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1. 发明专利

TW200419198A 相位差薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：相位差薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW200419198A
公开(公告)日：2004-10-01
申请号：TW093101714
申请日：2004-01-27
申请人：日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
发明人：首藤俊介 SHUTO, SHUNSUKE , 小林弘明 , 松永卓也
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/3016
摘要：提供一種相位差層之配向方向受到高精度控制、且製造成本低之相位差薄膜及其製造方法。參照圖1做說明。首先，準備一於透明基材10上積層著光學異向性層11之附基材之光學異向性層12。其次，於光學異向性層11上塗佈溶液(含有液晶性化合物以及會和偏光紫外線反應之聚合物)後加以乾燥。接著照射偏光紫外線使得該液晶性化合物進行配向，進而依必要性照射非偏光紫外線使得該液晶性化合物交聯，以製作出於光學異向性層11上直接形成了相位差層13之相位差薄膜1。
简体摘要：提供一种相位差层之配向方向受到高精度控制、且制造成本低之相位差薄膜及其制造方法。参照图1做说明。首先，准备一于透明基材10上积层着光学异向性层11之附基材之光学异向性层12。其次，于光学异向性层11上涂布溶液(含有液晶性化合物以及会和偏光紫外线反应之聚合物)后加以干燥。接着照射偏光紫外线使得该液晶性化合物进行配向，进而依必要性照射非偏光紫外线使得该液晶性化合物交联，以制作出于光学异向性层11上直接形成了相位差层13之相位差薄膜1。

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