厚值之差最小化之各層之成膜參數變更量；及隔開時間間隔，使各層之成膜參數以各層之成膜參數變更量依次變更。
简体摘要：本发明于使构成多层膜之各层隔开时间间隔地逐层积层之多层膜之成膜方法中，实现不浪费材料与时间之各层之膜厚修正。本发明之多层膜之成膜方法包含以下步骤：设置各层之膜厚之目标值(目标膜厚值)；求出成膜后之多层膜6之各层之推定膜厚(推定膜厚值)；求出用以使各层之目标膜厚值与推定膜厚值之差最小化之各层之成膜参数变更量；及隔开时间间隔，使各层之成膜参数以各层之成膜参数变更量依次变更。

2. 发明专利

TWI610798B 偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置有权
简体标题：偏光薄膜及其制造方法、光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TWI610798B
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：TW103110308
申请日：2014-03-19
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：齊藤武士 , SAITO, TAKESHI , 品川雅 , SHINAGAWA, MASASHI , 池田哲朗 , IKEDA, TETSUROU , 山崎達也 , YAMASAKI, TATSUYA , 大峰俊樹 , OOMINE, TOSHIKI , 首藤俊介 , SHUTO, SHUNSUKE , 國島健太郎 , KUNISHIMA, KENTAROU , 土永誠 , TSUCHINAGA, MAKOTO
IPC分类号： B29C65/14 , B32B37/12 , G02B5/30 , C09J133/10 , B29L7/00
CPC分类号： B32B27/30 , B32B7/12 , B32B27/06 , B32B2307/412 , B32B2307/42 , G02B5/3033

3. 发明专利

TWI485466B 液晶顯示裝置有权
简体标题：液晶显示设备
公开(公告)号：TWI485466B
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW099109125
申请日：2010-03-26
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI , 首藤俊介 , SHUTO, SHUNSUKE , 淵田岳仁 , FUCHIDA, TAKEHITO
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： G02B3/005 , G02B5/003 , G02B5/3033 , G02F1/133504 , G02F1/133524

4. 发明专利

TWI684513B 偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置有权
简体标题：偏光薄膜及其制造方法、光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TWI684513B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW106140141
申请日：2014-03-19
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：齊藤武士 , SAITO, TAKESHI , 品川雅 , SHINAGAWA, MASASHI , 池田哲朗 , IKEDA, TETSUROU , 山崎達也 , YAMASAKI, TATSUYA , 大峰俊樹 , OOMINE, TOSHIKI , 首藤俊介 , SHUTO, SHUNSUKE , 國島健太郎 , KUNISHIMA, KENTAROU , 土永誠 , TSUCHINAGA, MAKOTO
IPC分类号： B29C65/14 , B32B37/12 , G02B5/30 , C09J133/10 , B29L7/00

5. 发明专利

TW201822995A 偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：偏光薄膜及其制造方法、光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TW201822995A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106140141
申请日：2014-03-19
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：齊藤武士 , SAITO, TAKESHI , 品川雅 , SHINAGAWA, MASASHI , 池田哲朗 , IKEDA, TETSUROU , 山崎達也 , YAMASAKI, TATSUYA , 大峰俊樹 , OOMINE, TOSHIKI , 首藤俊介 , SHUTO, SHUNSUKE , 國島健太郎 , KUNISHIMA, KENTAROU , 土永誠 , TSUCHINAGA, MAKOTO
IPC分类号： B29C65/14 , B32B37/12 , G02B5/30 , C09J133/10 , B29L7/00
摘要：本發明提供一種能夠提高偏光件和透明保護薄膜間之膠黏劑層之黏接性能、並且能夠防止偏光薄膜捲曲之偏光薄膜的製造方法。前述偏光薄膜的製造方法包含如下步驟：塗敷步驟，其在偏光件、第1透明保護薄膜、或第2透明保護薄膜的至少一面塗敷活性能量射線固化型膠黏劑組成物；貼合步驟，其將偏光件及第1透明保護薄膜、以及偏光件及第2透明保護薄膜貼合；及黏接步驟，其首先從第1透明保護薄膜側照射活性能量射線、然後從第2透明保護薄膜側照射活性能量射線從而使活性能量射線固化型膠黏劑組成物固化而得到膠黏劑層，透過該膠黏劑層使偏光件及第1透明保護薄膜、以及偏光件及第2透明保護薄膜黏接。
简体摘要：本发明提供一种能够提高偏光件和透明保护薄膜间之胶黏剂层之黏接性能、并且能够防止偏光薄膜卷曲之偏光薄膜的制造方法。前述偏光薄膜的制造方法包含如下步骤：涂敷步骤，其在偏光件、第1透明保护薄膜、或第2透明保护薄膜的至少一面涂敷活性能量射线固化型胶黏剂组成物；贴合步骤，其将偏光件及第1透明保护薄膜、以及偏光件及第2透明保护薄膜贴合；及黏接步骤，其首先从第1透明保护薄膜侧照射活性能量射线、然后从第2透明保护薄膜侧照射活性能量射线从而使活性能量射线固化型胶黏剂组成物固化而得到胶黏剂层，透过该胶黏剂层使偏光件及第1透明保护薄膜、以及偏光件及第2透明保护薄膜黏接。

6. 发明专利

TW201802275A 光學膜之製造方法审中-公开
简体标题：光学膜之制造方法
公开(公告)号：TW201802275A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106118815
申请日：2017-06-07
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：首藤俊介 , SHUTO, SHUNSUKE , 佐木暁 , SAKI, SATORU
IPC分类号： C23C14/34 , G02B5/26
摘要：本發明係於在膜基材上形成多層光學薄膜之光學膜之製造之預備成膜中，藉由對複數個濺鍍室同時通電而於膜基材上成膜2個以上之異種材料之薄膜之積層體，並根據利用設置於濺鍍裝置內之光學測定部(80)獲得之光學特性算出複數個薄膜之膜厚。重複進行膜厚之測定及薄膜之成膜條件之調整直至利用光學測定部獲得之光學特性或根據光學特性算出之複數個薄膜之膜厚成為特定範圍內為止。
简体摘要：本发明系于在膜基材上形成多层光学薄膜之光学膜之制造之预备成膜中，借由对复数个溅镀室同时通电而于膜基材上成膜2个以上之异种材料之薄膜之积层体，并根据利用设置于溅镀设备内之光学测定部(80)获得之光学特性算出复数个薄膜之膜厚。重复进行膜厚之测定及薄膜之成膜条件之调整直至利用光学测定部获得之光学特性或根据光学特性算出之复数个薄膜之膜厚成为特定范围内为止。

7. 发明专利

TWI514017B 光學積層體及液晶顯示裝置有权
简体标题：光学积层体及液晶显示设备
公开(公告)号：TWI514017B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW100139106
申请日：2011-10-27
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：首藤俊介 , SHUTOU, SHUNSUKE , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363
CPC分类号： G02F1/133528 , G02B5/3033 , G02F1/133526 , G02F2001/133538 , G02F2001/133631

8. 发明专利

TWI468742B 光擴散元件、附光擴散元件之偏光板、偏光元件、及使用其之液晶顯示裝置有权
简体标题：光扩散组件、附光扩散组件之偏光板、偏光组件、及使用其之液晶显示设备
公开(公告)号：TWI468742B
公开(公告)日：2015-01-11
申请号：TW100133555
申请日：2011-09-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：西村明憲 , NISHIMURA, AKINORI , 中村恒三 , NAKAMURA, KOZO , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI , 淵田岳仁 , FUCHIDA, TAKEHITO , 山形一斗 , YAMAGATA, KAZUTO , 首藤俊介 , SHUTOU, SHUNSUKE , 瀧田智仁 , TAKITA, TOMOHITO
IPC分类号： G02B5/02 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/0294 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02F1/13338 , G02F1/133504 , G09F13/0409

9. 发明专利

TW201802270A 多層膜之成膜方法审中-公开
简体标题：多层膜之成膜方法
公开(公告)号：TW201802270A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106118814
申请日：2017-06-07
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：佐木暁 , SAKI, SATORU , 首藤俊介 , SHUTO, SHUNSUKE
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/34 , H01B13/00
CPC分类号： C23C14/54 , G01B11/06 , G02B1/115 , G02B5/08
摘要：本發明之課題在於精度良好地推定多層膜之各層之膜厚。設定各層之目標膜厚值。求出各層為目標膜厚值時之第1理論光學值。測定多層膜6之實測光學值。將目標膜厚值設為各層之膜厚之第1推定膜厚值。求出實測光學值與第1理論光學值之差(第1光學值差)，將第1光學值差與預先設定之收斂條件進行比較。於第1光學值差不滿足收斂條件之情形時，設定預測小於第1光學值差之光學值差之各層之第2推定膜厚值。求出各層之膜厚為第2推定膜厚值時之光學特性之理論值(第2理論光學值)。求出實測光學值與第2理論光學值之差(第2光學值差)，將第2光學值差與收斂條件進行比較。反覆進行各步驟，獲得實測光學值與各步驟之理論光學值之差滿足收斂條件之各層之推定膜厚值(最準確推定膜厚值)。
简体摘要：本发明之课题在于精度良好地推定多层膜之各层之膜厚。设置各层之目标膜厚值。求出各层为目标膜厚值时之第1理论光学值。测定多层膜6之实测光学值。将目标膜厚值设为各层之膜厚之第1推定膜厚值。求出实测光学值与第1理论光学值之差(第1光学值差)，将第1光学值差与预先设置之收敛条件进行比较。于第1光学值差不满足收敛条件之情形时，设置预测小于第1光学值差之光学值差之各层之第2推定膜厚值。求出各层之膜厚为第2推定膜厚值时之光学特性之理论值(第2理论光学值)。求出实测光学值与第2理论光学值之差(第2光学值差)，将第2光学值差与收敛条件进行比较。反复进行各步骤，获得实测光学值与各步骤之理论光学值之差满足收敛条件之各层之推定膜厚值(最准确推定膜厚值)。

10. 发明专利

TWI509322B 液晶顯示裝置有权
简体标题：液晶显示设备
公开(公告)号：TWI509322B
公开(公告)日：2015-11-21
申请号：TW099141588
申请日：2010-11-30
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：西村明憲 , NISHIMURA, AKINORI , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI , 淵田岳仁 , FUCHIDA, TAKEHITO , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU , 首藤俊介 , SHUTOU, SHUNSUKE
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/13357 , G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/133606 , G02F1/133504 , G02F2001/133607

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